1.一种快速二维均匀辐照扫描方法，其特征在于，所述扫描方法包括：
步骤1、将带电粒子束流扩束成截面为特定分布的且具有一定宽高比例的束斑；根据束流宏脉冲的长度，计算出单次线扫描的时间；
步骤2、根据束流宏脉冲的重复频率，计算出单次步进扫描的时间间隔；
步骤3、根据需要扫描的样品面积和束斑面积，计算得到完成一次面扫描的时间；
步骤4、在束流的出口，根据计算的线扫描时间，采用连续变化的快变化磁场向截面尺寸小的方向进行一个维度的线扫描；
步骤5、在束流的出口，根据计算的步进扫描时间，采用高变化频率的稳态磁场向截面尺寸大的方向进行第二个维度的步进扫描。
2.根据权利要求1所述的快速二维均匀辐照扫描方法，其特征在于，采用多块四极磁铁，对带电粒子束进行横截面方向的扩束，使得束斑截面具有一定宽高比例。
3.根据权利要求1所述的快速二维均匀辐照扫描方法，其特征在于，采用冲击型磁铁产生快变化的线扫描磁场。
4.根据权利要求3所述的快速二维均匀辐照扫描方法，其特征在于，所述冲击型磁铁，可以选择镍锌铁氧体磁铁。
5.根据权利要求3所述的快速二维均匀辐照扫描方法，其特征在于，所述冲击型磁铁，其供电采用断续三角波电流波形的高频脉冲数字电源。
6.根据权利要求1所述的快速二维均匀辐照扫描方法，其特征在于，采用快响应的磁铁产生稳态步进扫描磁场。
7.根据权利要求1所述的快速二维均匀辐照扫描方法，其特征在于，扫描磁铁处的真空室采用镀膜陶瓷真空室。