显示面板、显示装置及显示面板的制备方法与流程

本公开涉及显示，尤其涉及一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法。

背景技术：

1、随着显示技术的发展，显示装置在人们的日常生活中的使用越来越广泛。

2、相关技术中，在制备显示装置中的显示面板时，例如会采用电子束蒸镀的方式制备显示面板中的相关膜层，例如金属层，但是电子束蒸镀时会产生x射线，x射线穿透力强，照射至位于显示面板的驱动电路的半导体层时，会造成半导体层中的薄膜晶体管的电性能参数发生改变，使薄膜晶体管的阈值电压漂移，进而影响驱动电路的正常工作。

技术实现思路

1、为了解决上述技术问题，本公开提供了一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，提高了驱动电路的工作稳定性，进而提高了显示面板的电性能稳定性。

2、第一方面，本公开提供了一种显示面板，包括：

3、衬底；

4、位于所述衬底上的驱动电路的半导体层；

5、位于所述半导体层背离所述衬底一侧的第一金属层；

6、其中，所述半导体层和所述第一金属层之间还设置有辐射吸收层。

7、第二方面，本公开还提供了一种显示装置，包括如第一方面任一项所述的显示面板。

8、第三方面，本公开还提供了一种显示面板的制备方法，包括：

9、在衬底上形成驱动电路的半导体层；

10、在所述半导体层背离所述衬底一侧形成辐射吸收层；

11、在所述辐射吸收层背离所述衬底的一侧电子束蒸镀形成第一金属层。

12、第四方面，本公开还提供了一种显示面板的制备方法，包括：

13、在衬底上形成驱动电路的半导体层；

14、形成光刻胶层；所述光刻胶层复用为辐射吸收层；

15、曝光显影图案化所述光刻胶层；

16、在所述光刻胶层的图案化镂空区中电子束蒸镀形成第一金属层；

17、剥离所述图案化的所述光刻胶层。

18、本公开实施例提供的技术方案与现有技术相比具有如下优点：

19、本公开提供的显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，显示面板包括位于半导体层和第一金属层之间的辐射吸收层，利用辐射吸收层吸收电子束蒸镀第一金属层时产生的x射线，避免x射线入射至驱动电路的半导体层，导致驱动电路中的薄膜晶体管的电性能参数发生改变，出现阈值电压漂移的问题，提高了驱动电路的工作稳定性，进而提高了显示面板的电性能稳定性。

技术特征：

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述辐射吸收层包括ⅲ-ⅴ族或ⅳ族半导体材料。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述辐射吸收层的材料带隙范围为1.0至5.0ev。

4.根据权利要求2或3所述的显示面板，其特征在于，所述辐射吸收层包括非晶硅层和/或非晶硒层。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述非晶硅层背离和/或朝向所述衬底的一侧设置有保护层。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述保护层包括氧化硅层或氮化硅层。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述辐射吸收层包括闪烁晶体层。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述闪烁晶体层包括csi、cdte、cdse，以及钙钛矿材料中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述辐射吸收层包括荧光材料和/或量子点材料掺杂层。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括多个微发光二极管；

11.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述驱动电路包括第二金属层；所述第二金属层位于所述第一金属层朝向所述衬底的一侧；所述第二金属层包括第二电极；所述驱动电路通过所述第二电极与所述键合结构电连接；所述辐射吸收层与所述第二电极同层设置，且包括镂空区，所述第二电极位于所述镂空区内。

12.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述驱动电路包括第二金属层；所述第二金属层位于所述第一金属层朝向所述衬底的一侧；所述第二金属层包括第二电极；所述驱动电路通过所述第二电极与所述键合结构电连接；所述辐射吸收层位于所述第二电极朝向所述衬底的一侧。

13.根据权利要求10所述的显示面板，其特征在于，所述驱动电路包括位于所述第一金属层朝向所述衬底一侧的至少一层平坦化层，所述平坦化层复用为所述辐射吸收层。

14.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-13中任一项所述的显示面板。

15.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

16.根据权利要求15所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第一金属层包括键合结构；在所述辐射吸收层背离所述衬底的一侧电子束蒸镀形成第一金属层之前，还包括：

17.根据权利要求16所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述半导体层背离所述衬底一侧形成辐射吸收层包括：

18.根据权利要求16所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述半导体层背离所述衬底一侧形成辐射吸收层包括：

19.根据权利要求16所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在形成第二金属层之前包括：形成至少一层平坦化层；所述平坦化层复用为所述辐射吸收层。

20.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

技术总结
本公开提供了一种显示面板、显示装置及显示面板的制备方法，显示面板包括：衬底；位于衬底上的驱动电路的半导体层；位于半导体层背离衬底一侧的第一金属层；其中，半导体层和第一金属层之间还设置有辐射吸收层。通过本公开的技术方案，避免X射线入射至驱动电路的半导体层，导致半导体层中的薄膜晶体管的电性能参数发生改变，阈值电压漂移的问题，提高了驱动电路的工作稳定性，进而提高了显示面板的电性能稳定性。

技术研发人员：何伟,冯彦贵,刘秀,曹炳俊,禹少荣
受保护的技术使用者：天马新型显示技术研究院（厦门）有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/4/17