一种防离子轰击的离子源装置的制作方法

本申请涉及离子源装置，尤其涉及了一种防离子轰击的离子源装置。

背景技术：

1、离子源是一种设备，它的作用是将原本没有电荷的原子或分子变成带电的离子，并形成一束离子流。

2、通俗的讲，离子源的工作原理是通过磁场捕获并撞击惰性气体中的电子，使其变成带电的离子。这个过程中，离子源内部的磁铁通过特殊的结构形成一个磁场，像罩子一样抓住惰性气体中的电子。当电子被抓住后，它们与气体发生碰撞，产生一个叫做等离子体的状态。接下来，在离子源的一个部分上加上电压，离子就会被加速并形成一束离子流。这束离子流可以被用来撞击样品，进行分析、加工或者实验等。

3、在离子撞击样品的过程中，离子束会对离子源内部的某些部件造成磨损，因为离子的撞击会产生能量和粒子的相互作用，导致离子源部件的磨损和消耗。因此，离子源需要定期维护和更换一些部件，以确保它的正常运行。例如中国专利(公告号：cn111192803a)公开了一种防离子轰击的离子源装置，包括壳体、磁铁、导磁件、阳极件、石墨阴极、第一极靴和第二极靴，壳体开设有第一凹槽；第一极靴设置于第一凹槽内，磁铁设置于第一极靴的两端并贴合于第一凹槽的内壁，导磁件设置于第一极靴与磁铁所形成的第二凹槽内，阳极件设置于导磁件的内腔，第二极靴设置于导磁件与磁铁形成的承载平台上，石墨阴极包裹于第二极靴，石墨阴极用于阻挡从阳极件发射的电子对第二极靴进行轰击，如此，离子在阳极的加速下轰击产品时，石墨阴极能够阻挡从阳极件发射的离子对第二极靴进行轰击，从而有效的保护第二极靴，同时避免对环境造成污染。

4、但是，上述检索专利还存在些许不足，它在使用时，通过在冷却腔内部容纳冷却液为装置进行降温，当离子源装置使用一段时间后，冷却液会慢慢吸热导致温度升高，进而使其冷却降温的效果较低，而上述检索专利，没有结构用于对冷却液进行降温，进一步导致离子源的冷却效果越来越差，使用起来有一定的不便，故而提出一种防离子轰击的离子源装置以解决上述问题。

技术实现思路

1、为了解决上述问题，本申请提供了一种防离子轰击的离子源装置，来解决该问题。

2、为达到上述目的，本申请提供如下技术方案：一种防离子轰击的离子源装置，包括冷却箱，所述冷却箱的顶面固定有离子源装置本体，所述离子源装置本体的底面开设有冷却槽，所述冷却槽内填充有冷却液，所述冷却箱内设有降温组件。

3、优选地，所述降温组件包括固定在冷却箱内底壁上的潜水水泵，所述冷却箱的顶面固定有导温管，所述潜水水泵的输水端固定有一端与导温管连通的送水管，所述导温管远离送水管的一端固定有一端冷却箱连通的回收管，所述冷却箱的右侧固定有散热仓，所述散热仓的正面固定有两个进气风扇，所述散热仓的正面开设有两个矩形孔，所述散热仓的左侧固定有多个水平贯穿冷却箱并延伸至其左侧的通风管，所述通风管的内壁上固定有制冷器，所述通风管的内壁上固定有排气风扇，所述冷却箱的顶面固定有进水管，所述冷却箱的左侧固定有出水管，所述出水管的左端固定有阀门。

4、优选地，所述冷却箱与离子源装置本体之间密封连接，所述导温管浸没在冷却液内，所述导温管为圆形铜管且呈s型来回多层弯曲。

5、优选地，所述潜水水泵靠近冷却箱的右侧，所述冷却箱内部填充有散热液，所述潜水水泵浸没在散热液中。

6、优选地，两个所述矩形孔分别位于两个进气风扇的后侧，所述通风管为左右两端均缺失的方形铜管。

7、优选地，所述通风管的左端与冷却箱的左侧相平齐，所述通风管的右端与冷却箱的右侧相平齐，所述通风管浸没在散热液中。

8、优选地，所述制冷器靠近通风管的右侧，所述排气风扇靠近通风管的左侧。

9、优选地，所述进水管的顶端螺纹连接有密封盖，所述进水管与冷却箱连通，所述出水管靠近冷却箱的底部并与其内部相连通。

10、本申请的优点在于：

11、1.本申请通过设置的冷却槽与冷却液为离子源装置本体吸热进行冷却，降低离子源装置本体内部发生反应时的温度。

12、2.本申请通过降温组件能够实时的将冷却液所吸收的热量传导至冷却箱内部，并通过降温组件将热量扩散至空气中，使冷却液能够始终保持低温，进而提升冷却液对离子源装置本体的冷却吸热效果，实用性更好，更加便于推广使用。

技术特征：

1.一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，包括冷却箱(1)，所述冷却箱(1)的顶面固定有离子源装置本体(2)，所述离子源装置本体(2)的底面开设有冷却槽(3)，所述冷却槽(3)内填充有冷却液(4)，所述冷却箱(1)内设有降温组件(5)。

2.根据权利要求1所述的一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，所述降温组件(5)包括固定在冷却箱(1)内底壁上的潜水水泵(51)，所述冷却箱(1)的顶面固定有导温管(52)，所述潜水水泵(51)的输水端固定有一端与导温管(52)连通的送水管(53)，所述导温管(52)远离送水管(53)的一端固定有一端冷却箱(1)连通的回收管(54)，所述冷却箱(1)的右侧固定有散热仓(55)，所述散热仓(55)的正面固定有两个进气风扇(56)，所述散热仓(55)的正面开设有两个矩形孔(57)，所述散热仓(55)的左侧固定有多个水平贯穿冷却箱(1)并延伸至其左侧的通风管(58)，所述通风管(58)的内壁上固定有制冷器(59)，所述通风管(58)的内壁上固定有排气风扇(510)，所述冷却箱(1)的顶面固定有进水管(511)，所述冷却箱(1)的左侧固定有出水管(512)，所述出水管(512)的左端固定有阀门(513)。

3.根据权利要求2所述的一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，所述冷却箱(1)与离子源装置本体(2)之间密封连接，所述导温管(52)浸没在冷却液(4)内，所述导温管(52)为圆形铜管且呈s型来回多层弯曲。

4.根据权利要求3所述的一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，所述潜水水泵(51)靠近冷却箱(1)的右侧，所述冷却箱(1)内部填充有散热液，所述潜水水泵(51)浸没在散热液中。

5.根据权利要求4所述的一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，两个所述矩形孔(57)分别位于两个进气风扇(56)的后侧，所述通风管(58)为方形铜管。

6.根据权利要求5所述的一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，所述通风管(58)的左端与冷却箱(1)的左侧相平齐，所述通风管(58)的右端与冷却箱(1)的右侧相平齐，所述通风管(58)浸没在散热液中。

7.根据权利要求6所述的一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，所述制冷器(59)靠近通风管(58)的右侧，所述排气风扇(510)靠近通风管(58)的左侧。

8.根据权利要求7所述的一种防离子轰击的离子源装置，其特征在于，所述进水管(511)的顶端螺纹连接有密封盖，所述进水管(511)与冷却箱(1)连通，所述出水管(512)靠近冷却箱(1)的底部并与其内部相连通。

技术总结
本申请涉及离子源装置技术领域，提供了一种防离子轰击的离子源装置，包括冷却箱，所述冷却箱的顶面固定有离子源装置本体，所述离子源装置本体的底面开设有冷却槽，所述冷却槽内填充有冷却液，所述冷却箱内设有降温组件，所述降温组件包括固定在冷却箱内底壁上的潜水水泵，本申请通过设置的冷却槽与冷却液为离子源装置本体吸热进行冷却，降低离子源装置本体内部发生反应时的温度，且本申请通过降温组件能够实时的将冷却液所吸收的热量传导至冷却箱内部，并通过降温组件将热量扩散至空气中，使冷却液能够始终保持低温，进而提升冷却液对离子源装置本体的冷却吸热效果，实用性更好，更加便于推广使用。

技术研发人员：牛一帆,闫益豪,杜元君
受保护的技术使用者：唐山凯泰润科技有限公司
技术研发日：20230713
技术公布日：2024/1/15