1.一种基板处理装置,其连续进行一并处理多张基板的分批处理和逐张处理基板的单片处理,其特征在于,
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
4.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
5.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
7.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
8.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
9.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
10.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,
11.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,