晶圆目检机及其控制方法与流程

本公开涉及半导体制造，特别是涉及一种晶圆目检机及其控制方法。

背景技术：

1、随着半导体制程技术的飞速发展，芯片体积越来越小，功能越来越强，对于芯片制造的要求也越来越高。晶圆检测是芯片制造过程中必不可少的过程，通过对晶圆进行检测，以验证并改善工艺的质量，提高良率。

2、在半导体行业中，目视检测设备(目检机)是一种在特定光源下，观察晶圆缺陷的仪器，是一种无接触式晶圆检测手段。但是在进行晶圆检测前后，目检机闲置模式下容易在检测台沉积落尘，影响设备的使用寿命，甚至影响晶圆缺陷的检测。

技术实现思路

1、基于此，有必要针对上述背景技术中的问题，提供一种晶圆目检机及其控制方法，至少能够在晶圆目检机预设模式下，减少宏观检测平台的落尘，在目检机长时间处于闲置模式之后，宏观检测台的微尘含量仍在可控范围之内，提高目检机的使用寿命，检测晶圆更加精准。

2、为实现上述目的及其他目的，根据本公开的各种实施例，本公开的第一方面提供了一种晶圆目检机，包括本体柜、晶圆载台、传动装置、宏观检测台、空气过滤设备、第一排风设备、第二排风设备和主控器；晶圆载台用于承载待检测的晶圆；传动装置用于将从晶圆盒内取出的晶圆放置到晶圆载台上；宏观检测台位于本体柜内，用于对晶圆载台上的晶圆进行宏观检测；其中，传动装置还用于将宏观检测后的晶圆回收到晶圆盒内；空气过滤设备位于本体柜的顶盖上且位于宏观检测台的上方；第一排风设备位于本体柜的背离宏观检测台的背柜板上；第二排风设备位于本体柜的临近宏观检测台的侧柜板上；主控器与传动装置、宏观检测台、空气过滤设备、第一排风设备及第二排风设备均相连，用于在宏观检测台处于预设状态期间内控制空气过滤设备与第一排风设备及/或第二排风设备共同工作，至少对宏观检测台进行伯努利吹气清扫；预设状态包括工作状态及/或闲置状态。

3、在本公开的一个实施例中，上述晶圆目检机还包括第三排风设备，第三排风设备位于本体柜的背离第二排风设备的侧柜板上。

4、在本公开的一个实施例中，第三排风设备与第二排风设备面对面设置。

5、在本公开的一个实施例中，主控器被配置为执行如下动作中至少一个：

6、获取用于触发第一排风设备的第一排风启动指令，根据第一排风启动指令生成用于控制第一排风设备执行排风动作的第一排风启动命令；

7、获取用于触发第二排风设备的第二排风启动指令，根据第二排风启动指令生成用于控制第二排风设备执行排风动作的第二排风启动命令；

8、获取用于触发第三排风设备的第三排风启动指令，根据第三排风启动指令生成用于控制第三排风设备执行排风动作的第三排风启动命令；

9、获取用于触发空气过滤设备工作的空气过滤启动指令，根据空气过滤启动指令生成用于控制空气过滤设备执行空气过滤动作的空气过滤启动命令。

10、在本公开的一个实施例中，上述晶圆目检机还包括显示器，显示器与主控器连接，用于显示空气过滤设备、第一排风设备、第二排风设备及第三排风设备中至少一个的工作状态信息，工作状态信息包括驱动电压、当前工作时间及剩余工作时间中至少一个。

11、在本公开的一个实施例中，显示器还被配置为显示传动装置及/或宏观检测台的工作状态信息。

12、在本公开的一个实施例中，传动装置包括机械臂，机械臂与主控器连接，用于将从晶圆盒内取出的晶圆放置到晶圆载台上；主控器还被配置为：获取用于触发机械臂动作的第一传动启动指令，根据第一传动启动指令生成用于控制机械臂执行晶圆传动动作的第一传动启动命令。

13、在本公开的一个实施例中，上述晶圆目检机还包括比例调节阀，比例调节阀设置于空气过滤设备上，与主控器连接，主控器还被配置为：获取吹气增强指令，根据吹气增强指令生成吹气增强命令，吹气增强命令用于控制比例调节阀增大开阀量以增强空气过滤设备的吹气强度；或获取吹气减弱指令，根据吹气减弱指令生成吹气减弱命令，吹气减弱命令用于控制比例调节阀减小开阀量以减弱空气过滤设备的吹气强度。

14、上述实施例中的晶圆目检机，包括本体柜、晶圆载台、传动装置、宏观检测台、空气过滤设备、第一排风设备、第二排风设备、第三排风设备、主控器、显示器以及比例调节阀；晶圆载台用于承载待检测的晶圆；传动装置通过机械臂将从晶圆盒内取出的晶圆放置到晶圆载台上；通过位于本体柜内的宏观检测台对晶圆载台上的晶圆进行宏观检测；其中，传动装置还通过机械臂将宏观检测后的晶圆回收到晶圆盒内；空气过滤设备位于本体柜的顶盖上且位于宏观检测台的上方；第一排风设备位于本体柜的背离宏观检测台的背柜板上；第二排风设备位于本体柜的临近宏观检测台的侧柜板上；第三排风设备位于本体柜的背离第二排风设备的侧柜板上；通过与传动装置、宏观检测台、空气过滤设备、第一排风设备及第二排风设备均相连的主控器，在宏观检测台处于预设状态期间内控制空气过滤设备与第一排风设备、第二排风设备及/或第三排风设备共同工作，至少对宏观检测台进行伯努利吹气清扫；预设状态包括工作状态及/或闲置状态；通过与主控器相连的显示器，显示空气过滤设备、第一排风设备、第二排风设备及第三排风设备中至少一个的工作状态信息，工作状态信息包括驱动电压、当前工作时间及剩余工作时间中至少一个；通过比例调节阀调节空气过滤设备的吹气强度。目前相关晶圆目检机在进行晶圆检测前后，容易在检测台沉积落尘，通过目检机中相关清洁装置对检测台的落尘进行处理，无法达到有效清洁的目的，并且在目检机闲置状态下，无法对检测台沉积的微尘进行处理，从而影响设备的使用寿命，甚至影响晶圆缺陷的检测。本公开实施例中提供的晶圆目检机，通过机械臂对带检测晶圆进行拿取放回操作，避免人工拿取晶圆造成晶圆损伤的风险，通过主控器控制第一排风设备、第二排风设备和第三排风设备工作，至少对宏观检测台进行伯努利吹气清扫，在机台内部形成有效风压，至少对宏观检测台进行有效清洁，至少维持晶圆目检机的宏观检测台的落尘含量在设备允许的范围内，延长晶圆目检机的使用寿命，且更加精准的检测晶圆。

15、本公开的第二方面提供了一种晶圆目检机控制方法，用于控制上述晶圆目检机，晶圆目检机控制方法包括检测宏观检测台的工作状态；在宏观检测台处于闲置状态期间内，控制空气过滤设备与第一排风设备及/或第二排风设备共同工作，至少对宏观检测台进行伯努利吹气清扫。

16、在本公开的一个实施例中，上述晶圆控制方法包括如下步骤中的至少一个：

17、获取用于触发第一排风设备的第一排风启动指令，根据第一排风启动指令生成用于控制第一排风设备执行排风动作的第一排风启动命令；

18、获取用于触发第二排风设备的第二排风启动指令，根据第二排风启动指令生成用于控制第二排风设备执行排风动作的第二排风启动命令；

19、获取用于触发空气过滤设备工作的空气过滤启动指令，根据空气过滤启动指令生成用于控制空气过滤设备执行空气过滤动作的空气过滤启动命令。

20、上述实施例中的晶圆目检机控制方法，通过检测宏观检测台的工作状态，为后续工作做好准备；通过在宏观检测台处于闲置状态期间内，控制空气过滤设备与第一排风设备及/或第二排风设备共同工作，至少对宏观检测台进行伯努利吹气清扫；在控制空气过滤设备与第一排风设备及/或第二排风设备共同工作时，主要是获取用于触发第一排风设备的第一排风启动指令后，根据第一排风启动指令生成用于控制第一排风设备执行排风动作的第一排风启动命令；获取用于触发第二排风设备的第二排风启动指令后，根据第二排风启动指令生成用于控制第二排风设备执行排风动作的第二排风启动命令；获取用于触发空气过滤设备工作的空气过滤启动指令后，根据空气过滤启动指令生成用于控制空气过滤设备执行空气过滤动作的空气过滤启动命令。目前相关晶圆目检机控制方法在控制目检机在闲置状态下进行清洁处理，检测台沉积落尘，在晶圆目检机长时间处于闲置状态之后，检测台沉积的含量超标，从而影响设备的使用寿命，甚至影响晶圆缺陷的检测。本公开实施例中提供的晶圆目检机控制方法，通过检测宏观检测台的工作状态，在宏观检测台处于闲置状态期间内，控制空气过滤设备与第一排风设备及/或第二排风设备共同工作，至少对宏观检测台进行伯努利吹气清扫，在机台内部形成有效风压，至少对宏观检测台进行有效清洁，至少维持晶圆目检机的宏观检测台闲置模式结束后，落尘含量在设备允许的范围内，延长晶圆目检机的使用寿命，且更加精准的检测晶圆。