对焦补偿的方法及其设备与流程

本发明是有关于一种对焦补偿的方法及其设备，特别是有关于一种曝光机台的对焦补偿的方法及其设备。

背景技术

近年来，半导体集成电路的高集成化及微细化的需求，对于对焦的精度要求越加严格。以液晶显示器行业为例，随着对液晶屏幕分辨率的要求越来越高，产品对曝光机的对焦精度随着具有更高的要求。一般而言，目前技术主要通过曝光机对多个点位计测来提高对焦的稳定性。然而，显示器的低温多晶硅制程在实际曝光机的对焦使用上仍具有下述问题，例如：因低温多晶硅制程中层别堆叠复杂，且光罩自身平整度、挠曲量等参数，会对曝光机对焦的精度造成较大的影响。

故，有必要提供一种对焦补偿的方法，以解决现有技术所存在的问题。

技术实现要素：

有鉴于此，本发明提供一种对焦补偿的方法，以解决现有技术所存在的曝光机对焦精度不足的问题。

本发明的主要目的在于提供一种对焦补偿的方法，其可以改善曝光机对焦的精度。

本发明的次要目的在于提供一种对焦补偿的方法，其可以考量待测物自身平整度、挠曲量，进而对曝光机的对焦进行补正，以达到改善曝光机对焦的精度。

为达成本发明的前述目的，本发明一实施例提供一种对焦补偿的方法，其中所述对焦补偿的方法包含︰(s11)提供一曝光机镜组，具有一焦点；(s12)提供一待测物，对所述待测物以多个不同的对焦条件对多个线段的一轴线方向上的多个点进行量测多个线宽，以得到多个量测值，将所述多个量测值形成至少一线宽曲线；以及(s13)依照所述至少一线宽曲线对所述曝光机镜组的一对焦作业进行补正。

再者，本发明另一实施例另提供一种对焦补偿的设备，其中所述对焦补偿的设备包含︰一曝光机镜组，具有一焦点；一待测物平台，配置用以放置一待测物，所述曝光机镜组对所述待测物以多个不同的对焦条件对多个线段的一轴线方向上的多个点进行量测多个线宽，以得到多个量测值；一处理模组，配置用以将所述多个量测值形成至少一线宽曲线，并依照所述至少一线宽曲线生成一补偿信号；及一通信模组，配置用以将所述补偿信号传送至所述曝光机镜组，以所述曝光机镜组的一对焦作业进行补正。

在本发明的一实施例中，所述多个不同的对焦条件为将所述待测物置于多个不同焦平面下，并对所述待测物进行量测所述线宽。

在本发明的一实施例中，所述多个不同的对焦条件为将所述待测物置于五个焦平面下，其中所述五个焦平面为所述焦点-40微米、所述焦点-20微米、所述焦点、所述焦点+20微米及所述焦点+40微米。

在本发明的一实施例中，所述的步骤(s12)更包含：将所述焦点处量测的一第一线宽与所述线宽曲线中的最低点处的一第二线宽相减，以得到一补偿值；及利用所述补偿值对所述曝光机镜组的一对焦作业进行补正。

在本发明的一实施例中，所述的步骤(s12)更包含：对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点量测所述多个线宽，以得到多个线宽曲线；及通过所述多个线宽曲线得到多个补偿值，以利用所述多个补偿值将所述曝光机镜组对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点处的所述对焦作业进行补正。

在本发明的一实施例中，所述待测物平台包含一高度调整机构，配置用以将所述待测物平台设置为不同高度，用于将所述待测物置于多个不同焦平面下，并对所述待测物进行量测所述线宽。

在本发明的一实施例中，所述高度调整机构具有五个不同高度对应于所述曝光机镜组的五个焦平面，所述五个焦平面分别为所述焦点-40微米、所述焦点-20微米、所述焦点、所述焦点+20微米及所述焦点+40微米。

在本发明的一实施例中，所述处理模组更配置用以将所述焦点处量测的一第一线宽与所述线宽曲线中的最低点处的一第二线宽相减，以得到一补偿值并转换成所述补偿信号。

在本发明的一实施例中，所述曝光机镜组更包含多个镜组，配置用以同时对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点量测所述多个线宽，以得到多个线宽曲线；及所述处理模组，配置用以通过所述多个线宽曲线得到多个补偿值，以利用所述多个补偿值将所述曝光机镜组对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点处的所述对焦作业进行补正。

与现有技术相比较，本发明的对焦补偿的方法，这样不但可改善曝光机对焦的精度，还可以使得曝光机对焦考量待测物自身平整度、挠曲量，进而对曝光机的对焦进行补正，以达到改善曝光机对焦的精度。

为让本发明的上述内容能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：

附图说明

图1是本发明实施例的对焦补偿方法的流程示意图；

图2是本发明实施例对焦补偿设备的方块图；

图3是本发明实施例的对焦补偿方法的一待测物示意图；

图4是本发明实施例的对焦补偿方法量测的多个线宽曲线示意图；

图5a示出了本发明实施例的对焦补偿方法中对所述曝光机镜组的量测进行补正前的示意图；

图5b示出了本发明实施例的对焦补偿方法中对所述曝光机镜组的量测进行补正后的示意图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。再者，本发明所提到的方向用语，例如上、下、顶、底、前、后、左、右、内、外、侧面、周围、中央、水平、横向、垂直、纵向、轴向、径向、最上层或最下层等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。

本文所用术语“包含”、“具有”及其词形变化是指“包含但不限于”。

本文所用术语“一”、“一个”及“至少一”包含复数引用，除非上下文另有明确规定。例如，术语“一处理模组”或“至少一处理模组”可以包含多个处理模组，包含其组合物。

本文所用术语“多个”、“数个”除另有说明外皆可选自二个、三个或以上，而“至少一个”除另有说明外皆可选自一个、二个、三个或以上，于此合先叙明。

本文中所揭露的大小及数值不应意图被理解为严格限于所述精确数值。相反的，除非另外指明，各种大小旨在表示所引用的数值以及功能上与所述数值相同的范围。例如所揭露的大小为“10微米”是指“约10微米”。

本文所用术语“可选择地”表示在一些实施例中提供，而在其它实施例中不提供。任何本发明的特定实施例可以包含多个“可选择的”特征，除非此类特征相冲突。

请参照图1所示，本发明实施例的对焦补偿的方法主要包含以下步骤：(s11)提供一曝光机镜组，具有一焦点；(s12)提供一待测物，对所述待测物以多个不同的对焦条件对多个线段的一轴线方向上的多个点进行量测多个线宽，以得到多个量测值，将所述多个量测值形成至少一线宽曲线；以及(s13)依照所述至少一线宽曲线对所述曝光机镜组的一对焦作业进行补正。

本发明将于下文利用图1至图2逐一详细说明实施例上述各元件的细部构造、组装关系及其运作原理。

请参照图1、图2及图3所示，示出了本发明实施例的对焦补偿的方法及其设备中的一曝光机镜组21，例如使用于光刻工艺中的一曝光机台2中的所述曝光机镜组21，所述曝光机镜组21具有一焦点；所述曝光机台2更包含一待测物平台22，配置用以放置一待测物1。所述曝光机镜组21对所述待测物1以多个不同的对焦条件对多个线段的一轴线方向上的多个点进行量测多个线宽，以得到多个量测值；一处理模组24，配置用以将所述多个量测值形成至少一线宽曲线，并依照所述至少一线宽曲线生成一补偿信号；及一通信模组25，配置用以将所述补偿信号传送至所述曝光机镜组21，以所述曝光机镜组21的一对焦作业进行补正。所述待测物平台22包含一高度调整机构23，配置用以将所述待测物平台22设置为不同高度。根据本发明的一个示例性实施例，所述多个不同的对焦条件为将所述待测物1置于五个焦平面(31、32、33、34及35)下，其中所述五个焦平面为：第一焦平面31位于所述焦点-40微米处、第二焦平面32位于所述焦点-20微米处、第三焦平面33位于所述焦点处、第四焦平面34位于所述焦点+20微米处及第五焦平面35位于所述焦点+40微米处。所述高度调整机构23具有五个不同高度对应于所述曝光机镜组21的所述五个焦平面上。

请参照图3所示，所述曝光机镜组21对所述待测物1以多个不同的对焦条件对多个线段的一轴线方向上的多个点进行量测多个线宽，例如将所述待测物1置于多个不同焦平面下，量测所述待测物1上一线路的所述多个线段11的线宽。根据本发明的一个示例性实施例，当所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第一焦平面31(即位于所述焦点-40微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11于m3处量测所述多个线宽，以得到一第一量测值。接着，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第二焦平面32(即位于所述焦点-20微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11同样于m3处量测所述多个线宽，以得到一第二量测值。然后，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第三焦平面33(即位于所述焦点处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11同样于m3处量测所述多个线宽，以得到一第三量测值。再来，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第四焦平面34(即位于所述焦点+20微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11同样于m3处量测所述多个线宽，以得到一第四量测值。最后，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第五焦平面35(即位于所述焦点+40微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11同样于m3处量测所述多个线宽，以得到一第五量测值。将所述多个量测值(例如，所述第一量测值、所述第二量测值、所述第三量测值、所述第四量测值及所述第五量测值)绘制成一线宽曲线。

同样参照图3所示，本发明另一个实施中，更可以对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点量测所述多个线宽，以得到多个线宽曲线。例如，当所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第一焦平面31(即位于所述焦点-40微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11于m3处量测所述多个线宽，再沿y轴位移一距离于m4处量测所述多个线宽及最后沿y轴位移一距离于m5处量测所述多个线宽，以得到一第一量测值。接着，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第二焦平面32(即位于所述焦点-20微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11于m3处量测所述多个线宽，再沿y轴位移一距离于m4处量测所述多个线宽及最后沿y轴位移一距离于m5处量测所述多个线宽，以得到一第二量测值。然后，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第三焦平面33(即位于所述焦点处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11于m3处量测所述多个线宽，再沿y轴位移一距离于m4处量测所述多个线宽及最后沿y轴位移一距离于m5处量测所述多个线宽，以得到一第三量测值。再来，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第四焦平面34(即位于所述焦点+20微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11于m3处量测所述多个线宽，再沿y轴位移一距离于m4处量测所述多个线宽及最后沿y轴位移一距离于m5处量测所述多个线宽，以得到一第四量测值。最后，通过所述高度调整机构23将所述待测物平台22设置为所述第五焦平面35(即位于所述焦点+40微米处时)，沿着x轴的方向上，对所述待测物1的所述多个线段11于m3处量测所述多个线宽，再沿y轴位移一距离于m4处量测所述多个线宽及最后沿y轴位移一距离于m5处量测所述多个线宽，以得到一第五量测值。将所述多个量测值(例如，所述第一量测值、所述第二量测值、所述第三量测值、所述第四量测值及所述第五量测值)绘制成多个一线宽曲线。

请参照图4所示，示出了根据本发明对焦补偿的方法量测的多个线宽曲线示意图。根据量测到的所述多个量测值(例如，所述第一量测值、所述第二量测值、所述第三量测值、所述第四量测值及所述第五量测值)绘制成的所述多个线宽曲线(例如m3、m4及m5)。所述多个线宽曲线可以通过所述处理模组24将所述多个量测值形成所述多个线宽曲线。将所述焦点处量测的一第一线宽与所述线宽曲线中的最低点处的一第二线宽相减，以得到一补偿值。所述补偿值可以通过所述处理模组24或其他的处理模组处理将所述焦点处量测的一第一线宽与所述线宽曲线中的最低点处的一第二线宽相减来生成并转换成所述补偿信号。所述曝光机镜组21更可包含多个镜组，配置用以同时对所述多个线段11的多个轴线方向上的多个点(例如m3、m4及m5)量测所述多个线宽，以得到所述多个线宽曲线；及所述处理模组24，配置用以通过所述多个线宽曲线得到多个补偿值，以利用所述多个补偿值将所述曝光机镜组21对所述多个线段的多个轴线方向上的多个点处的所述对焦作业进行补正。

请参照图5a及图5b所示，图5a示出了本发明实施例的对焦补偿方法中对所述曝光机镜组21的量测进行补正前的示意图；图5b示出了本发明实施例的对焦补偿方法中对所述曝光机镜组21的量测进行补正后的示意图。图5a中量测的线宽与实际的线宽的精度不足，所述曝光机镜组21无法达到最佳的对焦。通过所述至少一线宽曲线得到至少一补偿值，对所述曝光机镜组21的一对焦作业进行补正后，如图5b所示，线宽的量测值较接近最佳量测值，大幅提升了对焦的精度。

如上所述，相较于现有对焦补偿的方法虽能通过曝光机对多个点位计测来提高对焦的稳定性，却也常层别堆叠复杂，且自身平整度、挠曲量等参数，而导致无法提供高精度的对焦等缺点，本发明对焦补偿的方法及其设备通过在待测物上量测多个线宽以对曝光机镜组的对焦作业进行补正，其确实可以有效改善曝光机对焦的精，进而提高对焦的稳定性。

相关技术人员将理解，为简单及清楚起见，在图中所示的元件不一定按比例绘制。也就是说，在各种实施例中，图示所选择的元件以强化功能的理解及功能的设置。在市面上实施的案例中，一般容易理解且可能是有用或必需的元件，为方便以下的实施例的示意图不一定会描述。另外应了解的是，描述或描绘一方法的实施例中的某些动作及/或步骤，不一定需要以特定的顺序出现，对于本领域的技术人员而言，这样的特异性序列不一定需要。另外要了解的是，在说明书中所使用的词汇及用语皆具有一般的含义，除非本文所记载的还有其他特定的含义，不然对于这些词汇及用语皆为各自相应领域调查及研究的含义。

虽然本发明的具体实施例在本文中已经有说明及描述，但应理解的是，通过本技术领域的技术人员可利用存在的各种替代及/或等效的方式实现。应当认识到，所述示例性实施例或示例性实施例仅作为示例，并不会限制其范围、适用性或配置。相反地，前面的概述及详细描述在至少一个示例性实施例中实施而为本领域的技术人员提供方便的指示，可理解的是，在不脱离所附属的权利要求及其合法规定的范围下，一个示例性实施例中描述的元件的功能及设置可以作出各种改变，在一般情况下，本申请案涵盖本文所讨论的具体实施例的任何修改或变更。

可以理解，本发明中的特定特征，为清楚起见，在分开的实施例的内文中描述，也可以在单一实施例的组合中提供。相反地，本发明中，为简洁起见，在单一实施例的内文中所描述的各种特征，也可以分开地、或者以任何合适的子组合、或者在适用于本发明的任何其他描述的实施例中提供。在各种实施例的内文中所描述的特定特征，并不被认为是那些实施方案的必要特征，除非该实施例没有那些元素就不起作用。

虽然本发明结合其具体实施例而被描述，应该理解的是，许多替代、修改及变化对于那些本领域的技术人员将是显而易见的。因此，其意在包含落入所附权利要求书的范围内的所有替代、修改及变化。