一种用于真空灭弧室的燃弧机构及包括其的真空灭弧室的制作方法

本技术属于电力工程，尤其涉及一种用于真空灭弧室的燃弧机构及包括其的真空灭弧室。

背景技术：

1、真空灭弧室是真空开关的关键元件，担负着控制电弧的任务，电流电弧的开断与关合都靠真空灭弧室中的触头来完成。为了提高真空灭弧室的短路电流开断能力，人们开发了真空电弧的磁场控制技术。如现有技术已知的，真空灭弧室通过两种方式控制电弧，一种是横向磁场控制技术，在横向磁场电弧控制技术中，常见的触头有万字形、螺旋槽等形状，配套的屏蔽部件通常具有铜铬合金材质的主屏蔽筒、主屏蔽筒的两端连接有均压罩、法兰结构；另一种是纵向磁场控制技术，在纵向磁场电弧控制技术中，常见的触头结构有线圈式纵磁触头和杯状纵磁触头等，其配套的屏蔽部件可以为铜屏蔽筒或不锈钢铁屏蔽筒。在这两种控制技术中出现的触头与屏蔽筒组合，或是触头结构复杂、或是屏蔽筒结构复杂，而且其加工工序复杂、材料成本也较高，影响了真空灭弧室的小型化、简易化及其性价比。

技术实现思路

1、因此，本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺陷，提供一种用于真空灭弧室的燃弧机构，可以在保证真空灭弧室性能不变的情况下，采用结构简单和制造成本较低的触头和屏蔽部件，达到使真空灭弧室的往小型化、简易化、高性价比方向发展的目的。

2、根据第一方面，本实用新型提供一种用于真空灭弧室的燃弧机构，包括触头和屏蔽部件；所述触头为横磁触头，所述屏蔽部件为单个的金属材质屏蔽筒；所述屏蔽部件设置于所述触头的周围，所述屏蔽部件到所述触头边缘的最小距离大于最大开距的二分之一。

3、优选的，所述横磁触头为螺旋槽型触头或万字型触头。

4、优选的，所述横磁触头的材料为铜铬合金，铬的含量为10％-50％。

5、优选的，所述屏蔽部件为单个的铜质屏蔽筒或电工纯铁屏蔽筒或不锈钢屏蔽筒。

6、根据第二方面，本实用新型提供一种真空灭弧室，包括如第一方面中任一所述的燃弧机构。

7、优选的，所述真空灭弧室还包括静盖板1、波纹管4、动盖板5、静导电杆6、绝缘外壳7、动导电杆8，其中，所述绝缘外壳7和其两端分别钎焊的所述静盖板1和所述动盖板5封接形成密闭的真空腔室，所述燃弧机构基于所述屏蔽部件2固定于所述真空腔室内，所述波纹管4设置于所述真空腔室内所述动盖板的一端，所述动导电杆8的一端基于所述动盖板5与所述波纹管4密封连接后，与所述燃弧机构的所述触头3的动触头连接，所述触头3的定触头与所述静导电杆6的一端连接，所述静导电杆6的另一端与所述静盖板连接，所述动导电杆8的另一端与所述真空腔室外的操动机构连接，在所述操动机构带动下，所述动导电杆8可以沿灭弧室轴向带动所述触头3完成合分动作。

8、优选的，所述绝缘外壳7为陶瓷管壳。

9、优选的，所述燃弧机构基于所述屏蔽部件2固定于所述真空腔室内。

10、优选的，所述燃弧机构基于所述屏蔽部件2固定于所述真空腔室内两端的中间位置。

11、与现有技术相比，本实用新型的触头和屏蔽部件的结构简单，因对屏蔽部件与触头边缘的最小距离进行了限定，使用结构简单的单个金属屏蔽筒而不用添加均压罩就可以降低真空腔室内局部电场强度，提高绝缘性能，保证了电弧熄灭后间隙介质强度的恢复速度，利于真空灭弧室的开断能力。

技术特征：

1.一种用于真空灭弧室的燃弧机构，包括触头和屏蔽部件；其特征在于，所述触头为横磁触头，所述屏蔽部件为单个的金属材质屏蔽筒；所述屏蔽部件设置于所述触头的周围，所述屏蔽部件到所述触头边缘的最小距离大于最大开距的二分之一。

2.根据权利要求1所述的机构，其特征在于，所述横磁触头为螺旋槽型触头或万字型触头。

3.根据权利要求1或2所述的机构，其特征在于，所述横磁触头的材料为铜铬合金，铬的含量为10％-50％。

4.根据权利要求1所述的机构，其特征在于，所述屏蔽部件为单个的铜质屏蔽筒或电工纯铁屏蔽筒或不锈钢屏蔽筒。

5.一种真空灭弧室，包括如权利要求1至4中任一所述的燃弧机构。

6.根据权利要求5所述的真空灭弧室，其特征在于，还包括静盖板(1)、波纹管(4)、动盖板(5)、静导电杆(6)、绝缘外壳(7)、动导电杆(8)，其中，所述绝缘外壳(7)和其两端分别钎焊的所述静盖板(1)和所述动盖板(5)封接形成密闭的真空腔室，所述燃弧机构基于所述屏蔽部件(2)固定于所述真空腔室内，所述波纹管(4)设置于所述真空腔室内所述动盖板的一端，所述动导电杆(8)的一端基于所述动盖板(5)与所述波纹管(4)密封连接后，与所述燃弧机构的所述触头(3)的动触头连接，所述触头(3)的定触头与所述静导电杆(6)的一端连接，所述静导电杆(6)的另一端与所述静盖板连接，所述动导电杆(8)的另一端与所述真空腔室外的操动机构连接，在所述操动机构带动下，所述动导电杆(8)可以沿灭弧室轴向带动所述触头(3)完成合分动作。

7.根据权利要求6所述的真空灭弧室，其特征在于，所述绝缘外壳(7)为陶瓷管壳。

8.根据权利要求6所述的真空灭弧室，其特征在于，所述燃弧机构基于所述屏蔽部件(2)固定于所述真空腔室内。

9.根据权利要求6所述的真空灭弧室，其特征在于，所述燃弧机构基于所述屏蔽部件(2)固定于所述真空腔室内两端的中间位置。

技术总结
本技术提供一种用于真空灭弧室的燃弧机构及包括其的真空灭弧室，其中燃弧机构包括触头和屏蔽部件；所述触头为横磁触头，所述屏蔽部件为单个的金属材质屏蔽筒；所述屏蔽部件设置于所述触头的周围，所述屏蔽部件到所述触头边缘的最小距离大于最大开距的二分之一。本技术采用的触头结构简单，加上对屏蔽部件与触头边缘的最小距离进行了限定，使用结构简单的单个金属屏蔽筒就可以降低真空腔室内局部电场强度，提高绝缘性能，保证了电弧熄灭后间隙介质强度的恢复速度，利于真空灭弧室的开断能力。

技术研发人员：李禹成,严军
受保护的技术使用者：伊顿电气有限公司
技术研发日：20230707
技术公布日：2024/5/9