一种磁吸式反光镜结构及其电子设备的制作方法

文档序号:19304495发布日期:2019-12-03 18:43阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种磁吸式反光镜结构,用于与电子设备的摄像头配合以调整所述摄像头的拍摄范围,其特征在于,所述磁吸式反光镜结构包括

壳体,所述壳体内置第一磁性元件,所述第一磁性元件用于将所述壳体吸附于所述电子设备设有所述摄像头的一端;以及

反光镜,所述反光镜设于所述壳体朝向所述摄像头的一面。

2.根据权利要求1所述的一种磁吸式反光镜结构,其特征在于,所述反光镜的反射面朝向所述摄像头设置。

3.根据权利要求2所述的一种磁吸式反光镜结构,其特征在于,所述反光镜包括玻璃层和设于所述玻璃层上的镀银层,所述镀银层用于形成所述反射面。

4.根据权利要求1至3任一所述的一种磁吸式反光镜结构,其特征在于,所述壳体设有凹槽,所述反光镜容置于所述凹槽内。

5.根据权利要求4所述的一种磁吸式反光镜结构,其特征在于,所述壳体包括上壳和下壳,所述上壳盖合连接于所述下壳,所述下壳的底面开设有所述凹槽。

6.根据权利要求5所述的一种磁吸式反光镜结构,其特征在于,所述下壳包括与所述下壳的底面相连的吸附面,所述第一磁性元件设于所述下壳内且临近所述吸附面设置,所述吸附面用于吸附至所述电子设备设有所述摄像头的一端,且所述吸附面与所述电子设备的接触面积小于或等于所述设备本体的设有所述摄像头的非显示区的面积。

7.根据权利要求1至3任一项所述的一种磁吸式反光镜结构,其特征在于,所述壳体上还设有发光部件,所述发光部件临近所述反光镜设置,所述发光部件用于增强待识别区域的亮度。

8.根据权利要求7所述的一种磁吸式反光镜结构,其特征在于,所述壳体上还设有激光发射器,所述激光发射器临近所述反光镜设置,所述激光发射器用于指示所述待识别区域。

9.一种电子设备,其特征在于,包括设备本体及磁吸式反光镜结构,所述设备本体设有摄像头及第二磁性元件,所述磁吸式反光镜结构包括壳体及反光镜,所述壳体内的第一磁性元件与所述第二磁性元件吸附连接,以使所述壳体吸附于所述设备本体,所述反光镜设于所述壳体朝向所述摄像头的一面。

10.根据权利要求9所述的一种电子设备,其特征在于,所述反光镜包括玻璃层和设于所述玻璃层上的镀银层,所述镀银层的表面形成反射面,所述反射面朝向所述摄像头设置。

11.根据权利要求9所述的一种电子设备,其特征在于,所述摄像头为前置摄像头,所述第二磁吸元件为多个,环设于所述摄像头的周围设置,所述第一磁性元件为多个,分别与多个所述第二磁性元件对应设置。

12.根据权利要求9至11任一所述的一种电子设备,其特征在于,所述设备本体包括设有显示屏的正面和与所述正面相对的背面,所述摄像头设于所述正面和/或所述背面,所述第一磁性元件可吸附设于所述正面或所述背面。

13.根据权利要求9至11任一所述的一种电子设备,其特征在于,所述壳体设有凹槽及避空槽,所述反光镜容置于所述凹槽内,所述避空槽与所述凹槽连通,且所述避空槽对应所述摄像头设置。

14.根据权利要求13所述的一种电子设备,其特征在于,所述壳体包括上壳和下壳,所述上壳盖合于所述下壳,且所述下壳的底面朝向所述上壳向内凹陷形成所述凹槽,所述避空槽开设于所述下壳的侧面。

15.根据权利要求14所述的一种电子设备,其特征在于,所述下壳包括与所述下壳的底面相连的吸附面,所述第一磁性元件设于所述下壳内且临近所述吸附面设置,所述吸附面用于吸附至所述设备本体上,且所述吸附面与所述设备本体的接触面积小于或等于所述设备本体的设有所述摄像头的非显示区的面积。

16.根据权利要求9至11任一项所述的一种电子设备,其特征在于,所述壳体上还设有发光部件,所述发光部件临近所述反光镜设置,所述发光部件用于增强待识别区域的亮度。

17.根据权利要求16所述的一种电子设备,其特征在于,所述壳体上还设有激光发射器,所述激光发射器临近所述反光镜设置,所述激光发射器用于指示所述待识别区域。

18.根据权利要求9至11任一项所述的一种电子设备,其特征在于,所述设备本体还设有与所述设备本体的主板电连接的霍尔开关,所述第一磁性元件与所述第二磁性元件吸附连接时,所述霍尔开关导通并输出信号至所述主板,以使所述主板控制所述摄像头启动。

19.根据权利要求10所述的一种电子设备,其特征在于,所述反光镜的所述反射面面积大于或等于100mm2,所述设备本体与放置所述设备本体的所在平面的夹角β范围为60°~80°,所述设备本体的显示面的所在平面与所述反光镜的所述反射面的所在平面之间的夹角α范围为50°~60°。

20.根据权利要求9至11任一项所述的一种电子设备,其特征在于,所述反光镜的反射率大于或等于90%。

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