用于扫频源光学相干层析成像系统的波长可调谐垂直腔面发射激光器的制造方法_4

文档序号:9757171阅读:来源:国知局
化能级之间跃迁的发光波长通过方程(1)给出:
U)
[004引其中应r哺巧"'"7'分别是在QD的导带和价带中的量化能级。由于势垒相关的扩宽效 应,增益峰值波长比通过方程(I)给出的发光波长略短。如果对于孤,为了简单起见假定了 无限的势垒,则巧HW W及馬mW'能被解析地表示为:
[004引其中EcO为导带边缘能量,EvO为价带边缘能量,及说!分别为电子和空穴的有 效质量,fr为"h拨'(普朗克常数h除W23I)。整数UmW及n为表示量化能级符号的量子数。最 低能级对应l=m = n = l(或1' =m' =n' =1)。增益峰值出现在量化能级附近。因此,增益峰 值波长由点的尺寸、和尺寸a、bW及C所确定。在运种方法中,通过改变孤的尺寸能够改变增 益峰值波长。较大尺寸的孤具有第二量化能级(l、m、或n(或1'、111'、11')中任一个大于1),其 中较高能级具有在较短波长一侧的增益峰值。运两个增益峰值构成宽的增益谱。
[0046] QD增益谱的细节在参考文献(S丄.Qiuang,Physics of Photonic Devices,John Wi I巧&Sons 2009,PP. 376-381,其内容通过引用并入本文)中描述。正如在方程(I)和(2)中 所示,该能级还由载流子的有效质量所:和说诚及能带边缘能量E。。和EvO所确定,能带边缘 能量与QD的组分及其各自的垒有关。通过改变晶体生长条件和组分选择,能对每一孤层中 的QD的尺寸和形状进行调整:因此,增益峰值波长能具有产生较宽增益谱的分布。65nm的增 益带宽已经被发表在W下刊物中:Takada,et al., "10.3加 /s operation over a wide temperature range in I. Sum quantum-dot DFB lasers with high modal gain'', Optical Fiber Communication Conference\National Fiber Optic Engineers Conference,Technical Digest(2010),该参考文献的内容通过引用并入本文。
[0047] 换句话说,通过对QD和量子阱(QW)进行组合,能进一步扩宽QD的增益带宽:选择量 子阱的量化能级高于孤的第二量化能级,W设置另一增益峰值来扩宽增益带宽。通过使用 运种方法,已经实现超过200nm的整体增益带宽。在此工作中,通过单独使用QD,已示出具有 160nm的增益带宽。运些细节在参考文献(S. Chen, K. Zhou, Z. Zhang ,J.R. Orchard, D.T.D.Childs,!.Hugues,0.Wada,and R.A.Hogg, ('Hybrid quantum wel!/quantum dot structure for broad spectral bandwidth emitters",IEEE J.Selected Topics of 如antum Electron. , vol. 19 ,No .4, July/Aug. 2013,其内容通过引用并入本文中)中描述。 但是在此W及前一段所引用的两个参考文献中描述的结构并不足W实现宽可调谐激光器 或扫频源的激光波长调谐。
[0048] 如上文所解释的,本发明提供MEMS可调谐量子点VCSEL(使用发射中屯、波长在 1300nm附近的示例性实施例)。本发明解决了至少两个现有技术中的问题。第一,通过使用 具有更宽反射率带宽的GaAs基DBR,解决了现有技术中InP基D服的D服反射率带宽不足的问 题。第二,通过使用在GaAs基DBR(其在GaAs衬底上生长)顶部上连续生长的量子点有源区, 避免了现有技术中为了将InP基有源区晶圆与GaAs基DBR晶圆键合所需的复杂晶圆键合工 艺问题。
[0049] 本文引用的所有参考文献通过全文引用方式并入本文。
[0050] W上描述旨在举例说明本技术的多个方面。而不旨在W本文记载的实施例来限制 所附的权利要求。本发明现已完整公开了,本领域技术人员应当明白,在没有背离所附权利 要求的精神或范围下,可W做出多种改变和修改。
【主权项】
1. 一种微机电系统(MEMS)可调谐垂直腔面发射激光器(VCSEL),包括一层或多层量子 点。2. 根据权利要求1所述的MEMS可调谐VCSEL,其中所述一层或多层量子点包括InAs或 InGaAs量子点,并且通过InGaAs皇层来分开。3. 根据权利要求1所述的MEMS可调谐VCSEL,具有上部DBR和下部DBR,其中所述DBR为 GaAs 基或 AlGaAs 基。4. 根据权利要求1所述的MEMS可调谐VCSEL,其中所述一层或多层量子点位于DBR上连 续生长的有源区内。5. 根据权利要求1所述的MEMS可调谐VCSEL,具有大于lOOnm的可调谐范围。6. -种用于扫频源光学相干层析成像的可调谐VCSEL,包括: MEMS可调谐 VCSEL, 其中所述MEMS可调谐VCSEL包括: 底部的半VCSEL部分、以及上部的反射镜部分,其中所述底部的半VCSEL部分包括: 在GaAs衬底上外延生长的底部DBR, 和由多层量子点组成的有源层,所述有源层在所述底部DBR的顶部上外延生长, 并且所述上部的反射镜部分包括: 由横梁支撑的垂直可移动的膜; 设置在所述垂直可移动的膜上的上部DBR,作为用于光线的上部反射镜; 在所述垂直可移动的膜和所述柄状衬底之间供应电压的电极,以改变形成于所述上部 DBR层和所述底部DBR层之间的腔体的腔体长度。7. 根据权利要求6所述的可调谐VCSEL,其中所述有源层包括多个包含不止一个尺寸的 量子点的层。8. 根据权利要求6所述的可调谐VCSEL,其中所述有源层包括多个包含不止一种组分的 量子点的层。9. 根据权利要求6所述的可调谐VCSEL,其中所述有源层包括多个由量子点组成的层, 所述量子点具有第二量化能级。10. 根据权利要求6所述的可调谐VCSEL,其中所述有源层包括多个由InAs或InGaAs量 子点组成的层。11. 根据权利要求6所述的可调谐VCSEL,其中所述有源层包括多个具有中心波长在 250nm至1950nm范围的量子点层。12. 根据权利要求6所述的可调谐VCSEL,其中所述有源层包括多个具有中心波长在 850nm至1700nm范围的量子点层。13. 根据权利要求6所述的可调谐VCSEL,其中所述有源层包括多个具有中心波长在 llOOnm至1350nm范围的量子点层。14. 一种光学相干层析成像系统,包括如权利要求1所述的可调谐VCSEL。
【专利摘要】一种使用微机电系统(MEMS)技术的波长可调谐的垂直腔面发射激光器(VCSEL)被设置为用于光学相干层析成像(OCT)的扫频源。所述波长可调谐VCSEL包括VCSEL的底部反射镜、有源区、以及通过静电偏转而可移动的MEMS可调谐上部反射镜。所述底部反射镜包括GaAs基分布的布拉格反射镜(DBR)叠层,以及所述有源区包括多个GaAs基量子点(QD)层的叠层,所述有源层在GaAs衬底上外延生长。所述MEMS可调谐上部反射镜包括由悬挂梁支撑的膜部、以及包含介电DBR叠层的上部反射镜。所述MEMS可调谐量子点VCSEL能覆盖超过100nm的操作波长范围,优选具有250nm和1950nm之间的中心波长,并且扫描速率能从几kHz到几百kHz、以及高达几MHz。
【IPC分类】H01S5/183
【公开号】CN105518951
【申请号】CN201480044416
【发明人】T·牧野, T·李, D·尤
【申请人】英菲尼斯有限责任公司
【公开日】2016年4月20日
【申请日】2014年7月1日
【公告号】CA2917147A1, EP3017515A1, US9203215, US20150010031, US20160056613, WO2015003023A1
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