1.一种电化学装置，包括电解液、负极极片、隔膜和正极极片；
2.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述式(i)化合物包括以下式(i-1)化合物至式(i-8)化合物中的至少一个：
3.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述电化学装置满足以下条件中的至少一者：
4.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述式(i)化合物的摩尔质量为m(i)g/mol，所述聚合单体的摩尔质量为m单g/mol，所述m、所述n、所述m(i)和所述m单之间满足：2≤(n/m单)/(m/m(i))≤200。
5.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述式(i)化合物的摩尔质量为m(i)g/mol，所述聚合单体的摩尔质量为m单g/mol，所述m、所述n、所述m(i)和所述m单之间满足：3≤(n/m单)/(m/m(i))≤30。
6.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述负极材料层还包括无机固态电解质，所述无机固态电解质包括无机氧化物材料或无机硫化物材料中的任一种；
7.根据权利要求6所述的电化学装置，其中，0.5≤n/θ≤100。
8.根据权利要求6所述的电化学装置，其中，0.1≤θ≤5，和/或1≤n/θ≤30。
9.根据权利要求6所述的电化学装置，其中，所述无机氧化物材料的晶型结构包括nasicon型、lisicon型、钙钛矿型或石榴石型中的至少一种；
10.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述电解液还包括引发剂，所述引发剂包括偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈、偶氮二异丁酸二甲酯或过氧化甲乙酮中的至少一种；
11.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述电解液还包括含不饱和键的添加剂，所述含不饱和键的添加剂包括氟代碳酸乙烯酯、碳酸亚乙烯酯、碳酸乙烯亚乙酯、1,3-丙烯磺酸内酯、1,3-丙烷磺酸内酯、3-己烯二氰、反丁烯二酸酐或三烯丙基甲氧基硅烷中的至少一种；
12.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述含硅负极活性材料包括siow、硅碳化合物或硅单质中的至少一种，0.5≤w≤1.5。
13.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述电解液还包括碳酸酯、羧酸酯或醚中的至少一种；
14.根据权利要求1所述的电化学装置，其中，所述电解液还包括锂盐，所述锂盐包括六氟磷酸锂、四氟硼酸锂、六氟砷酸锂、高氯酸锂、四苯基硼酸锂、甲基磺酸锂、三氟甲磺酸锂、双三氟甲磺酰亚胺锂、三(三氟甲基磺酰)甲基锂、六氟硅酸锂、二草酸硼酸锂或二氟草酸硼酸锂中的至少一种；
15.一种电子装置，其包括权利要求1至14中任一项所述的电化学装置。