本发明涉及了一种rtr曝光机优化改造涨缩方法,属于柔性印刷电路板生产。
背景技术:
1、本部分的描述仅提供与本发明公开相关的背景信息,而不构成现有技术。
2、伴随生产力的提高,采用片对片技术生产柔性电路板已经不能满足当下需求,因此现柔性印刷电路板生产多开始采用rtr(roll-to-roll)技术;rtr技术是指挠性覆钢板通过成卷连续的方式,进行柔性印刷电路板制作的技术,rtr技术相比片对片技术可以简化生产流程,提高尺寸稳定性。
3、然而现有技术下的rtr曝光机在操作中主要还是利用两端的卷料板进行放料和收料,因此在柔性印刷电路板生产过程中,仍然避免不了存在因卷料收放板支撑辊张力不均,吸附平台与曝光框架平台不一致造成的柔性印刷电路板形变的问题,造成柔性印刷电路板涨缩现象,从而最终造成尺寸偏差,影响压合叠板匹配度。
4、因此,目前还没有一种rtr曝光机技术可以解决上述问题。
技术实现思路
1、本发明的目的是为了能提供一种rtr曝光机优化改造涨缩方法,能够优化柔性印刷电路板涨缩问题,提高压合叠板匹配度。
2、为了实现上述目的,本发明公开一种rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于,包括设于加工仓中的曝光机构和两个吸附平台,所述曝光机构的下曝光台的上表面和所述吸附平台的上表面位于同一水平面;其中,所述曝光机构沿待加工电路板运送方向设于两个所述吸附平台之间,其中,所述待加工电路板包括曝光部和非曝光部;所述rtr曝光机优化改造涨缩方法包括:
3、将待加工电路板从卷料放板中滚动释放出,以使得所述待加工电路板被推送至第一支撑辊,其中,所述待加工电路板处于紧绷状态;
4、通过所述第一支撑辊将所述待加工电路板在第一水平面上往下游方向推送,以使得所述待加工电路板被推送至加工仓内,直至所述待加工电路板中的至少一个所述曝光部位于下游的所述吸附平台和所述下曝光台的上方后,全部电机停止运转;
5、在电机停止运转后,驱动所述电机倒转,以使得所述待加工电路板被拉回一部分,直至所述待加工电路板张力完全释放后,所述电机停止运转并且此时所述待加工电路板中的至少一个所述曝光部位于所述下曝光台的正上方;
6、对位于所述待加工电路板至少一个曝光部两侧的非曝光部通过所述吸附平台进行吸附,以使得所述待加工电路板被固定至完全紧贴所述吸附平台的上表面;
7、对所述待加工电路板中的至少一个曝光部进行曝光;
8、将所述已加工电路板在所述第一水平面上往下游方向推送,以使得所述已加工电路板被推送至所述加工仓下游方向一侧的第二支撑辊,其中,所述已加工电路板处于张力释放状态;
9、通过所述第二支撑辊将所述已加工电路板继续往下游方向推送,直至所述已加工电路板被位于最下游的卷料收板滚动收纳,其中,所述已加工电路板被收纳完成后所述电机继续保持运转,直至所述待加工电路板处于紧绷状态。
10、本发明的rtr曝光机优化改造涨缩方法,相比现有技术具有以下有益效果:
11、本发明通过将柔性印刷电路板水平置于曝光机构的下曝光台的上表面,因此当待加柔性工印刷电路板就位,曝光机构的上曝光台下压后,由于曝光机构的下曝光台和吸附平台处于同一平面上,因此不会造成待加柔性工印刷电路板被上曝光台压至拉伸形变的问题;同时,本发明的rtr曝光机优化改造涨缩方法还可以通过在特定时刻通过快速转换支撑辊转换柔性工印刷电路板前进方向,以使得柔性工印刷电路板的张力得到释放,进一步提高了其加工精度,从而最终实现了较高的压合叠板匹配度。
12、除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本发明作进一步详细的说明。
1.一种rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于,包括设于加工仓中的曝光机构和两个吸附平台,所述曝光机构的下曝光台的上表面和所述吸附平台的上表面位于同一水平面;其中,所述曝光机构沿待加工柔性印刷电路板运送方向设于两个所述吸附平台之间,其中,所述待加工柔性印刷电路板包括曝光部和非曝光部;所述rtr曝光机优化改造涨缩方法包括:
2.根据权利要求1所述的rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于:所述电机倒转的时间为0.5s。
3.根据权利要求1所述的rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于:可通过所述电机对所述待加工柔性印刷电路板的推出量控制,当所述曝光部位于下游的所述吸附平台和所述下曝光台的上方后,驱动所述电机倒转前,所述下曝光台下游的一侧至少保留有所述电机倒转0.5s可拉回长度的所述待加工柔性印刷电路板余量。
4.根据权利要求1所述的rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于:所述第一支撑辊顶部边缘和所述第二支撑辊顶部边缘共同设于所述第一水平面上。
5.根据权利要求1所述的rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于:所述卷料放板旋转轴与所述卷料收板旋转轴共同设于第二水平面上,且所述第二水平面的水平高度低于所述第一水平面。
6.根据权利要求1所述的rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于:两个所述吸附平台镜像布置在所述曝光机构两侧。
7.根据权利要求1所述的rtr曝光机优化改造涨缩方法,其特征在于:所述加工仓中还包括水平仪,其中,所述水平仪下表面与所述吸附台面的上表面、所述下曝光台的上表面都处于所述第一水平面上。