用于在X射线管中产生真空的系统和方法与流程

本文所公开的主题的实施方案涉及用于x射线管组件的系统和用于组装x射线管组件的方法。

背景技术：

1、x射线管组件包括x射线管插入件中的真空环境。在x射线管组件的制造期间产生真空环境。使用从x射线管插入件延伸的真空管产生真空环境。真空管被固定到x射线管插入件的开口的表面，并且在x射线管插入件在制造期间达到真空状态之后被夹断。然而，这可能导致铜材料的大量浪费和/或可能使x射线管组件的修理或翻新困难。

技术实现思路

1、本
技术实现要素：
介绍了在具体实施方式中更详细描述的概念。其不应当用于确定要求保护的主题的基本特征，也不应当用于限制要求保护的主题的范围。

2、在一个方面中，一种用于产生真空环境的设备包括真空管，该真空管具有第一端和第二端；插座，该插座耦接到该真空管的该第一端；和适配器，该适配器耦接到该真空管的该第二端。

3、在一个方面中，一种制造x射线管的方法包括：将真空管的第一端钎焊到插座；使用该插座将该真空管附接到阳极的基部；将适配器附接到该真空管的第二端；使用耦接到该适配器的真空泵在该真空管和阳极中产生真空环境；以及邻近该真空管的该第二端将该真空管夹断以密封该真空环境。

4、在一个方面中，提供了一种用于在x射线管的x射线管插入件中产生真空的系统，该系统包括：x射线管插入件；真空管，该真空管具有第一端和第二端，该第一端耦接到x射线管插入件；插座，该插座用于将该真空管的该第一端耦接到该x射线管插入件；延伸管，该真空管的该第二端耦接到该延伸管；适配器，该适配器用于将该真空管的该第二端耦接到该延伸管；和真空泵，该真空泵用于在该x射线管插入件中产生该真空，该真空泵耦接到该延伸管。

5、在一个方面中，提供了一种在x射线管插入件内产生真空的方法，该方法包括：将真空管的第一端附接到插座；将该插座附接到该x射线管插入件的支撑板；将该适配器附接到该真空管的第二端；使用耦接到该适配器的真空泵在该x射线管插入件中产生真空环境；以及夹断该插座和该适配器之间的该真空管，以密封该真空环境。

6、在一个方面中，提供了一种x射线管，该x射线管包括：x射线管封壳；x射线管插入件，该x射线管插入件定位在该x射线管封壳内，该x射线管插入件包括阴极组件和阳极组件；支撑板，该支撑板耦接在该阴极组件和该阳极组件之间；真空管，该真空管耦接到该x射线管插入件的该支撑板，其中该x射线管插入件包括真空环境，并且其中该真空管被夹断或冷压以密封该x射线管插入件内的该真空环境。

技术特征：

1.一种用于在x射线管的x射线管插入件中产生真空的系统，所述系统包括：

2.根据权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括用于将所述真空泵耦接到所述延伸管的配件。

3.根据权利要求2所述的系统，所述系统进一步包括用于将所述真空泵耦接到所述配件的紧固件。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述延伸管熔焊到所述适配器。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述插座耦接到所述x射线管插入件的支撑板。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述真空管的所述第一端钎焊到所述插座。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述真空管的所述第二端钎焊到所述适配器。

8.一种在x射线管插入件内产生真空的方法，所述方法包括：

9.根据权利要求8所述的方法，所述方法进一步包括将延伸管附接到所述适配器。

10.根据权利要求8所述的方法，所述方法进一步包括将所述延伸管耦接到所述真空泵。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述延伸管使用配件和多个紧固件耦接到所述真空泵。

12.根据权利要求8所述的方法，其中所述插座熔焊到所述支撑板。

13.根据权利要求8所述的方法，其中所述真空管钎焊到所述支撑板。

14.根据权利要求8所述的方法，其中所述真空管钎焊到所述适配器。

15.一种x射线管，所述x射线管包括：

16.根据权利要求15所述的x射线管，其中所述真空管熔焊到所述x射线管插入件的所述支撑板。

17.根据权利要求15所述的x射线管，所述x射线管进一步包括耦接到所述支撑板的插座。

18.根据权利要求15所述的x射线管，其中所述真空管耦接到所述插座。

19.根据权利要求15所述的x射线管，其中所述插座熔焊到所述支撑板。

20.一种x射线成像，所述x射线成像包括根据权利要求15至19中任一项所述的x射线管。

技术总结
本文描述了X射线管系统和方法。一种用于在X射线管组件中产生真空环境的系统包括真空管，该真空管具有第一端和第二端，该真空管的该第一端熔焊到X射线管组件的支撑板，并且该真空管的该第二端被夹断或冷压以密封该X射线管组件的X射线管插入件内的真空环境。一种在X射线管组件内产生真空的方法包括：将真空管的第一端熔焊到该X射线管组件的支撑板；将该真空管的第二端耦接到真空泵；使用该真空泵在该X射线管组件中产生真空环境；以及夹断该真空管的该第二端该以密封该真空环境。

技术研发人员：R·R·达恩,埃文·M·兰普
受保护的技术使用者：通用电气精准医疗有限责任公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/7