一种隔离装置及等离子刻蚀设备的制作方法

本申请涉及半导体制造，特别涉及一种隔离装置及等离子刻蚀设备

背景技术：

1、电容耦合等离子体(capacitive coupled plasma，ccp)是半导体芯片加工制造过程中的一种重要工艺。等离子刻蚀工艺由等离子刻蚀设备完成。等离子刻蚀工艺的步骤包括刻蚀气体的导入、等离子体的生成、等离子体扩散至待刻蚀样品表面、等离子体在待刻蚀表面的扩散、等离子体与表面物质的反应以及反应产物的解吸附并排出等过程。其中，在等离子体生成时，为了避免等离子刻蚀设备的反应腔体的顶盖以及顶盖上设置的部件被等离子体攻击而造成损坏以及造成高的金属污染物率，反应腔体内一般会设置隔离装置，以将顶盖即顶盖上设置的部件与等离子体隔离。由于在生成等离子体时，为了避免与等离子体沉积在隔离组件上，需要提前将隔离装置加热到一定温度，但由于隔离装置加热后会发生的热变形而导致隔离装置的寿命下降。

2、因此，如何降低或避免隔离装置的热变形对其寿命的影响是目前亟需解决的问题。

技术实现思路

1、本申请实施例之一提供一种隔离装置，设置在等离子刻蚀设备的反应腔体内，所述反应腔体由顶盖和主体连接形成，所述隔离装置用于将所述顶盖与所述反应腔体内的等离子体隔离，所述隔离装置包括从上到下重叠设置的挡板、加热板和隔离板；其中，所述加热板上设置有加热件。

2、在一些实施例中，所述挡板、所述加热板和所述隔离板上均设有若干通孔，轴线在同一直线方向上的所述挡板上的通孔、所述加热板上的通孔和所述隔离板上的通孔形成气流通道。

3、在一些实施例中，所述加热件避开所述加热板上的通孔在所述加热板上呈u型迂回分布。

4、在一些实施例中，所述加热件避开所述加热板上的通孔在所述加热板上呈螺旋型分布。

5、在一些实施例中，所述加热板的材料为聚酰亚胺。

6、在一些实施例中，所述隔离板的材料为硅、玻璃纤维或聚四氟乙烯。

7、在一些实施例中，所述隔离装置还包括冷却装置，所述冷却装置包括冷却液和循环管路，所述循环管路分布在所述挡板上，当所述冷却液在所述循环管路中流动时，能够对所述挡板进行散热。

8、在一些实施例中，所述加热件为一根或多根加热丝，所述加热丝连接有加热装置，所述加热装置用于对所述加热丝进行加热。

9、在一些实施例中，所述隔离装置还包括控制装置，所述控制装置与所述冷却装置和所述加热装置连接，用于控制所述冷却装置对所述挡板进行散热以及控制所述加热装置对所述加热丝进行加热。

10、本申请实施例之一提供一种等离子刻蚀设备，包括：反应腔体，由顶盖和主体连接形成；如上述任一实施例所述的隔离装置，所述隔离装置设置在所述反应腔体内，用于将所述顶盖与所述反应腔体内的等离子体隔离。

11、本申请实施例提供的隔离装置及等离子刻蚀设备，在隔离装置中，挡板和隔离板之间设置有加热板，可以为挡板和隔离板加热时发生的热变形提供变形空间，避免挡板和隔离板加热所发生的热变形受限，有利于增加挡板和隔离板的寿命，从而能够增加整个隔离装置的寿命；同时加热板上的加热件能够实现均匀加热，从而能够使得挡板和隔离板的受热比较均匀，而不会发生较大的热变形翘曲，有利于增加挡板和隔离板的寿命，从而能够增加整个隔离装置的寿命。除此之外，加热板设置在挡板和隔离板之间，可以减小挡板和隔离板之间的温度传导热阻，从而增大隔离板和挡板之间的热传递效率，以便于隔离板能够进行更好地散热。

技术特征：

1.一种隔离装置，设置在等离子刻蚀设备的反应腔体内，所述反应腔体由顶盖和主体连接形成，所述隔离装置用于将所述顶盖与所述反应腔体内的等离子体隔离，其特征在于，所述隔离装置包括从上到下重叠设置的挡板、加热板和隔离板；其中，所述加热板上设置有加热件。

2.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述挡板、所述加热板和所述隔离板上均设有若干通孔，轴线在同一直线方向上的所述挡板上的通孔、所述加热板上的通孔和所述隔离板上的通孔形成气流通道。

3.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述加热件避开所述加热板上的通孔在所述加热板上呈u型迂回分布。

4.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述加热件避开所述加热板上的通孔在所述加热板上呈螺旋型分布。

5.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述加热板的材料为聚酰亚胺。

6.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述隔离板的材料为硅、玻璃纤维或聚四氟乙烯。

7.根据权利要求1所述的隔离装置，其特征在于，所述隔离装置还包括冷却装置，所述冷却装置包括冷却液和循环管路，所述循环管路分布在所述挡板上，当所述冷却液在所述循环管路中流动时，能够对所述挡板进行散热。

8.根据权利要求7所述的隔离装置，其特征在于，所述加热件为一根或多根加热丝，所述加热丝连接有加热装置，所述加热装置用于对所述加热丝进行加热。

9.根据权利要求8所述的隔离装置，其特征在于，所述隔离装置还包括控制装置，所述控制装置与所述冷却装置和所述加热装置连接，用于控制所述冷却装置对所述挡板进行散热以及控制所述加热装置对所述加热丝进行加热。

10.一种等离子刻蚀设备，其特征在于，包括：

技术总结
本申请提供一种隔离装置及等离子刻蚀设备，设置在等离子刻蚀设备的反应腔体内，反应腔体由顶盖和主体连接形成，隔离装置用于将顶盖与反应腔体内的等离子体隔离，隔离装置包括从上到下重叠设置的挡板、加热板和隔离板；其中，加热板上设置有加热件。本申请提供的隔离装置通过在挡板和隔离板设置加热板，具有较高的寿命，能够进行较好的散热。

技术研发人员：王俊
受保护的技术使用者：上海微芸半导体科技有限公司
技术研发日：20230428
技术公布日：2024/1/14