专利名称：一种双层圆柱结构的钼隔热屏的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种隔热屏，具体涉及一种双层圆柱结构的钥隔热屏，主要应用于稀土冶炼，石英玻璃，电子喷涂，晶体生长等行业。
背景技术：
隔热屏，是一种用来把工作地点和高温散热源隔开，以降低工作地点辐射照度的装置，目前，随着电子行业的快速发展，对隔热屏的要求越来越严格，以蓝宝石单晶生长为例，由于其生长温度约为2050°C，所以要求隔热屏需要具有较高的机械和热负载能力，除此而外，高品质高熔点晶体的生长要求在相对纯净的环境下进行，目前国内提拉法和导膜法生长高熔点晶体时，普遍使用的隔热屏为单层结构，在高熔点晶体的生长过程中会有杂质挥发并进入晶体内部，从而影响晶体质量，且隔热屏中薄板未采用预留空间的搭接技术处 理，在经数次工艺后，由于隔热屏发生严重变形，影响热辐射的均匀性，进而改变坩埚温度场的对称性，使生长的晶体内应力很大甚至破裂。
实用新型内容为解决上述技术问题，本实用新型的目的是提出一种双层圆柱结构的钥隔热屏。本实用新型为完成上述目的采用如下技术方案一种双层圆柱结构的钥隔热屏，所述的钥隔热屏具有内外两层钥隔热屏，即具有内层钥隔热屏和外层钥隔热屏；内层钥隔热屏、外层钥隔热屏均为高纯高致密内部组织无缺陷的钥薄片折叠弯曲而成的空心圆柱体；内层钥隔热屏与外层钥隔热屏之间具有2-3mm的间隙，使得钥隔热屏在受热膨胀时不受挤压，不变形；内层钥隔热屏与外层钥隔热屏之间通过铆钉紧固为一体。本实用新型提出的一种双层圆柱结构的钥隔热屏，采用双层钥隔热屏的结构，提高了发热体发热量的使用效率，并大幅降低了钥隔热屏的变形量，避免了对热辐射均匀性的影响，提闻了晶体质量。
图I为本实用新型的结构示意图。图2为图I的A-A剖面图。图中I、内层钥隔热屏，2、外层钥隔热屏，3、铆钉。
具体实施方式
结合附图和具体实施例对本实用新型加以说明如图I、图2所示，一种双层圆柱结构的钥隔热屏，所述的钥隔热屏具有内外两层钥隔热屏，即具有内层钥隔热屏I、外层钥隔热屏2 ;内层钥隔热屏I、外层钥隔热屏2均为高纯高致密内部组织无缺陷的钥薄片折叠弯曲而成的空心圆柱体；内层钥隔热屏I与外层钥隔热屏2之间具有2-3mm的间隙，使得钥隔热屏在受热膨胀时不受挤压，不变形；内层钥隔热屏I与外层钥隔热屏2之间通过铆钉3紧固为一体。所述钥隔热屏的钥薄片厚度不均， 靠近坩埚的钥薄片厚度大于远离坩埚钥薄片的厚度。
权利要求1. 一种双层圆柱结构的钥隔热屏，其特征在于所述的钥隔热屏具有内外两层钥隔热屏，即具有内层钥隔热屏(I)和外层钥隔热屏(2);内层钥隔热屏(I)、外层钥隔热屏(2)均为高纯高致密内部组织无缺陷的钥薄片折叠弯曲而成的空心圆柱体；内层钥隔热屏(I)与外层钥隔热屏(2)之间具有2-3mm的间隙，内层钥隔热屏(I)与外层钥隔热屏(2)之间通过铆钉(3)紧固为一体。
专利摘要本实用新型涉及一种钼隔热屏，具体涉及一种双层圆柱结构的钼隔热屏；所述的钼隔热屏具有内外两层钼隔热屏，即具有内层钼隔热屏(1)和外层钼隔热屏(2)；内层钼隔热屏(1)、外层钼隔热屏(2)均为高纯高致密内部组织无缺陷的钼薄片折叠弯曲而成的空心圆柱体；内层钼隔热屏(1)与外层钼隔热屏(2)之间具有2-3mm的间隙，内层钼隔热屏(1)与外层钼隔热屏(2)之间通过铆钉(3)紧固为一体。本实用新型提出的一种双层圆柱结构的钼隔热屏，采用双层钼隔热屏的结构，提高了发热体发热量的使用效率，并大幅降低了钼隔热屏的变形量，避免了对热辐射均匀性的影响，提高了晶体质量。
文档编号C30B29/20GK202730311SQ201220342179
公开日2013年2月13日 申请日期2012年7月6日 优先权日2012年7月6日
发明者赵文普, 赵士刚, 王健, 李静静 申请人:洛阳高新四丰电子材料有限公司