显示装置的制造方法与流程

本发明的一个方式涉及一种显示装置的制造方法。注意，本发明的一个方式不局限于上述。本说明书等所公开的发明的一个方式的涉及一种物体、方法或制造方法。本发明的一个方式涉及一种工序(process)、机器(machine)、产品(manufacture)或者组合物(composition of matter)。由此，更具体而言，作为本说明书所公开的本发明的一个方式的的例子可以举出半导体装置、显示装置、发光装置、蓄电装置、存储装置、这些装置的驱动方法或者这些装置的制造方法。

背景技术：

1、此外，作为显示装置，已知有在各像素中包括用来驱动显示元件的晶体管的有源矩阵型显示装置。例如，已知有作为显示元件使用液晶元件的有源矩阵型液晶显示装置(也称为“液晶显示器”)及作为显示元件使用有机el元件等发光元件(也称为“发光器件”)的有源矩阵型发光显示装置(也称为“有机el显示器”)等。

2、有机el显示器是自发光型显示装置，所以具有比液晶显示器宽的视角和高响应性。并且，有机el显示器不需要背灯，所以容易实现显示装置的轻量化、薄型化、低功耗化等，近年来其研究开发日益火热。用作像素的有机el元件具有阳极与阴极隔着发光层重叠的结构。另外，为了防止相邻发光层间的电气干涉，在有机el显示器中相邻的像素间设置有分隔壁(专利文献1)。

3、另外，已知：在使用低分子材料形成发光层等的有机el层时，利用使用金属掩模的真空蒸镀法进行的方法(专利文献2)。

4、[先行技术文献]

5、[专利文献]

6、[专利文献1]日本专利申请公开第2014-123527号公报

7、[专利文献2]日本专利申请公开第2003-157973号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的技术问题

2、设置在像素间的分隔壁(也称为“堤”或“堤坝(bank)”)具有如下效果：显示装置的显示品质的提高；以及功耗的降低；等。另一方面，为了得到充分效果需要一定数量的分隔壁，因此难以减小分隔壁的占有面积而很难实现像素开口率的提高、高清晰化及小型化等。

3、另外，金属掩模由于尺寸精度低于抗蚀剂掩模、因蒸镀源所产生的热的影响而很容易变形等原因，在使用金属掩模按每个像素形成发光层时，很难实现像素开口率的提高、高清晰化等。

4、本发明的一个方式的目的之一是提供一种显示品质良好的显示装置或半导体装置等。另外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种可靠性高的显示装置或半导体装置等。另外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种功耗低的显示装置或半导体装置等。另外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种生产率高的显示装置或半导体装置等。另外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种新颖的显示装置或半导体装置等。另外，本发明的一个方式的目的之一是提供一种新颖的显示装置的制造方法或新颖的半导体装置的制造方法等。

5、注意，这些目的的记载并不妨碍其他目的的存在。此外，本发明的一个方式并不需要实现所有上述目的。上述目的以外的目的从说明书、附图、权利要求书等的记载中看来是显而易见的，并且可以从说明书、附图、权利要求书等的记载中抽取上述目的以外的目的。

6、解决技术问题的手段

7、本发明的一个方式是一种包括第一至第三发光元件的显示装置的制造方法，包括：形成第一发光元件的第一制造工序；形成第二发光元件的第二制造工序；以及形成第三发光元件的第三制造工序，第一制造工序包括：依次形成阳极、第一el层、第一阴极及第一层的工序；在第一层上形成第一抗蚀剂掩模的工序；选择性地去除阳极、第一el层、第一阴极及第一层各自的一部分的工序；去除第一抗蚀剂掩模的一部分的工序；选择性地去除第一el层、第一阴极及第一层各自的其他一部分的工序；以及去除第一抗蚀剂掩模的工序，第二制造工序包括：依次形成第二el层、第二阴极及第二层的工序；在第二层上形成第二抗蚀剂掩模的工序；选择性地去除阳极、第二el层、第二阴极及第二层各自的一部分的工序；去除第二抗蚀剂掩模的一部分的工序；选择性地去除第二el层、第二阴极及第二层各自的其他一部分的工序；以及去除第二抗蚀剂掩模的工序，并且，第三制造工序包括：依次形成第三el层、第三阴极及第三层的工序；在第三层上形成第三抗蚀剂掩模的工序；选择性地去除阳极、第三el层、第三阴极及第三层各自的一部分的工序；去除第三抗蚀剂掩模的一部分的工序；选择性地去除第三el层、第三阴极及第三层各自的其他一部分的工序；以及去除第三抗蚀剂掩模的工序。

8、第一至第三抗蚀剂掩模各自优选使用多级灰度掩模形成。例如，在第二制造工序中，以覆盖第一发光元件的方式形成第二el层、第二阴极及第二层。例如，在第三制造工序中，以覆盖第一发光元件及第二发光元件的方式形成第三el层、第三阴极及第三层。

9、第一至第三el层各自优选包含有机el材料。第一发光元件至第三发光元件优选被第四层覆盖。第四层例如使用通过ald法形成的氧化铝。另外，优选包括与第一阴极至第三阴极的每一个电连接的第一导电层。

10、发明效果

11、根据本发明的一个方式，可以提供一种显示品质良好的显示装置或半导体装置等。另外，根据本发明的一个方式，可以提供一种可靠性高的显示装置或半导体装置等。另外，根据本发明的一个方式，可以提供一种功耗低的显示装置或半导体装置等。另外，根据本发明的一个方式，可以提供一种生产率高的显示装置或半导体装置等。另外，根据本发明的一个方式，可以提供一种新颖的显示装置或半导体装置等。另外，根据本发明的一个方式，可以提供一种新颖的显示装置的制造方法或新颖的半导体装置的制造方法等。

12、注意，这些效果的记载并不妨碍其他效果的存在。此外，本发明的一个方式并不需要具有所有上述效果。上述效果以外的效果从说明书、附图、权利要求书等的记载中看来是显而易见的，并且可以从说明书、附图、权利要求书等的记载中抽取上述效果以外的效果。

技术特征：

1.一种包括第一至第三发光元件的显示装置的制造方法，包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置的制造方法，

3.根据权利要求1或2所述的显示装置的制造方法，

4.根据权利要求1至3中任一项所述的显示装置的制造方法，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的显示装置的制造方法，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的显示装置的制造方法，在所述第一至所述第三制造工序结束后还包括：

7.根据权利要求1至6中任一项所述的显示装置的制造方法，还包括：

技术总结
提供一种新颖的显示装置的制造方法。该显示装置的制造方法包括：依次形成阳极、第一EL层、第一阴极及第一层的工序；在第一层上形成第一抗蚀剂掩模的工序；选择性地去除阳极、第一EL层、第一阴极及第一层各自的一部分的工序；去除第一抗蚀剂掩模的一部分的工序；选择性地去除第一EL层、第一阴极及第一层各自的其他一部分的工序；以及去除第一抗蚀剂掩模的工序。第一抗蚀剂掩模使用多级灰度掩模形成。

技术研发人员：江口晋吾,鱼地秀贵
受保护的技术使用者：株式会社半导体能源研究所
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15