1.一种光场成像设备，包括：
图像传感器，具有二维布置在其中的多个像素；
微透镜阵列，形成在图像传感器之上，所述微透镜阵列具有二维布置在其中的多个微透镜；以及
多个支撑结构，形成在图像传感器与微透镜阵列之间以用于在它们之间提供空气隙。
2.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个对应于多个像素。
3.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个具有多个顶点，并且所述多个顶点中的至少两个顶点与支撑结构重叠。
4.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个具有多个顶点，并且这些顶点中的沿对角线方向定位的两个顶点与支撑结构重叠。
5.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，当从上面看时，所述多个微透镜中的每个是多边形形状，所述多边形形状具有在各个顶点处倒圆的至少四个边。
6.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个包括半球形透镜或数字透镜。
7.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，所述多个支撑结构以之字形图案设置，以与所述多个微透镜的顶点重叠。
8.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，多个微透镜共享所述多个支撑结构中的每个。
9.根据权利要求1所述的光场成像设备，其中，所述多个支撑结构中的每个具有柱形形状。
10.一种光场成像设备，包括：
图像传感器，包括其中多个亚微透镜二维布置的亚微透镜阵列；
微透镜阵列，形成在图像传感器之上，并具有二维布置在其中的多个微透镜；以及
支撑结构，形成在图像传感器与微透镜阵列之间以用于在它们之间提供空气隙，
所述支撑结构包括：
多个第一支撑结构，形成在图像传感器之上以支撑微透镜阵列，并具有柱形形状；以及
第二支撑结构，耦接至第一支撑结构以接触微透镜阵列的底表面，并具有板形形状。
11.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个对应于多个亚微透镜。
12.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述亚微透镜不形成在与所述多个微透镜的各个顶点相对应的区域中。
13.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，形成在与所述多个微透镜的各个顶点相对应的区域中的亚微透镜具有与形成在其他区域中的亚微透镜不同的形状。
14.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述多个亚微透镜中的每个包括半球形透镜或数字透镜。
15.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，当从上面看时，所述多个亚微透镜中的每个是多边形形状或圆形形状，所述多边形形状具有至少四个边并且在各个顶点处被倒圆。
16.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个具有多个顶点，并且所述多个顶点中的至少两个顶点与第一支撑结构重叠。
17.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个具有多个顶点，并且这些顶点中的沿对角线方向定位的两个顶点与第一支撑结构重叠。
18.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，当从上面看时，所述多个微透镜中的每个是多边形形状，所述多边形形状具有至少四个边并且在各个顶点处被倒圆。
19.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述多个微透镜中的每个包括半球形透镜或数字透镜。
20.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述多个第一支撑结构以之字形图案设置，以与所述多个微透镜的顶点重叠。
21.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，多个微透镜共享所述多个第一支撑结构中的每个。
22.根据权利要求10所述的光场成像设备，其中，所述多个第一支撑结构中的每个包括具有圆柱体形状或空心柱形状的第一支撑层。
23.根据权利要求22所述的光场成像设备，其中，所述多个第一支撑结构中的每个还包括密封层，所述密封层形成在第一支撑层之上以填充由第一支撑层形成的内部空间。
24.根据权利要求23所述的光场成像设备，其中，密封层包括与所述多个微透镜或第一支撑层相同的材料。
25.根据权利要求22所述的光场成像设备，其中，所述第二支撑结构包括：
第二支撑层，从第一支撑层延伸，并接触所述多个微透镜的底表面；以及
多个开口，形成在所述多个微透镜之间的第二支撑层中。
26.根据权利要求25所述的光场成像设备，其中，第二支撑层与第一支撑层集成。
27.根据权利要求25所述的光场成像设备，其中，所述多个开口以之字形图案设置，以与所述多个第一支撑结构偏离。
28.根据权利要求25所述的光场成像设备，其中，所述多个第一支撑结构和所述多个开口彼此交替地设置。
29.一种用于制造光场成像设备的方法，包括：
准备其中多个像素二维布置的图像传感器；
在图像传感器之上形成牺牲层；
通过选择性地蚀刻牺牲层而形成多个第一开口；
在包括所述多个第一开口的结构之上形成支撑层；
在支撑层之上形成其中多个微透镜二维布置的微透镜阵列；
通过蚀刻所述多个微透镜之间的支撑层和牺牲层的部分而形成多个第二开口；以及
通过经由第二开口去除牺牲层而形成空气隙。
30.根据权利要求29所述的方法，还包括：
在形成牺牲层之前，在图像传感器之上形成第一保护层；以及
在形成所述多个第二开口之前，在微透镜阵列之上形成第二保护层。
31.根据权利要求30所述的方法，其中，第一保护层、第二保护层和支撑层由相对于牺牲层具有蚀刻选择性的材料制成。
32.根据权利要求29所述的方法，其中，在包括所述多个第一开口的结构的表面之上形成支撑层，以具有均匀的厚度。
33.根据权利要求32所述的方法，其中，支撑层形成为不完全填充所述多个第一开口。
34.根据权利要求29所述的方法，其中，所述多个微透镜中的每个具有多个顶点，并且形成为使得所述多个顶点中的至少两个顶点与形成在第一开口中的支撑层重叠。
35.根据权利要求29所述的方法，其中，所述多个微透镜中的每个具有多个顶点，并且形成为使得这些顶点中的沿对角线方向定位的两个顶点与形成在第一开口中的支撑层重叠。