映射装置和映射方法与流程

本公开的一些实施例的方面涉及能够应用于大型设备的映射装置和使用该映射装置的映射方法。

背景技术：

1、通常，发光显示装置包括多个像素和提供在每个像素中的发光元件。发光元件包括位于两个电极之间的发光层。掩模可以用于将发光层沉积在工作基底上。在这种情况下，确保掩模张力焊接机的绝对坐标值可以是有用的，以最小化或减小掩模的工艺分散(process dispersion)。

2、在本背景技术部分中公开的以上信息仅用于增强对背景的理解，并且因此在本背景技术部分中讨论的信息未必构成现有技术。

技术实现思路

1、本公开的一些实施例的方面包括能够应用于大型设备的映射装置(mappingdevice)。

2、本公开的一些实施例的方面包括使用能够应用于大型设备的映射装置的映射方法。

3、本发明构思的一些实施例的方面包括一种映射装置，包括：基底，雕刻有对准图案；静电吸盘，在基底下面，并且与基底接触；以及防分离框架，在基底上，并且防止或减少基底分离。

4、根据一些实施例，防分离框架包括：第一框架，与基底的中心部分重叠，并且在第一方向上延伸；以及第二框架，与基底的中心部分重叠，并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸。

5、根据一些实施例，防分离框架还包括与基底的顶点重叠的第三框架。

6、根据一些实施例，映射装置还包括主框架，主框架在静电吸盘下面并且支撑基底和静电吸盘。

7、根据一些实施例，主框架包括：底部部分；多个侧壁部分，从主框架的底部部分向上突出；多个水平框架，连接到多个侧壁部分之中的彼此面对的两个侧壁部分，在第一方向上延伸，并且在第二方向上彼此间隔开；以及多个竖直框架，连接到多个侧壁部分之中的彼此面对的另外两个侧壁部分，在第二方向上延伸，并且在第一方向上彼此间隔开。

8、根据一些实施例，映射装置还包括：电源单元，在静电吸盘下面；以及高电压电源单元，在静电吸盘下面，并且将从电源单元提供的电压转换为高电压。

9、根据一些实施例，电源单元和高电压电源单元中的每一者不与水平框架和竖直框架重叠。

10、根据一些实施例，第一框架、第二框架和第三框架中的每一者在基底和主框架的多个侧壁部分上，并且覆盖基底的上表面的一部分、基底的侧表面的一部分和静电吸盘的侧表面的一部分。

11、根据一些实施例，对准图案包括水平网格线和竖直网格线。

12、根据一些实施例，对准图案为网格图案。

13、根据一些实施例，基底为玻璃基底。

14、本发明构思的一些实施例的方面包括一种映射方法，包括：将雕刻有对准图案的映射装置放置在包括在第一方向上延伸的第一轴和成像单元的设备上；允许成像单元扫描设备上的映射装置；以及校正设备上的坐标。映射装置包括：基底，雕刻有对准图案；静电吸盘，在基底下面，并且与基底接触；以及防分离框架，在基底上，并且防止基底分离。

15、根据一些实施例，设备还包括第二轴，并且第二轴在所述第一方向上延伸，并且在与第一方向交叉的第二方向上与第一轴间隔开。

16、根据一些实施例，成像单元包括：第一成像单元，在第一轴上；以及第二成像单元，在第二轴上，并且第一成像单元和第二成像单元在第二方向上彼此间隔开。

17、根据一些实施例，第一轴和第二轴在第二方向上移动，并且第一成像单元和第二成像单元在第一方向上移动。

18、根据一些实施例，设备具有等于或大于1850mm(或大约1850mm)的水平长度和等于或大于1500mm(或大约1500mm)的竖直长度。

19、根据一些实施例，映射装置的放置包括允许基底的雕刻有对准图案的上表面与重力方向基本平行。

20、根据一些实施例，映射装置的放置包括允许基底的雕刻有对准图案的上表面与重力方向交叉。

21、根据一些实施例，设备上的坐标的校正包括通过对准图案和成像单元的中心标记之间的距离来补偿坐标。

22、根据一些实施例，防分离框架包括：第一框架，与基底的中心部分重叠，并且在第一方向上延伸；第二框架，与基底的中心部分重叠，并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第三框架，与基底的顶点重叠。

23、根据本公开的一些实施例，包括在映射装置中的基底包括能够以相对大尺寸制造的单个玻璃基底。根据一些实施例，可以使用包括单个基底的映射装置执行映射工艺，并且在具有大尺寸的设备上执行映射工艺。根据一些实施例，当与使用多个基底执行的映射操作相比时，改善了设备的精度，并且减少或消除了工艺分散的发生。因此，可以提高生产设备效率。

24、此外，根据一些实施例的映射装置包括静电吸盘以及在静电吸盘和防分离框架之间的基底。防分离框架在基底上，静电吸盘在基底下面以使用静电力固定基底，并且因此可以防止或减少基底的移动、掉落和/或分离。因此，尽管映射装置被水平或竖直地使用，但是可以防止或减少基底的移动、掉落和/或分离。

1.一种映射装置，其中，所述映射装置包括：

2.根据权利要求1所述的映射装置，其中，所述防分离框架包括：

3.根据权利要求2所述的映射装置，其中，所述防分离框架还包括与所述基底的顶点重叠的第三框架。

4.根据权利要求3所述的映射装置，其中，所述映射装置还包括主框架，所述主框架在所述静电吸盘下面并且支撑所述基底和所述静电吸盘。

5.根据权利要求4所述的映射装置，其中，所述主框架包括：

6.根据权利要求5所述的映射装置，其中，所述映射装置还包括：

7.根据权利要求6所述的映射装置，其中，所述电源单元和所述高电压电源单元中的每一者不与所述水平框架和所述竖直框架重叠。

8.根据权利要求5所述的映射装置，其中，所述第一框架、所述第二框架和所述第三框架中的每一者在所述基底和所述主框架的所述多个侧壁部分上，并且覆盖所述基底的上表面的一部分、所述基底的侧表面的一部分和所述静电吸盘的侧表面的一部分。

9.根据权利要求1所述的映射装置，其中，所述对准图案包括水平网格线和竖直网格线。

10.根据权利要求1所述的映射装置，其中，所述对准图案为网格图案。

11.根据权利要求1所述的映射装置，其中，所述基底为玻璃基底。

12.一种映射方法，其中，所述映射方法包括：

13.根据权利要求12所述的映射方法，其中，所述设备还包括第二轴，并且所述第二轴在所述第一方向上延伸，并且在与所述第一方向交叉的第二方向上与所述第一轴间隔开。

14.根据权利要求13所述的映射方法，其中，所述成像单元包括：

15.根据权利要求14所述的映射方法，其中，所述第一轴和所述第二轴在所述第二方向上移动，并且所述第一成像单元和所述第二成像单元在所述第一方向上移动。

16.根据权利要求12所述的映射方法，其中，所述设备具有等于或大于1850mm的水平长度和等于或大于1500mm的竖直长度。

17.根据权利要求12所述的映射方法，其中，所述映射装置的所述放置包括允许所述基底的雕刻有所述对准图案的上表面与重力方向平行。

18.根据权利要求12所述的映射方法，其中，所述映射装置的所述放置包括允许所述基底的雕刻有所述对准图案的上表面与重力方向交叉。

19.根据权利要求12所述的映射方法，其中，所述设备上的所述坐标的所述校正包括通过所述对准图案和所述成像单元的中心标记之间的距离来补偿所述坐标。

20.根据权利要求12所述的映射方法，其中，所述防分离框架包括：