电镀强酸溶液液下图像监控装置及系统的制作方法

本发明涉及电镀强酸溶液液下图像监控技术，尤其涉及电镀强酸溶液液下图像监控装置及系统。

背景技术：

在电路板生产工艺中电镀是一种不可或缺的工艺，因此现代新型高尖端产品对电镀工艺也提出了更高的要求，我们除了从工艺上不断进行改进提高外，对生产过程中的实时监控也提出了新的要求，在强酸电镀液环境中进行检测显得尤为重要。

目前电镀过程中，电镀槽内的状况难以监测。电镀槽内为不低于20％浓度的强酸溶液环境，且电镀过程中高电流电场会对监测设备造成很大的干扰，因此难以及时监测到生产异常。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供能够用于电镀过程中图像监控的、耐酸抗干扰的电镀强酸溶液液下图像监控装置及系统。

以下给出一个或多个方面的简要概述以提供对这些方面的基本理解。此概述不是所有构想到的方面的详尽综览，并且既非旨在指认出所有方面的关键性或决定性要素亦非试图界定任何或所有方面的范围。其唯一的目的是要以简化形式给出一个或多个方面的一些概念以为稍后给出的更加详细的描述之序。

根据本发明的一方面，提供了一种电镀强酸溶液液下图像监控装置，包括微型摄像头、保护外壳、驱动组件、光导纤维线和控制器，所述保护外壳包括第一部分壳体和第二部分壳体，所述微型摄像头设置于所述第一部分壳体内，所述驱动组件与所述微型摄像头传动连接，所述微型摄像头借助所述光导纤维线与所述控制器连接，所述光导纤维线与所述微型摄像头连接的一端设置于所述第二部分壳体内。

在一实施例中，该装置的所述保护外壳包括设置于内侧的屏蔽层和设置于外侧的耐酸层。

在一实施例中，该装置的所述屏蔽层的材料为金属，所述屏蔽层的厚度为0.5mm～3mm。

在一实施例中，该装置的所述耐酸层的材料为透明的聚四氟乙烯，所述耐酸层的厚度为2mm～5mm。

在一实施例中，该装置的所述第一部分壳体的屏蔽层前端面开设有窗口，所述窗口的位置与所述微型摄像头的位置对应，所述窗口上覆盖有透明屏蔽膜。

在一实施例中，该装置的所述驱动组件包括x轴滑轨、x轴滑块、x轴驱动器、y轴滑轨、y轴滑块和y轴驱动器，所述x轴滑块滑动配接于所述x轴滑轨上，所述x轴滑块与所述x轴驱动器传动连接，所述y轴滑轨固定设置于所述x轴滑块上，所述y轴滑块滑动配接于所述y轴滑轨上，所述y轴滑块与所述y轴驱动器传动连接。

在一实施例中，该装置的所述第二部分壳体与所述y轴滑块固定连接，所述光导纤维线从所述第二部分壳体内穿出。

根据本发明的另一方面，还提供了一种电镀强酸溶液液下图像监控系统，包括上述任一权利要求所述的监控装置，还包括上位机和下位机，所述上位机和下位机均与所述监控装置信号连接。

在一实施例中，该的所述上位机为服务器，所述下位机为plc控制柜。

在一实施例中，该的所述服务器包括电镀监控模块、图像监控模块和报警模块，所述电镀监控模块与电镀槽系统信号连接，所述图像监控模块与监控装置信号连接，所述报警模块与报警器信号连接。

本发明实施例的有益效果是：通过将微型摄像头设置于保护外壳内，并利用驱动组件带动摄像头活动，从而使微型摄像头能够在电镀液液下监控电镀过程，从而能够及时查看电镀过程并发现异常。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

在结合以下附图阅读本公开的实施例的详细描述之后，能够更好地理解本发明的上述特征和优点。在附图中，各组件不一定是按比例绘制，并且具有类似的相关特性或特征的组件可能具有相同或相近的附图标记。

图1是本发明装置实施例的立体结构示意图。

图2是本发明系统实施例的服务器模块图。

其中：1-微型摄像头；21-第一部分壳体；22-第二部分壳体；21a-窗口；21b-前端面耐酸层；21c-透明屏蔽膜；3-光导纤维线；4-控制器；51-x轴滑轨；52-x轴滑块；61-y轴滑轨；62-y轴滑块。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明作详细描述。注意，以下结合附图和具体实施例描述的诸方面仅是示例性的，而不应被理解为对本发明的保护范围进行任何限制。

如图1所示，本发明公开了一种电镀强酸溶液液下图像监控装置，可安装于电镀槽上，其包括微型摄像头1、保护外壳、驱动组件、光导纤维线3和控制器4，保护外壳包括第一部分壳体21和第二部分壳体22，微型摄像头1设置于第一部分壳体21内，保护外壳由驱动组件驱动，从而能够上下、前后移动，甚至转动，以看清电路板各个部位的电镀情况。微型摄像头1借助光导纤维线3与控制器4连接，从而能够传输图像信号，光导纤维线3与微型摄像头1连接的一端设置于第二部分壳体22内，以保护浸没在电镀液内的部分。

由于电镀槽内为不低于20％浓度的强酸溶液环境，且电镀过程中高电流电场会对监测设备造成很大的干扰，因此，保护外壳包括设置于内侧的屏蔽层和设置于外侧的耐酸层。

在本实施例中，屏蔽层的材料为金属，优选为镁或铁，也可以采用其他能够屏蔽电磁信号的材料。屏蔽层的厚度优选为2mm。耐酸层的材料的聚四氟乙烯，聚四氟乙烯的化学性质十分稳定，且耐酸性极强。聚四氟乙烯层的厚度为4mm。需要注意的是，第一部分壳体21的前端面耐酸层21b需要是透明的，或者整个第一部分壳体21的耐酸层均可为透明。

为了能够让微型摄像头1清楚地拍到图像，在第一部分壳体21的屏蔽层前端面开设有窗口21a，窗口21a的位置与微型摄像头1的位置对应，窗口21a上覆盖有透明屏蔽膜21c。这样，在微型摄像头1的拍摄路径上均为透明材料，不影响其成像。

在可能的实施例中，驱动组件包括x轴滑轨51、x轴滑块52、x轴驱动器(图中未示出)、y轴滑轨61、y轴滑块62和y轴驱动器(图中未示出)，x轴滑块52滑动配接于x轴滑轨51上，x轴滑块52与x轴驱动器传动连接，例如可以通过丝杆与x轴驱动器连接，从而x轴驱动器能够驱动x轴滑块52沿着x轴滑轨51运动。同理，y轴滑轨61固定设置于x轴滑块52上，y轴滑块62滑动配接于y轴滑轨61上，y轴滑块62与y轴驱动器传动连接。第二部分壳体22与y轴滑块62固定连接，光导纤维线3从第二部分壳体22内穿出。在本实施例中，在y轴滑块62上还设置有用于固定光导纤维线3的固定卡扣。

本领域技术人员容易想到地，也可以在y轴滑块62上设置旋转马达和旋转轴承，将第二部分壳体22通过旋转轴承与y轴滑块62连接，以实现微型摄像头1的转动。

本发明实施例还公开了一种电镀强酸溶液液下图像监控系统，其包括上述任一实施例的监控装置，还包括上位机和下位机，上位机和下位机均与监控装置信号连接。连接方式既可以通过光纤连接，也可以通过无线网络信号连接。上位机和下位机的种类可以根据需要设置，在本实施例中，上位机为服务器，下位机为plc控制柜。还可以增设打印机等设备，以将拍摄的图像打印出来。

为了将监控装置与电镀槽的信息整合，可以在服务器设置统一管理的模块，例如可以包括电镀监控模块、图像监控模块和报警模块，其模块连接关系图如图2所示，其中，电镀监控模块与电镀槽系统信号连接，图像监控模块与监控装置信号连接，报警模块与报警器信号连接。这样操作人员就可以从一个系统同全面地掌握电镀过程，及时查看例如电镀温度、时间、溶液浓度等信息，并看到实际电镀液下情况。如果系统检测到异常，也可以通过声光等报警器及时提醒操作人员进行检查。

综上所述，本发明实施例通过将微型摄像头设置于保护外壳内，并利用驱动组件带动摄像头互动，从而使微型摄像头能够在电镀液液下监控电镀过程，从而能够及时查看电镀过程并发现异常。通过设置包括屏蔽层和耐酸层的保护壳，保证了摄像头在强酸强电流的环境中能够正常工作。通过服务器将监控装置与电镀槽的加工数据进行整合，方便对于电镀过程进行精确管理。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

提供对本公开的先前描述是为使得本领域任何技术人员皆能够制作或使用本公开。对本公开的各种修改对本领域技术人员来说都将是显而易见的，且本文中所定义的普适原理可被应用到其他变体而不会脱离本公开的精神或范围。由此，本公开并非旨在被限定于本文中所描述的示例和设计，而是应被授予与本文中所公开的原理和新颖性特征相一致的最广范围。

以上所述仅为本申请的较佳实例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请保护的范围之内。