一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽的制作方法

本技术涉及半导体材料腐蚀清洗设备，具体是指一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽。

背景技术：

1、在传统半导体材料的腐蚀工艺中，被腐蚀的半导体材料在腐蚀完成后，需要在极短的时间内把腐蚀药液排空，并补充纯水喷洒材料表面，如不能在规定的时间内排空，半导体材料部分浸泡在腐蚀药液内，部分露出液面，会使半导体材料被腐蚀的不均匀；因腐蚀药液没有被排空，也不能进行注水喷淋作业，故提前露出液面的半导体材料会被氧化，造成经济损失，需要一种可瞬间排空药液且可同步对槽体内半导体材料进行清洗的一种槽体结构。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是克服以上的技术缺陷，提供一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽。

2、为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案为：一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，包括腐蚀槽体、快排气缸支架、缓冲隔槽、喷淋管路总成和排液阀管总成；

3、所述快排气缸支架固定在缓冲隔槽内，所述腐蚀槽体固定在快排气缸支架上方且腐蚀槽体的底部设有排液孔，所述快排气缸支架上还设有位于腐蚀槽体下方的快排气缸，所述快排气缸活塞杆的顶端设有快排气缸伸缩板，所述快排气缸伸缩板上安装有耐腐蚀材质的密封圈，所述喷淋管路总成与腐蚀槽体侧壁上端连通，所述排液阀管总成设置在缓冲隔槽底部并与缓冲隔槽内腔连通。

4、进一步地，所述腐蚀槽体由腐蚀槽筒体及腐蚀槽体底板组成，所述缓冲隔槽完全包裹住腐蚀槽体，所述排液孔设置在腐蚀槽体底板上，且排液孔直径尺寸小于快排气缸伸缩板上的密封圈直径尺寸。

5、进一步地，所述缓冲隔槽内侧壁设有底座安装架，所述快排气缸支架包括固定在底座安装架上的快排气缸支架底板，所述快排气缸固定在快排气缸支架底板上，所述快排气缸支架底板上相对设有两个支撑板且支撑板的上端与腐蚀槽体底板固定。

6、进一步地，所述快排气缸为耐腐蚀材质制作。

7、进一步地，所述喷淋管路总成包括若干层耐腐蚀软管，所述耐腐蚀软管嵌在腐蚀槽筒体内圈上部且耐腐蚀软管位于腐蚀槽筒体内圈的一端设有若干喷淋孔。

8、进一步地，所述缓冲隔槽为耐腐蚀材料板材拼焊而成。

9、进一步地，所述排液阀管总成包括连接在缓冲隔槽下方的排液总管，所述排液总管的下端通过三通阀连接有两个排液分管，两个所述排液分管上分别设有回收阀和排液阀。

10、本实用新型与现有技术相比的优点在于：

11、1、急速快排功能：本申请描述的硅晶圆片腐蚀后急速快排槽具有快速排放腐蚀药液的能力。通过快排气缸的操作，使得腐蚀槽体底部的液体可以迅速排空到缓冲隔槽，并通过排液阀管总成进行排放或回收。这种急速快排功能可以有效避免半导体材料在腐蚀液中长时间暴露，从而减少不均匀腐蚀和经济损失。

12、2、同步清洗功能：在快排过程中，喷淋管路总成进行喷淋注水作业，冲刷腐蚀槽体内的半导体材料。这种同步清洗功能确保在腐蚀完成后对半导体材料进行彻底的清洗，去除残留的腐蚀药液和其他污染物，提高产品质量。

13、3、结构设计优化：本申请提供了一种具有缓冲隔槽和快排气缸支架的槽体结构。缓冲隔槽完全包裹腐蚀槽体，能够稳定储存排放的腐蚀药液，并通过排液阀管总成进行处理。快排气缸支架与腐蚀槽体底部紧密贴合，确保密封性，防止药液渗出。此外，喷淋管路总成可调节喷淋角度，提供均匀的冲洗效果。

14、4、耐腐蚀材料应用：在本实施例中，快排气缸和喷淋管路总成采用耐腐蚀材料制作，能够抵抗腐蚀药液的侵蚀，提高设备的耐用性和可靠性。

15、总而言之，与传统的半导体材料腐蚀工艺相比，本申请描述的急速快排槽提供了快速排液和同步清洗的功能，优化了结构设计，并使用耐腐蚀材料，从而提高了工艺效率和产品质量。

技术特征：

1.一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，其特征在于，包括腐蚀槽体(1)、快排气缸支架(3)、缓冲隔槽(4)、喷淋管路总成(5)和排液阀管总成(6)；

2.根据权利要求1所述的一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，其特征在于，所述腐蚀槽体(1)由腐蚀槽筒体(1-1)及腐蚀槽体底板(1-2)组成，所述缓冲隔槽(4)完全包裹住腐蚀槽体(1)，所述排液孔设置在腐蚀槽体底板(1-2)上，且排液孔直径尺寸小于快排气缸伸缩板(7)上的密封圈(8)直径尺寸。

3.根据权利要求2所述的一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，其特征在于，所述缓冲隔槽(4)内侧壁设有底座安装架(9)，所述快排气缸支架(3)包括固定在底座安装架(9)上的快排气缸支架底板(3-1)，所述快排气缸(2)固定在快排气缸支架底板(3-1)上，所述快排气缸支架底板(3-1)上相对设有两个支撑板(3-2)且支撑板(3-2)的上端与腐蚀槽体底板(1-2)固定。

4.根据权利要求3所述的一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，其特征在于，所述快排气缸(2)为耐腐蚀材质制作。

5.根据权利要求2所述的一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，其特征在于，所述喷淋管路总成(5)包括若干层耐腐蚀软管，所述耐腐蚀软管嵌在腐蚀槽筒体(1-1)内圈上部且耐腐蚀软管位于腐蚀槽筒体(1-1)内圈的一端设有若干喷淋孔。

6.根据权利要求1所述的一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，其特征在于，所述缓冲隔槽(4)为耐腐蚀材料板材拼焊而成。

7.根据权利要求1所述的一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，其特征在于，所述排液阀管总成(6)包括连接在缓冲隔槽(4)下方的排液总管(6-3)，所述排液总管(6-3)的下端通过三通阀连接有两个排液分管(6-4)，两个所述排液分管(6-4)上分别设有回收阀(6-1)和排液阀(6-2)。

技术总结
本技术公开了一种硅晶圆片腐蚀后急速快排槽，包括腐蚀槽体、快排气缸支架、缓冲隔槽、喷淋管路总成和排液阀管总成，所述快排气缸支架固定在缓冲隔槽内，所述腐蚀槽体固定在快排气缸支架上方且腐蚀槽体的底部设有排液孔，所述快排气缸支架上还设有位于腐蚀槽体下方的快排气缸，所述快排气缸活塞杆的顶端设有快排气缸伸缩板，所述快排气缸伸缩板上安装有耐腐蚀材质的密封圈。本技术与现有技术相比的优点在于：本申请提供了快速排液和同步清洗的功能，优化了结构设计，并使用耐腐蚀材料，从而提高了工艺效率和产品质量。

技术研发人员：王云飞,贾世杰,董知悦,魏守冲
受保护的技术使用者：磐石创新（江苏）电子装备有限公司
技术研发日：20230726
技术公布日：2024/2/29