1.一种电化学装置，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，
3.根据权利要求2所述的电化学装置，其中，所述第二活性材料包括硅，所述第一电压范围为不大于3.5v，所述第二电压范围为大于3.5v。
4.根据权利要求2所述的电化学装置，其中，所述电化学装置：在第四时间段执行如下操作中的至少一个：
5.根据权利要求4所述的电化学装置，其中，所述第一时间段、所述第二时间段、所述第三时间段和所述第四时间段按时间顺序依次排列。
6.根据权利要求5所述的电化学装置，其中，所述电化学装置在不同的时间段运行时，所述电化学装置的健康状态参数位于不同的取值范围。
7.根据权利要求6所述的电化学装置，其中，所述健康状态参数包括如下各项中的至少一个：
8.根据权利要求7所述的电化学装置，其中，所述健康状态参数为所述电化学装置与所述壳体之间的压强；
9.根据权利要求8所述的电化学装置，其中，所述第一阈值大于或等于0.03mpa，所述第二阈值小于0.5mpa，所述第三阈值大于或等于0.5mpa，所述第二阈值大于所述第一阈值。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的电化学装置，其中，所述第二活性材料包括硅，所述负极活性材料中硅的质量占比位于(0％,60％]范围内。
11.根据权利要求10所述的电化学装置，其中，所述负极活性材料中硅的质量占比位于[10％,30％]范围内。
12.一种电化学装置控制方法，用于对电化学装置的充放电过程进行控制，所述电化学装置的负极活性材料包括第一活性材料和第二活性材料，所述第一活性材料的克容量小于所述第二活性材料，所述第一活性材料的放电工作电压范围包括不大于所述第二活性材料的放电工作电压上限的第一电压范围，所述电化学装置控制方法包括：
13.根据权利要求12所述的电化学装置控制方法，其中，所述第一活性材料的放电工作电压范围包括大于所述第二活性材料的放电工作电压上限的第二电压范围，所述电化学装置控制方法还包括：
14.根据权利要求13所述的电化学装置控制方法，其中，所述电化学装置控制方法还包括：
15.根据权利要求14所述的电化学装置控制方法，其中，所述第一时间段、所述第二时间段、所述第三时间段和所述第四时间段在所述电化学装置的生命周期中按时间顺序依次排列。
16.根据权利要求15所述的电化学装置控制方法，其中，所述电化学装置控制方法还包括：
17.根据权利要求16所述的电化学装置控制方法，其中，所述健康状态参数包括如下各项中的至少一个：
18.根据权利要求12-17中任一项所述的电化学装置控制方法，其中，所述第二活性材料包括硅，所述负极活性材料中硅的质量占比位于(0％,60％]范围内。
19.根据权利要求18所述的电化学装置控制方法，其中，所述负极活性材料中硅的质量占比位于[10％,30％]范围内。
20.一种电化学装置管理系统，所述电化学装置管理系统与电化学装置连接，所述电化学装置管理系统用于执行如权利要求12-19中任一项所述的电化学装置控制方法。
21.一种电子设备，包括如权利要求1-11中任一项所述的电化学装置或如权利要求20所述的电化学装置管理系统。
22.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求12-19中任一项所述的电化学装置控制方法。