显像洗蚀液喷洒旋转装置的制作方法

文档序号:14863663发布日期:2018-07-04 09:28阅读:367来源:国知局
显像洗蚀液喷洒旋转装置的制作方法

本实用新型与电路板显像洗蚀设备有关,特别是指一种可依照加工需求变换洗蚀液喷洒角度,甚至可在电路板传送过程中配合旋转的显像洗蚀液喷洒旋转装置。



背景技术:

在电路板的湿式制程中,普遍存在不同类型的蚀刻问题;例如,传统洗蚀作业,由于采用水平方式将电路板传送通过显像洗蚀设备,但难免会因为蚀刻液积留在电路板顶面的时间过久,进而造成过量蚀刻或微尘污染等问题。

如图1所示,为习用显像洗蚀设备的洗蚀液喷洒组件使用配置图,其透过将电路板10以垂直状态传送通过显像洗蚀设备20的方式,降低蚀刻液积留在电路板顶面时间过久的现象;以及,透过在显像洗蚀设备20的作业区域安装壳罩,配合在壳罩侧面设置电路板信道的方式,降低微尘污染的现象。

类似习用显像洗蚀设备基本上在其作业区域设置数量不等的洗蚀液喷洒组件21、22,且通常将复数组用以产生直立洗蚀液的喷洒组件21排列合并成一个作业区段,另将复数组用以产生横向洗蚀液的喷洒组件22合并成另一个作业区段的方式维持基本的覆盖率。

然而,由于其用以产生直立洗蚀液的喷洒组件21及用以产生横向洗蚀液的喷洒组件22大多固定设置于显像洗蚀设备20上,不但无法配合加工需求变换角度或旋转,且在电路板10通过用以产生直立洗蚀液的喷洒组件21所属作业区段而尚未进入用以产生横向洗蚀液的喷洒组件22所属作业区段的这段时间,其作用于电路板10的洗蚀液覆盖率仍未达预期,因此还有进一步的改良空间。



技术实现要素:

本实用新型所解决的技术问题即在于提供一种可依照加工需求变换洗蚀液喷洒角度,甚至可在电路板传送过程中配合旋转,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质且更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀的显像洗蚀液喷洒旋转装置。

本实用新型所采用的技术手段如下所述。

本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,包括:至少一支架、至少一水液管,以及一驱动旋转组件;其中:该至少一支架,具有一供盛接水液的水道空间,另设有至少一与该水道空间相通的水液连接口;该至少一水液管,呈与该至少一支架的水道空间相通的型态轴设于该至少一支架上,该至少一水液管上且设有复数水液喷头;该驱动旋转组件,以供驱动该至少一水液管旋转的型态与该至少一水液管传动联结。

本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,可由驱动旋转组件带动水液管旋转,达到调整洗蚀液喷洒角度的目的,甚至可在电路板传送过程中同步带动水液管旋转,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质且更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀。

依据上述结构特征,该显像洗蚀液喷洒旋转装置包括两个概呈平行配置的支架,各该支架上各自轴设一水液管,各该水液管且与该驱动旋转组件传动联结。

依据上述结构特征,该驱动旋转组件具有一马达、一由该马达驱动旋转的传动轴,于该传动轴上设有一随该传动轴旋转的第一传动件,于各该水液管上各自设有一与该第一传动件构成传动联结的第二传动件,其中马达可以为减速马达或伺服马达。

依据上述结构特征,该显像洗蚀液喷洒旋转装置包括两个概呈平行配置的支架,各该支架上各自轴设一水液管,各该水液管且与该驱动旋转组件传动联结;该驱动旋转组件具有一马达、一由该马达驱动旋转的传动轴,于该传动轴上设有一随该传动轴旋转的第一传动件,于各该水液管上各自设有一与该第一传动件构成传动联结的第二传动件。

依据上述结构特征,各该水液管有一供与其所设置的支架相穿设的轴管,于该轴管的管壁上设有至少一水液入口。

依据上述结构特征,各该水液管设有复数相互概呈平行配置的岐管,于各该岐管上设有复数喷头。

依据上述结构特征,各该水液管设有复数相互概呈平行配置的岐管,于各该岐管上设有复数喷头,各该岐管上的喷头以与其相邻岐管上的喷头形成错位的型态排列。

依据上述结构特征,各该水液管有一供与其所设置的支架相穿设的轴管,于该轴管的管壁上设有至少一水液入口;各该水液管设有复数相互概呈平行配置的岐管,于各该岐管上设有复数喷头。

依据上述结构特征,各该水液管有一供与其所设置的支架相穿设的轴管,于该轴管的管壁上设有至少一水液入口;各该水液管设有复数相互概呈平行配置的岐管,于各该岐管上设有复数喷头,各该岐管上的喷头以与其相邻岐管上的喷头形成错位的型态排列。

本实用新型所产生的技术效果如下:本实用新型所揭露的显像洗蚀液喷洒旋转装置,主要利用支架、水液管及驱动旋转组件的设计,使得以依照其所应用的显像洗蚀设备的作业需求,透过简单旋转水液管的方式,调整洗蚀液的喷洒角度,甚至可在电路板传送过程中同步带动水液管旋转,进而在最短的时间内产生较高的洗蚀液覆盖率,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质且更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀。

附图说明

图1为一习用显像洗蚀设备的洗蚀液喷洒组件使用配置图。

图2为本实用新型第一实施例的显像洗蚀液喷洒旋转装置外观立体图。

图3为本实用新型第一实施例的显像洗蚀液喷洒旋转装置平面结构图。

图4为本实用新型当中的水液管与支架的轴设结构示意图。

图5为本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置使用配置示意图。

图6为本实用新型第一实施例的显像洗蚀液喷洒旋转装置动作示意图。

图7为本实用新型第二实施例的显像洗蚀液喷洒旋转装置外观立体图。

图8为本实用新型第一实施例的显像洗蚀液喷洒旋转装置与第二实施例的显像洗蚀液喷洒旋转装置搭配使用的配置示意图。

图9为本实用新型中第一种可能实施的喷头配置型态示意图。

图10为本实用新型中第二种可能实施的喷头配置型态示意图。

图号说明:

10 电路板

20 显像洗蚀设备

21 洗蚀液喷洒组件

22 洗蚀液喷洒组件

30 支架

31 水道空间

32 水液连接口

40 水液管

41 岐管

42 喷头

43 轴管

431 水液入口

50 驱动旋转组件

51 马达

52 传动轴

53 第一传动件

54 第二传动件。

具体实施方式

本实用新型主要提供一种可依照加工需求变换洗蚀液喷洒角度,甚至可在电路板传送过程中配合旋转,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质及更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀的显像洗蚀液喷洒旋转装置,如图2至图4所示,本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,基本上包括:至少一支架30、至少一水液管40,以及一驱动旋转组件50;其中:该至少一支架30,具有一供盛接水液的水道空间31,另设有至少一与该水道空间31相通的水液连接口32;于实施时,该至少一支架30可以为一方形管状结构体,且其一端呈封闭状,另一端则为一与该水道空间31相通的水液连接口32。

该至少一水液管40,呈与该至少一支架30的水道空间31相通的型态轴设于该至少一支架30上,该至少一水液管40上且设有复数水液喷头42;于实施时,各该水液管40有一供与其所设置的支架30相穿设的轴管43,于该轴管43的管壁上设有至少一水液入口431。

该驱动旋转组件50,以供驱动该至少一水液管40旋转的型态与该至少一水液管40传动联结;于实施时,该驱动旋转组件50具有一马达51、一由该马达51驱动旋转的传动轴52,于该传动轴52上设有一随该传动轴52旋转的第一传动件53,于各该水液管40上各自设有一与该第一传动件53构成传动联结的第二传动件54;在本实施例中,该第一传动件53及该第二传动件54以伞型齿轮的型态呈现,其中该马达51可以为减速马达或伺服马达。

请同时配合参照图5所示,本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,可透过该支架30安装于该显像洗蚀设备20的机台上,另透过该支架30的该水液连接口32连接该显像洗蚀设备20的洗蚀液供应系统,另由该驱动旋转组件50连接显像洗蚀设备的控制系统。

必要时,可由该驱动旋转组件50带动该水液管40旋转(如图6所示),达到调整洗蚀液喷洒角度的目的,甚至可在该电路板10传送过程中同步带动该水液管40旋转,进而在最短的时间内产生较高的洗蚀液覆盖率,以相对积极、可靠的手段提升电路板10工艺品质并更能使线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀。

在图2至图4所示的实施例中,本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,以包括一支架30,于该支架30上轴设有一水液管40的实施样态呈现;当然,本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,于实施时,亦可如图7所示,包括两个概呈平行配置的支架30,于各该支架30上各自轴设一水液管40,各该水液管40且与该驱动旋转组件50传动联结的实施样态呈现。

请同时配合参照图8所示,可由同一驱动旋转组件50带动两个水液管40同步旋转,使得以将此实施样态的显像洗蚀液喷洒旋转装置安装在两个并行的电路板10传送路径之间,搭配在两个电路板10传送路径的外侧各别配置一由一支架30,于该支架30上轴设有一水液管40的实施样态呈现的显像洗蚀液喷洒旋转装置,即可达到同时对复数电路板10施以洗蚀加工的目的。

同样的,本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,在包括两个概呈平行配置的支架30,各该支架30上各自轴设一水液管40,各该水液管40且与该驱动旋转组件50传动联结的实施样态下,以该驱动旋转组件50具有一马达51、一由该马达51驱动旋转的传动轴52,于该传动轴52上设有一随该传动轴52旋转的第一传动件53,于各该水液管40上各自设有一与该第一传动件53构成传动联结的第二传动件54的结构型态呈现为佳。

本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,在上揭各种可能实施的结构型态下,各该水液管40可如图2图9所示,设有复数相互概呈平行配置的岐管41,于各该岐管41上设有复数喷头42,藉以增加洗蚀液的喷洒覆盖率。

当然,本实用新型的显像洗蚀液喷洒旋转装置,在各该水液管40设有复数相互概呈平行配置的岐管41,于各该岐管41上设有复数喷头42的结构型态下,各该岐管41上的喷头42如图10所示,以与其相邻岐管41上的喷头42形成错位的型态排列为佳,使得以在水液管40旋转过程中,产生较高的洗蚀液喷洒覆盖率。

与传统习用结构相较,本实用新型所揭露的显像洗蚀液喷洒旋转装置,主要利用支架、水液管及驱动旋转组件的设计,使得以依照其所应用的显像洗蚀设备的作业需求,透过简单旋转水液管的方式,调整洗蚀液的喷洒角度,甚至可在电路板传送过程中同步带动水液管旋转,进而在最短的时间内产生较高的洗蚀液覆盖率,以相对积极、可靠的手段提升电路板工艺品质及更提升线路显像洗蚀更均匀,降低过度显像及过度洗蚀。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1