用于改变X射线辐射的局部强度的自适应X射线滤波器的制作方法与工艺

文档序号:12040781阅读:来源:国知局
用于改变X射线辐射的局部强度的自适应X射线滤波器的制作方法与工艺

技术特征:
1.一种用于改变X射线辐射(2)的局部强度的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:-吸收X射线辐射(2)的第一液体(15),和-可电致变形的调节元件(17),所述调节元件(17)通过至少部分地挤压第一液体(15)而在各调节元件(17)的位置处改变第一液体(15)的层厚度,其中-对于X射线辐射(2)透明的柔性薄膜(10),所述柔性薄膜(10)将第一液体(15)与调节元件(17)隔离,-其中所述薄膜(10)可由调节元件(17)移动。2.根据权利要求1所述的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:所述调节元件(17)布置在与X射线辐射(2)垂直的平面内。3.根据权利要求1或2所述的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:布置在薄膜(10)下方的对X射线辐射透明的第二液体(16),所述第二液体的X射线辐射吸收特征类似于所述调节元件(17)的X射线辐射吸收特征。4.根据权利要求3所述的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:所述调节元件(17)被第二液体(16)包围。5.根据权利要求1或2所述的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:所述调节元件(17)包括至少一个电活性元件。6.根据权利要求1或2所述的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:所述调节元件(17)包括电活性聚合物。7.根据权利要求1或2所述的自适应X射线滤波器(1),其特征在于:布置在所述调节元件(17)上的杠杆设备(21),所述杠杆设备(21)将调节元件(17)的调节行程放大。8.一种用于通过自适应X射线滤波器(1)改变X射线辐射(2)的局部强度的方法,其特征在于:-自适应X射线滤波器(1)的布置在一个平面内的调节元件(17)可电致变形和/或由电气原因导致长度变化,-其中通过使所述调节元件(17)至少部分地挤压第一液体(15)改变 了被X射线辐射(2)透射的、吸收X射线辐射(2)的第一液体(15)的在各所述调节元件(17)的位置处的层厚度,-通过所述调节元件移动将第一液体与调节元件隔离的对于X射线辐射透明的柔性薄膜。
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