一种光信噪比的测量方法及装置与流程

文档序号:12703016阅读:来源:国知局
一种光信噪比的测量方法及装置与流程

技术特征:
1.一种光信噪比的测量装置,其特征在于,所述装置包括:第一测量单元,用于获得待测光信号的第一光信噪比;第一处理单元,用于获得参考信号的功率变化参数;其中,所述参考信号所在通道与所述待测光信号所在通道位于同一光纤;第二处理单元,用于依据所述参考信号的功率变化参数,获得修正量;第二测量单元,用于依据所述修正量对所述第一光信噪比进行调整,以获得所述待测光信号的第二光信噪比;其中,所述参考信号包括所述光纤内与所述待测光信号相邻的至少两个信号,所述第一处理单元具体用于:获得所述参考信号中每个所述信号的第一功率和第二功率;所述第一功率为所述待测光信号对应的激光器在开启状态下所述信号的功率,所述第二功率为所述待测光信号对应的激光器在关闭状态下所述信号的功率;依据每个所述信号的所述第二功率与所述第一功率的差值,获得每个所述信号的功率变化参数。2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述参考信号包括所述光纤内在所述待测光信号的第一侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号,所述至少两个信号包括所述光纤内在所述待测光信号的第二侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号;所述第二处理单元具体用于:依据每个所述信号的功率变化参数,对至少两个所述信号的功率变化参数进行线性拟合,以获得第一功率变化拟合量;依据所述第一功率变化拟合量,获得所述修正量。3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述参考信号包括在所述待测光信号的第一侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号和在所述待测光信号的第二侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号,所述第二处理单元具体用于:依据在所述待测光信号的第一侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号中每个所述信号的功率变化参数,对所述至少两个信号的功率变化参数进行线性拟合,以获得第二功率变化拟合量;依据在所述待测光信号的第二侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号中每个所述信号的功率变化参数,对所述至少两个信号的功率变化参数进行线性拟合,以获得第三功率变化拟合量;依据所述第二功率变化拟合量和所述第三功率变化拟合量,获得所述修正量。4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述第二测量单元具体用于:依据所述修正量与所述第一光信噪比的和值,获得所述待测光信号的第二光信噪比。5.一种光信噪比的测量方法,其特征在于,所述方法包括:获得待测光信号的第一光信噪比;获得参考信号的功率变化参数;其中,所述参考信号所在通道与所述待测光信号所在通道位于同一光纤;依据所述参考信号的功率变化参数,获得修正量;依据所述修正量对所述第一光信噪比进行调整,以获得所述待测光信号的第二光信噪比;其中,所述参考信号包括所述光纤内与所述待测光信号相邻的至少两个信号,所述获得参考信号的功率变化参数,包括:获得所述参考信号中每个所述信号的第一功率和第二功率;所述第一功率为所述待测光信号对应的激光器在开启状态下所述信号的功率,所述第二功率为所述待测光信号对应的激光器在关闭状态下所述信号的功率;依据每个所述信号的所述第二功率与所述第一功率的差值,获得每个所述信号的功率变化参数。6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述参考信号包括所述光纤内在所述待测光信号的第一侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号,所述至少两个信号包括所述光纤内在所述待测光信号的第二侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号;所述依据所述参考信号的功率变化参数,获得修正量,包括:依据每个所述信号的功率变化参数,对至少两个所述信号的功率变化参数进行线性拟合,以获得第一功率变化拟合量;依据所述第一功率变化拟合量,获得所述修正量。7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述参考信号包括在所述待测光信号的第一侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号和在所述待测光信号的第二侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号,所述依据所述参考信号的功率变化参数,获得修正量,包括:依据在所述待测光信号的第一侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号中每个所述信号的功率变化参数,对所述至少两个信号的功率变化参数进行线性拟合,以获得第二功率变化拟合量;依据在所述待测光信号的第二侧与所述待测光信号相邻的至少两个信号中每个所述信号的功率变化参数,对所述至少两个信号的功率变化参数进行线性拟合,以获得第三功率变化拟合量;依据所述第二功率变化拟合量和所述第三功率变化拟合量,获得所述修正量。8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述依据所述修正量对所述第一光信噪比进行调整,以获得所述待测光信号的第二光信噪比,包括:依据所述修正量与所述第一光信噪比的和值,获得所述待测光信号的第二光信噪比。
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