防指纹低反射高强度防爆裂玻璃的制作方法

本发明涉及特种玻璃制备领域，特别是涉及一种防指纹低反射高强度防爆裂玻璃。

背景技术：

众所周知光在两种介质的界面上会发生反射现象，当光垂直照射到未镀膜的玻璃表面时，其反射光约占到入射光的8％。在很多光学元件的应用中，其表面的反射不仅影响光学元件的通光能量，而且这些反射光还会在仪器中形成杂散光，从而影响光学仪器的成像质量。为了解决这些问题，通常在光学元件的表面镀上一定厚度的单层或多层光学调节薄膜，目的是为了减少元件表面的反射光，这样的光学调节膜就是减反膜(anti-reflectionfilm)。

减反膜的主要作用是减少或消除光学元件表面的反射光，从而增加这些元件的透光量。

普通玻璃具有较高的反射系数，在阳光照射下会产生反光现象，使人无法看清玻璃后面的物体。为减少反光，增强视觉效果，降低玻璃表面的反射系数，确保玻璃在阳光下保持良好的透光率，出现了在普通玻璃上镀上减反膜的减反射玻璃。

现有的减反射玻璃多用于博物馆、珠宝商场的橱窗、展示柜等。现有的减反射玻璃通常使用的是钢化玻璃，存在至少千分之三的自爆率，难以同时满足稳定的高强度性能、光减反射控制和防指纹的要求。北京市曾发生一起因博物馆展示柜玻璃自爆导致展品被破坏，损失达百万元。同时，普通的减反射玻璃不具备防指纹功能，容易脏污不易清洗。

技术实现要素：

基于此，本发明的目的在于提供一种防指纹低反射高强度防爆裂玻璃。

一种防指纹低反射高强度防爆裂玻璃，其包括第一化学强化高铝玻璃、第二化学强化高铝玻璃以及位于该第一化学强化高铝玻璃与该第二化学强化高铝玻璃之间的夹层，其中，在该第一化学强化高铝玻璃远离该第二化学强化高铝玻璃的表面上依次形成有第一光学调节膜及第一防指纹膜，在该第二化学强化高铝玻璃远离该第一化学强化高铝玻璃的表面上依次形成有第二光学调节膜及第二防指纹膜；该第一化学强化高铝玻璃与该第二化学强化高铝玻璃的厚度分别为0.1～19毫米，该第一光学调节膜或该第二光学调节膜分别包括多层光学调节层，该多层光学调节层由高折射率层和低折射率层依次层叠形成。

一种防指纹低反射高强度防爆裂玻璃，其包括第一化学强化高铝玻璃、第二化学强化高铝玻璃以及位于该第一化学强化高铝玻璃与该第二化学强化高铝玻璃之间的夹层，其中，在该第一化学强化高铝玻璃远离该第二化学强化高铝玻璃的表面上依次形成有第一光学调节膜及第一防指纹膜，在该第二化学强化高铝玻璃远离该第一化学强化高铝玻璃的表面上依次形成有第二光学调节膜及第二防指纹膜。

该第一化学强化高铝玻璃或该第二化学强化高铝玻璃的厚度为0.1～19毫米。

该夹层由eva、pvb或sgp形成，该夹层的厚度为0.3～20毫米。

该第一防指纹膜或该第二防指纹膜的厚度为10纳米～100微米。

该第一防指纹膜或该第二防指纹膜的由聚四氟乙烯、有机硅或类金刚石形成，水接触角大于90°。

该第一光学调节膜或该第二光学调节膜的厚度为0.1～1微米。

该第一光学调节膜包括多层光学调节层，该多层光学调节层由高折射率层和低折射率层依次层叠形成。

在该多层减反层中，最靠近该第一化学强化高铝玻璃表面的为高折射率介质层，远离该第一化学强化高铝玻璃表面的最外层为低折射率介质层。

一种防指纹低反射高强度防爆裂玻璃，其包括第一化学强化高铝玻璃、第二化学强化高铝玻璃以及位于该第一化学强化高铝玻璃与该第二化学强化高铝玻璃之间的夹层，其中，在该第一化学强化高铝玻璃远离该第二化学强化高铝玻璃的表面上依次形成有第一光学调节膜及第一防指纹膜，在该第二化学强化高铝玻璃远离该第一化学强化高铝玻璃的表面上形成有第二光学调节膜。

上述防指纹低反射高强度防爆裂玻璃具有夹层、光学调节膜及防指纹膜，这样的配合结构可以解决普通减反射玻璃的自爆、防盗、脏污的问题，且具有持久稳定高强度性能、可见光减反射控制和防指纹功能的优点。

附图说明

图1为本发明一实施例的防指纹低反射高强度防爆裂玻璃的剖面示意图。

图2为图1中第一光学调节膜的放大示意图。

图3为本发明另一实施例的防指纹低反射高强度防爆裂玻璃的剖面示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面对本发明进行更全面的描述。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

请参见图1，其为本发明一实施例的防指纹低反射高强度防爆裂玻璃的剖面示意图。防指纹低反射高强度防爆裂玻璃10包括夹层11、第一化学强化高铝玻璃12、第二化学强化高铝玻璃13、第一光学调节膜14、第二光学调节膜15、第一防指纹膜16及第二防指纹膜17。其中，夹层11位于第一化学强化高铝玻璃12与第二化学强化高铝玻璃13之间。第一光学调节膜14与第一防指纹膜16依次形成于第一化学强化高铝玻璃12远离第二化学强化高铝玻璃13的表面上；第二光学调节膜15与第二防指纹膜17依次形成于第二化学强化高铝玻璃13远离第一化学强化高铝玻璃12的表面上。

具体在本实施例中，夹层11可由聚乙烯-聚醋酸乙烯酯共聚物(eva)、聚乙烯醇缩丁醛(pvb)或离子性中间膜(sentryglassplus，sgp)形成，其厚度可为0.3～20毫米。

第一化学强化高铝玻璃12或第二化学强化高铝玻璃13的厚度可为厚度为0.1～19毫米。

第一防指纹膜16或第二防指纹膜17可由聚四氟乙烯、有机硅或类金刚石形成，其水接触角可大于90°，其厚度可为10纳米～100微米；优选的，第一防指纹膜16或第二防指纹膜17的厚度可为0.1～10微米。

第一光学调节膜14或第二光学调节膜15的厚度可为0.1～1微米。第一光学调节膜14或第二光学调节膜15可包括多层光学调节层，该多层光学调节层由高折射率层和低折射率层依次层叠形成。请参见图2，以第一光学调节膜14为例，第一光学调节膜14包括第一高折射率介质层141，第一低折射率介质层142，第二高折射率介质层143及第二低折射率介质层144；其中，第一高折射率介质层141最靠近第一化学强化高铝玻璃12，第二低折射率介质层144最远离第一化学强化高铝玻璃12；换言之，最靠近第一化学强化高铝玻璃12表面的为高折射率介质层，远离第一化学强化高铝玻璃12表面的最外层为低折射率介质层。

上述防指纹低反射高强度防爆裂玻璃10具有夹层、光学调节膜及防指纹膜，这样的配合结构可以完全解决普通减反射玻璃的自爆、防盗、脏污的问题，提供一种具有持久稳定高强度性能、可见光减反射控制和防指纹功能的夹层玻璃。上述防指纹低反射高强度防爆裂玻璃10可用作展示柜、展示窗玻璃等，例如博物馆中的展示柜、展示窗的玻璃。

请参见图3，所示为本发明另一实施例的防指纹低反射高强度防爆裂玻璃的剖面示意图。防指纹低反射高强度防爆裂玻璃30与防指纹低反射高强度防爆裂玻璃10相似，包括夹层31、第一化学强化高铝玻璃32、第二化学强化高铝玻璃33、第一光学调节膜34、第二光学调节膜35及第一防指纹膜36。其中，夹层31位于第一化学强化高铝玻璃32与第二化学强化高铝玻璃33之间。第一光学调节膜34与第一防指纹膜36依次形成于第一化学强化高铝玻璃32远离第二化学强化高铝玻璃33的表面上；第二光学调节膜35形成于第二化学强化高铝玻璃33远离第一化学强化高铝玻璃32的表面上。

具体实施例1

防指纹低反射高强度防爆裂玻璃的组成结构为：第一防指纹膜(4μm)/第一光学调节膜(400nm)/第一化学强化高铝玻璃(3mm)/pvb夹层(0.76mm)/化学强化高铝玻璃(3mm)/第二光学调节膜(400nm)/第二防指纹膜(4μm)。

具体实施例2

防指纹低反射高强度防爆裂玻璃的组成结构为：第一防指纹膜(5μm)/第一光学调节膜(560nm)/第一化学强化高铝玻璃(3mm)/sgp夹层(0.76mm)/化学强化高铝玻璃(3mm)/第二光学调节膜(400nm)。

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本发明，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容做出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本发明技术方案内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。