具有改进的品质因数的TF-SAW谐振器、RF滤波器和制造TF-SAW谐振器的方法与流程

文档序号:23014996发布日期:2020-11-20 12:19阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种具有改进的品质因数的tf-saw谐振器,包括:

-载体衬底,

-压电层,在所述载体衬底上或上方,所述压电层具有厚度t,

-电极结构,包括idt结构,所述电极结构在所述压电层上,所述idt结构具有节距p和金属化率η,

其中:

-所述压电层是包括压电材料的薄膜,

-所述节距p和所述金属化率η被选取以使所述品质因数q最大化。

2.根据前一权利要求所述的tf-saw谐振器,其中p和η取决于所述压电层的所述厚度t。

3.根据前述权利要求之一所述的tf-saw谐振器,其中所述压电材料包括linbo3或litao3。

4.根据前述权利要求之一所述的tf-saw谐振器,还包括在所述载体衬底与所述压电层之间的中间层,

其中所述中间层中的声速小于所述压电层中的声速。

5.根据前述权利要求之一所述的tf-saw谐振器,还包括在所述载体衬底与所述压电层之间的tcf层。

6.根据前述权利要求之一所述的tf-saw谐振器,还包括电荷减少层。

7.根据前述权利要求之一所述的tf-saw谐振器,其中p和η取决于t,但是与所述谐振器的外部电环境无关。

8.一种rf滤波器,包括两个或更多根据前述权利要求之一所述的tf-saw谐振器,其中p和η针对每个谐振器单独地被选取。

9.一种制造tf-saw谐振器的方法,包括步骤:

-提供载体衬底,

-利用晶片键合与薄膜处理或者薄膜层沉积技术,在所述载体衬底上或上方沉积包括压电材料的压电层,

-在所述压电层上构造包括idt结构的电极结构,所述idt结构具有被选取以使品质因数q最大化的节距p和金属化率η。

10.根据前一权利要求所述的方法,其中p和η考虑所述压电层的厚度t而被选取,但是与所述谐振器的外部电环境无关。

11.根据两项前述权利要求之一所述的方法,包括:局部修整所述压电层的厚度t。


技术总结
一种具有改进的品质因数的TF‑SAW谐振器被提供。该谐振器具有薄膜形式的其压电材料和布置在压电层上的电极结构。节距(P)和金属化率(η)被选取以使品质因数(Q)最大化。

技术研发人员:C·许克;M·纳普
受保护的技术使用者:RF360欧洲有限责任公司
技术研发日:2019.03.14
技术公布日:2020.11.20
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