本实用新型涉及薄膜技术领域，尤其涉及一种硅油离型膜。
背景技术：
离型膜是指表面具有分离性的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性。
离型膜，又称剥离膜、隔离膜、分离膜、阻胶膜、离形膜、薄膜、塑料薄膜、掩孔膜、硅油膜、硅油纸、防粘膜、打滑膜、天那纸、离型纸。通常情况下为了增加塑料薄膜的离型力，会将塑料薄膜做等离子处理，或涂氟处理，或涂硅离型剂于薄膜材质的表层上，让它对于各种不同的有机压感胶可以表现出极轻且稳定的离型力。
由于离型膜具有隔离、填充、保护、易于剥离等优点，因此被广泛的应用于各种电子、通信、机械等领域中。
离型膜在使用过程中，存在如下问题：
1）不抗静电，容易积累灰尘，并且产生的静电荷积累后对电子产品产生致命性的破坏风险，严重影响着电子产品的使用寿命；
2）离型效果不佳，附着力大，不易剥离。
技术实现要素：
为了解决现有技术中的问题，本实用新型的目的是提供一种硅油离型膜。
为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种硅油离型膜，其特征在于，包括防静电层，基材层，锡箔层和硅油层，所述基材层一侧设置有防静电层，另一侧设置有锡箔层，所述基材层与锡箔层间设置有第一胶黏剂层，所述锡箔层外侧设置有硅油层，所述锡箔层与硅油层间设置有第二胶黏剂层。
优选的是，所述防静电层的厚度为5-10μm。
优选的是，所述基材层的厚度为20-50μm。
优选的是，所述锡箔层的厚度为100-200μm。
优选的是，所述硅油层的厚度为1-2μm。
优选的是，所述第一胶黏剂层采用的胶黏剂为聚酰胺胶黏剂。
优选的是，所述第一胶黏剂层的厚度为1-2μm。
优选的是，所述第二胶黏剂层采用的胶黏剂为硅胶胶黏剂。
优选的是，所述第二胶黏剂层的厚度为1-2μm。
优选的是，所述基材层为PET层。
与现有技术相比，本实用新型实现的有益效果：本实用新型硅油离型膜自上而下依次设置有防静电层，基材层，第一胶黏剂层，锡箔层，第二胶黏剂层和硅油层，防静电层的设置提高了硅油离型膜的防静电性能；基材层与锡箔层之间及锡箔层与硅油层之间分别设置有第一胶黏剂层和第二胶黏剂层，双重胶黏剂层的设置提高硅油离型膜的机械性能，防止存放及运输过程中出现基材层与硅油层的分离，影响硅油离型膜的正常使用；锡箔层可塑性强，锡箔层的设置便于硅油层的剥离，同时锡箔层设置在硅油层上方，为硅油层提供保护，避免硅油层受到紫外线的损害。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式来进一步详细说明本实用新型：
图1是本实用新型硅油离型膜的结构示意图。
其中：防静电层1，基材层2，锡箔层3，硅油层4，第一胶黏剂层5，第二胶黏剂层6。
具体实施方式
一种硅油离型膜，包括防静电层1，基材层2，锡箔层3和硅油层4，所述基材层2一侧设置有防静电层1，另一侧设置有锡箔层3，所述基材层2与锡箔层3间设置有第一胶黏剂层5，所述锡箔层3外侧设置有硅油层4，所述锡箔层3与硅油层4间设置有第二胶黏剂层6。
所述防静电层1的厚度为5-10μm，防静电层1的设置提高硅油离型膜的防静电性能，减少灰尘的堆积及积累的静电对电子产品带来的损坏。
所述基材层2为PET层，所述基材层2的厚度为20-50μm。
所述锡箔层3的厚度为100-200μm，锡箔层3的设置减少太阳光对硅油层4的直射，防止紫外线对硅油层4带来损害；同时，锡箔层3可塑性强，便于硅油层4的剥离。
锡箔层3位于基材层2与硅油层4之间，而非基材层2外侧，原因在于锡箔层3距离硅油层4越近，离型力越稳定。
所述硅油层4的厚度为1-2μm。
所述第一胶黏剂层5采用的胶黏剂为聚酰胺胶黏剂，所述第一胶黏剂层5的厚度为1-2μm；所述第二胶黏剂层6采用的胶黏剂为硅胶胶黏剂，所述第二胶黏剂层6的厚度为1-2μm。第一胶黏剂层5和第二胶黏剂层6的设置提高了硅油离型膜的机械性能，防止存放及运输过程中出现基材层2与硅油层4的分离，影响硅油离型膜的正常使用。
本实用新型的硅油离型膜抗静电，耐老化，离型力稳定。
上述的具体实施方式只是示例性的，是为了更好地使本领域技术人员能够理解本专利，不能理解为是对本专利包括范围的限制；只要是根据本专利所揭示精神的所作的任何等同变更或修饰，均落入本专利包括的范围。