光场成像模组的制作方法

文档序号:15108533发布日期:2018-08-04 17:50阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种光场成像模组,其特征在于,包括:

图像传感器,包括二维排列的感光单元;

第一基板以及形成在所述第一基板上的微透镜阵列,所述微透镜阵列包括多个微透镜单元,每个所述微透镜单元对应所述图像传感器的多个感光单元;

第二基板以及形成在所述第二基板上的透镜,所述透镜用于接收光线并经所述微透镜阵列入射到所述图像传感器上。

2.如权利要求1所述的光场成像模组,其特征在于,还包括第一反射基板,所述第一反射基板上设有第一反射面,所述第一反射面用于接收并反射由透镜透射过的光线。

3.如权利要求2所述的光场成像模组,其特征在于,还包括第二反射基板,所述第二反射基板上设有第二反射面,所述第二反射面用于接收并反射由第一反射面反射出的光线。

4.如权利要求1所述的光场成像模组,其特征在于,还包括间隙块,用于固定所述图像传感器、所述第一基板以及所述第二基板。

5.如权利要求2或3所述的光场成像模组,其特征在于,还包括间隙块,用于固定所述图像传感器与所述第一基板。

6.如权利要求1所述的光场成像模组,其特征在于,所述第一基板和/或第二基板为透明基板;所述第一基板和/或第二基板是玻璃或硅材料。

7.如权利要求1所述的光场成像模组,其特征在于,所述微透镜阵列是晶圆级微透镜阵列。

8.如权利要求1所述光场成像模组,其特征在于,所述微透镜阵列形成在所述第一基板的至少一个表面上。

9.如权利要求1所述的光场成像模组,其特征在于,所述透镜形成在所述第二基板的至少一个表面上。

10.如权利要求1所述的光场成像模组,其特征在于,所述图像传感器包括CCD或CMOS。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1