转移制品的制作方法
本公开涉及转移制品。本公开还提供使用这些转移制品的方法。
背景技术：
许多电子设备对环境气体和液体敏感，并且在环境气体和液体诸如氧气和水蒸气的渗透时易于劣化。无机或混合无机/有机层已在用于电气、封装和装饰性应用的薄膜中使用以防止劣化。例如，无机或混合无机/有机层的多层叠堆可用于制造耐湿气渗透的阻挡膜。在一些情况下，这些无机或混合无机/有机层可能需要在没有剥离层的情况下被转移。虽然现有技术的技术可能是有用的，但仍存在对可用于防止无机或混合无机/有机层在它们被转移时受到损坏的更好的转移制品的需要。
技术实现要素：
因此，在一个方面，本公开提供一种转移制品，该转移制品包括：剥离层，其中该剥离层包含金属层或掺杂半导体层；以及第一丙烯酸酯层，该第一丙烯酸酯层覆盖该剥离层；其中该剥离层和该第一丙烯酸酯层之间的剥离值为2至50克/英寸。
在另一方面，本公开提供一种方法，包括：将本公开的转移制品施加到感兴趣的表面；以及将该剥离层从该转移制品移除，其中该第一丙烯酸酯层保留在该感兴趣的表面上。
已汇总了本公开的示例性实施方案的各个方面和优势。以上发明内容并不旨在描述本公开的每个例示的实施方案或每种实施方式。另外的特征和优点在随后的实施方案中公开。下面的附图和具体实施方式更具体地举例说明了使用本文所公开的原理的某些实施方案。
定义
对于以下给出定义的术语，除非基于以下定义中使用的术语的修改形式的具体引用，在权利要求中或在说明书中的其它地方提供了不同的定义，否则整个说明书、包括权利要求都应该以这些定义为准：
关于数值或形状的术语“约”或“大约”意指数值或性能或特性的+/-5％，但是也明确包括在数值或性能或特性的+/-5％内的任何窄范围以及精确的数值。例如，“约”100℃的温度是指从95℃到105℃的温度(包括端值)，但是也明确包括任何更窄的温度范围或甚至在该范围内的单个温度，包括例如精确为100℃的温度。例如，“约”1pa-sec的粘度是指粘度为0.95pa-sec至1.05pa-sec，但也明确地包括刚好1pa-sec的粘度。类似地，“基本上正方形”的周边旨在描述具有四条侧棱的几何形状，其中每条侧棱的长度为任何其它侧棱的长度的95％至105％，但也包括其中每条侧棱刚好具有相同长度的几何形状。
关于属性或特征的术语“基本上”意指该属性或特征表现出的程度大于该属性或特征的相背对面表现出的程度。例如，“基本上”透明的基底是指与不透射(例如，吸收和反射)相比透射更多辐射(例如，可见光)的基底。因此，透射入射在其表面上的可见光多于50％的基底是基本上透明的，但透射入射在其表面上的可见光的50％或更少的基底不是基本上透明的。
关于平均剥离力的术语“剥离值”由实施例中的t-剥离测试方法的测试或180°剥离测试方法的测试确定。
术语“一个”、“一种”和“该/所述”包括多个指代物，除非本文内容另外明确指明。因此，例如，提及包含“一种化合物”的材料包括两种或更多种化合物的混合物。
附图说明
结合附图考虑本公开的各种实施方案的以下详细描述可更全面地理解本公开，其中：
图1是根据本发明的示例性转移制品的侧视图。
虽然可能未按比例绘制的以上附图示出了本公开的各种实施方案，但还可以设想其它实施方案，如在具体实施方式中所指出。在所有情况下，本公开通过示例性实施方案的表示而非通过表达限制来描述当前公开的发明。应当理解，本领域的技术人员可想出许多其它修改和实施方案，这些修改和实施方案落在本公开的范围和实质内。
具体实施方式
在详细解释本公开的任何实施方案之前，应当理解在本申请中本发明不限于在下文描述中提及的部件的使用、构造和布置的细节。本发明容许其它实施方案并且容许以各种方式操作或进行，对于本领域的普通技术人员而言，在阅读本公开时，这些方式将显而易见。另外还应理解，本文中所用的用语和术语均出于说明目的，不应被视为限制性的。本文中“包括”、“包含”或“具有”以及其变型的使用意指涵盖其后所列举的项目及其等同形式以及附加的项目。应当理解，可利用其它的实施方案，并且可在不脱离本发明范围的前提下，作出结构变化或逻辑变化。
如本说明书所使用，通过端点表述的数值范围包括该范围内所包含的所有数值(例如1至5包括1、1.5、2、2.75、3、3.8、4和5等)。
除非另外指明，否则本说明书和实施方案中所使用的表达量或成分、特性测量等的所有数值在所有情况下均应理解成由术语“约”来修饰。因此，除非有相反的说明，否则在上述说明书和所附实施方案列表中示出的数值参数可根据本领域的技术人员利用本公开的教导内容寻求获得的期望属性而变化。最低程度上说，并且在不试图将等同原则的应用限制到受权利要求书保护的实施方案的范围内的情况下，每个数值参数应至少根据所报告的数值的有效数位的数量并通过应用惯常的四舍五入法来解释。
剥离层通常用于剥离功能层并且使功能层能够转移到制品或装置的另一个基材或表面。这种剥离力应当以足够低的剥离力发生，使得功能层在转移期间不显著改变。另外，功能层的剥离力不应显著改变被转移到的制品或装置。许多剥离衬垫材料例如硅树脂和含氟聚合物具有超低表面能，并且可以是难以将丙烯酸酯均匀地涂覆到剥离层上而不发生脱湿问题的。剥离层的另外的常见问题是从剥离层到最终功能层的可能的污染。熟知的示例是硅树脂材料从硅树脂剥离衬垫到被转移的功能层的表面的转移。本公开提供一种转移制品，该转移制品具有对被转移的功能层的降低的污染可能性和对剥离表面的改善的可涂覆性。例如，本公开的转移制品可用于有机发光二极管oled)装置。如果剥离层和oled装置之间的粘附性过高，则当转移制品被转移时，将对oled装置造成损坏。
本公开提供转移制品和使用这些转移制品的方法。现在参考图1，示出根据本公开的示例性转移制品100。转移制品100包括剥离层110和第一丙烯酸酯层120，该第一丙烯酸酯层120覆盖剥离层110。剥离层110可包括金属层或掺杂半导体层。在图1所示的实施方案中，第一丙烯酸酯层120与剥离层110直接接触。转移制品100还可包括垫在剥离层110下面的基材130。在图1所示的实施方案中，基材130与剥离层110直接接触。在其它实施方案中，在基材130和剥离层110之间可存在另外的层。在一些实施方案中，转移制品100还可包括覆盖第一丙烯酸酯层120的粘合剂层140。在一些实施方案中，转移制品100还可包括覆盖第一丙烯酸酯层120的第二丙烯酸酯层。
在一些实施方案中，剥离层110和第一丙烯酸酯层120之间的剥离值小于50克/英寸、40克/英寸、30克/英寸、20克/英寸、15克/英寸、10克/英寸、9克/英寸、8克/英寸、7克/英寸、6克/英寸、5克/英寸、4克/英寸或3克/英寸。在一些实施方案中，剥离层110和第一丙烯酸酯层120之间的剥离值大于1克/英寸、2克/英寸、3克/英寸或4克/英寸。在一些实施方案中，剥离层110和第一丙烯酸酯层120之间的剥离值为1至50克/英寸、1至40克/英寸、1至30克/英寸、1至20克/英寸、1至15克/英寸、1至10克/英寸、1至8克/英寸、2至50克/英寸、2至40克/英寸、2至30克/英寸、2至20克/英寸、2至15克/英寸、2至10克/英寸或2至8克/英寸。
本申请的转移制品100可用于转移第一丙烯酸酯层120而不需要剥离层，使得第一丙烯酸酯层120和/或基材130可重复使用。转移制品100可施加到感兴趣的表面，例如oled装置，其中第一丙烯酸酯层120接触感兴趣的表面。在转移制品100施加到感兴趣的表面之后，剥离层110和基材130(如果存在)可从转移制品100移除。第一丙烯酸酯层120保留在感兴趣的表面上。在一些实施方案中，可选的粘合剂层可帮助第一丙烯酸酯层120粘附到感兴趣的表面。
剥离层
剥离层110可包括金属层。金属层可包括选自以下的至少一种：单独的金属、作为混合物的两种或更多种金属、金属间化合物或合金、半金属或准金属、金属氧化物、金属和混合金属氧化物、金属和混合金属氟化物、金属和混合金属氮化物、金属和混合金属碳化物、金属和混合金属碳氮化物、金属和混合金属氮氧化物、金属和混合金属硼化物、金属和混合金属氧硼化物、金属和混合金属硅化物、类金刚石碳、类金刚石玻璃、石墨烯以及它们的组合物。在一些实施方案中，金属层可便利地由厚度介于1-3000nm之间的al、zr、cu、nicr、ti或nb形成。
剥离层110可包括掺杂半导体层。在一些实施方案中，掺杂半导体层可便利地由厚度介于1-3000nm之间的si、掺杂b的si、掺杂al的si、掺杂p的si形成。特别合适的掺杂半导体层为掺杂al的si，其中al组成百分比为10％。
剥离层通常可以通过蒸发、反应蒸发、溅射、反应溅射、化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积和原子层沉积来制备。优选的方法包括真空制备，诸如溅射和蒸发。
基材
基材130可以是可热收缩的。可热收缩基材可在预先确定的温度下收缩。合适的基材130可以便利地是通过任何合适的手段加工成可热收缩的有机聚合物层。可通过使半结晶或非晶态聚合物在高于它们的玻璃化转变温度tg的温度下取向，然后进行冷却来使得半结晶或非晶态聚合物可热收缩。可用的半结晶聚合物膜的示例包括：聚烯烃类，诸如聚乙烯(pe)、聚丙烯(pp)和间规聚苯乙烯(sps)；聚酯类，诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)和聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯；含氟聚合物，诸如聚偏二氟乙烯和乙烯:四氟乙烯共聚物(etfe)；聚酰胺类，诸如尼龙6和尼龙66；聚苯醚和聚苯硫醚。非晶态聚合物膜的示例包括聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)、聚酰亚胺(pi)、聚碳酸酯(pc)、聚醚砜(pes)、无规聚苯乙烯(aps)、聚氯乙烯(pvc)以及基于降冰片烯的环状烯烃聚合物(cop)和环状烯烃共聚物(coc)。一些聚合物材料可以半结晶形式和非晶态形式两者获得。通过加热到峰值结晶温度并进行冷却也可使得半结晶聚合物诸如以上列举的那些可热收缩。
认为与厚度为大约0.002英寸(0.05mm)的双轴取向或单轴取向聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)是便利的选择，双轴取向聚丙烯(bopp)膜也是。双轴取向聚丙烯(bopp)可从若干供应商处商购获得，包括：得克萨斯州休斯顿的埃克森美孚化工公司(exxonmobilchemicalcompanyofhouston,texas)；英国史云顿的大陆聚合物公司(continentalpolymersofswindon,uk)；台湾台北市的凯泽斯国际公司(kaisersinternationalcorporationoftaipeicity,taiwan)以及印度尼西亚雅加达的ptindopolyswakarsa工业公司(isi)(ptindopolyswakarsaindustry(isi)ofjakarta,indonesia)。
丙烯酸酯层
第一丙烯酸酯层和第二丙烯酸酯层可由相同材料或不同材料制成。在一些实施方案中，第一丙烯酸酯层或第二丙烯酸酯层可包括丙烯酸酯或丙烯酰胺。当要通过单体闪蒸、气相沉积随后进行交联形成丙烯酸酯层时，可挥发的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯(在本文中称为“(甲基)丙烯酸酯”)或者丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺(在本文中称为“(甲基)丙烯酰胺”)是可用的，其中优选可挥发的丙烯酸酯单体。合适的(甲基)丙烯酸酯或(甲基)丙烯酰胺单体具有足够的蒸气压力以在蒸发器中蒸发并在蒸气涂覆机中冷凝成液体或固体涂层。
合适的单体的示例包括但不限于：二丙烯酸己二醇酯；丙烯酸乙氧乙酯；氰基乙基(单)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸异冰片酯；丙烯酸十八烷基酯；丙烯酸异癸酯；丙烯酸月桂酯；丙烯酸β-羧乙酯；丙烯酸四氢糠基酯；二腈丙烯酸酯；丙烯酸五氟苯基酯；硝基苯基丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯；2,2,2-三氟甲基(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇二丙烯酸酯；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯；三丙二醇二丙烯酸酯；四乙二醇二丙烯酸酯；新戊二醇二丙烯酸酯；丙氧基化新戊二醇二丙烯酸酯；聚乙二醇二丙烯酸酯；四乙二醇二丙烯酸酯；双酚a环氧二丙烯酸酯；1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯；三羟甲基丙烷三丙烯酸酯；乙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯；丙氧基化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯；三(2-羟乙基)-异氰脲酸酯三丙烯酸酯；季戊四醇三丙烯酸酯；苯硫基乙基丙烯酸酯；萘氧乙基丙烯酸酯；新戊二醇二丙烯酸酯、miramerm210(可购自韩国的美源特殊化工株式会社(miwonspecialtychemicalco.,ltd.,korea))、kayaradr-604(可购自日本东京的日本化药株式会社(nipponkayakuco.,ltd.,tokyo,japan))、产品编号为rdx80094的环氧丙烯酸酯(可购自美国新泽西州费尔菲尔德的radcure公司(radcurecorp.,fairfield,n.j.))；以及它们的混合物。聚合物层中可以包括多种其它可固化材料，诸如像乙烯基醚、乙烯基萘、丙烯腈，以及它们的混合物。
特别地，三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯被认为是合适的。它可通过例如冷凝的有机涂层，随后进行uv、电子束或等离子体引发的自由基聚合来便利地施加。厚度介于约10nm到10000nm之间被认为是便利的，其中厚度近似介于约10nm到5000nm之间被认为是特别合适的。在一些实施方案中，有机层的厚度可介于约10nm和3000nm之间。
在一些实施方案中，丙烯酸酯层(例如，低折射率亚波长薄膜)可用作抗反射涂层的一部分。单一丙烯酸酯层可提供改善的光学性能。在一些实施方案中，丙烯酸酯层可以是基本上透明的。在一些实施方案中，丙烯酸酯层可由于它的气体渗透特性而气体分离方法中用于隔膜内部。在一些实施方案中，当丙烯酸酯层被转移到易刮擦基材时，丙烯酸酯层可用于提供防刮擦/打磨特性。
粘合剂层
粘合剂层140可包括粘弹性或弹性体粘合剂。粘弹性或弹性体粘合剂可包括美国专利申请公布2016/0016338(radcliffe等人)中描述的那些，例如压敏粘合剂(psa)、橡胶类粘合剂(例如，橡胶、聚氨基甲酸酯)和有机硅类粘合剂。粘弹性或弹性体粘合剂还包括热活化粘合剂，其在室温下不发粘，但在高温下变得暂时发粘并且能够粘结到基材。热活化粘合剂在活化温度下被活化，并且在温度高于活化温度时具有与psa相似的粘弹性特征。粘弹性或弹性体粘合剂可为基本上透明的和光学透明的。本说明书所述的任何粘弹性或弹性体粘合剂可以是粘弹性光学透明的粘合剂。弹性体材料可具有大于约20％、或大于约50％、或大于约100％的断裂伸长率。粘弹性或弹性体粘合剂层可作为基本上100％的固体粘合剂直接应用，或者可以通过涂覆溶剂型粘合剂并蒸发溶剂而形成。粘弹性或弹性体粘合剂可为热熔融粘合剂，该热熔融粘合剂可被熔融、以熔融形式施加并且然后被冷却以形成粘弹性或弹性体粘合剂层。合适的粘弹性或弹性体粘合剂包括弹性聚氨酯或有机硅粘合剂以及粘弹性光学透明的粘合剂cef22、817x和818x，以上所有均可购自明尼苏达州圣保罗的3m公司(3mcompany,st.paul,minn)。其它可用的粘弹性或弹性体粘合剂包括基于苯乙烯嵌段共聚物、(甲基)丙烯酸嵌段共聚物、聚乙烯醚、聚烯烃和聚(甲基)丙烯酸酯的psa。粘合剂层可包括uv固化粘合剂。
以下实施方案旨在举例说明本公开而非进行限制。
具体实施方式
实施方案1是一种转移制品，该转移制品包括：
剥离层，其中该剥离层包含金属层或掺杂半导体层；和
第一丙烯酸酯层，该第一丙烯酸酯层覆盖该剥离层；
其中该剥离层和该第一丙烯酸酯层之间的剥离值为2至50克/英寸。
实施方案2是根据实施方案1所述的转移制品，其中该剥离层和该第一丙烯酸酯层之间的该剥离值为2至40克/英寸。
实施方案3是根据实施方案1至2中任一项所述的转移制品，其中该剥离层和该第一丙烯酸酯层之间的该剥离值为2至30克/英寸。
实施方案4是根据实施方案1至3中任一项所述的转移制品，其中该剥离层和该第一丙烯酸酯层之间的该剥离值为2至15克/英寸。
实施方案5是根据实施方案1至4中任一项所述的转移制品，该转移制品还包括覆盖该剥离层的基材。
实施方案6是根据实施方案5所述的转移制品，其中该基材是可热收缩的。
实施方案7是根据实施方案6所述的转移制品，其中该可热收缩基材包含有机聚合物。
实施方案8是根据实施方案6所述的转移制品，其中该可热收缩基材在预先确定的温度下收缩。
实施方案9是根据实施方案1至4中任一项所述的转移制品，该转移制品还包括粘合剂层。
实施方案10是根据实施方案1至9中任一项所述的转移制品，其中该金属层包含选自以下的至少一种：单独的金属、作为混合物的两种或更多种金属、金属间化合物或合金、金属氧化物、金属和混合金属氧化物、金属和混合金属氟化物、金属和混合金属氮化物、金属和混合金属碳化物、金属和混合金属碳氮化物、金属和混合金属氮氧化物、金属和混合金属硼化物、金属和混合金属氧硼化物、金属和混合金属硅化物以及它们的组合物。
实施方案11是根据实施方案1至10中任一项所述的转移制品，其中该第一丙烯酸酯层是基本上透明的。
实施方案12是根据实施方案1至11中任一项所述的转移制品，该转移制品还包含第二丙烯酸酯层。
实施方案13是一种方法，该方法包括：
将根据实施方案1至12中任一项所述的转移制品施加到该感兴趣的表面；以及
将该剥离层从该转移制品移除，其中该第一丙烯酸酯层保留在该感兴趣的表面上。
实施例
以下实施例旨在说明在本公开范围内的示例性实施方案。虽然阐述本公开的广义范围的数值范围和参数是近似值，但在具体实施例中所列出的数值尽可能精确地记录。然而，任何数值都固有地包含某些误差，在它们各自的测试测量中所存在的标准偏差必然会引起这种误差。除非另外指明，否则所有百分比均按重量计。除非另外指明，试剂购自密苏里州圣路易斯的西格玛奥德里奇公司(sigma-aldrichcorporation(st.louis,mo))。最低程度上说，并且在不试图将等同原则的应用限制到权利要求书的范围内的前提下，至少应当根据所报告的数值的有效数位并通过应用惯常的四舍五入法来解释每个数值参数。
测试方法：
t-剥离测试方法
根据astmd1876-08“粘合剂抗剥离性的标准测试方法(t-剥离测试)”使用t-剥离测试对剥离力进行测量。从带涂层的膜的片材上切割下尺寸为2英寸×6英寸的样本，并将带涂层侧朝上放置在平滑干净的表面上。切割长度为约8英寸的一片
180°剥离测试方法
如针对剥离力的t-剥离测试方法中所述的制备试样，不同的是测试条带为2英寸宽。测试是以180°剥离几何结构进行的。所报告的剥离值为条带长度上的平均瞬时剥离力。所报告的峰值为沿长度所经历的最大瞬时剥离力。使用4cm/s的剥离速率。
水蒸气传输速率
试样的水蒸气传输速率(wvtr)是根据astmf-1249使用可(从明尼苏达州明尼阿波利斯市的膜康公司(mocon,inc.(minneapolis,mn)))商购获得的水蒸气传输测试设备(permatranw700)来进行测量的。测试体系为50℃和100％的相对湿度(rh)。
实施例1：cu上用于剥离的阻挡涂层
实施例1的阻挡膜的功能层和阻挡膜的以下实施例是在与美国专利申请20100316852(condo等人)中所述的涂覆机类似的辊对辊真空涂覆机上，外加第二蒸发器和位于等离子体预处理站和第一溅射系统之间的固化系统，并且使用如美国专利8658248(anderson和ramos)中所述的蒸发器制成的。该涂覆机配备有呈由3m公司制造的1000英尺长、0.05mm厚、14英寸(35.6cm)宽的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜的卷的形式的基材。通过使基材经受氮等离子体处理来制备用于涂覆的基材，从而改善金属层的粘附性。用氮等离子体处理膜，该氮等离子体使用钛阴极以120w操作，使用8.0m/min的卷绕速度并维持膜的背侧与冷藏至0℃的涂覆滚筒接触。
与前一等离子体处理步骤一致地将铜的剥离层沉积在该制备好的pet基材上。铜沉积使用以2kw的功率操作的常规直流(dc)溅射工艺以26fpm(8.0m/min)的线速度将7nm厚的层沉积到基材上。然后对涂覆有铜的pet基材进行重绕。
在处于16fpm(4.9m/min)的线速度下的第二趟次中，在铜层的顶部上形成丙烯酸酯层(三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯，可作为sartomersr833s从美国宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司(sartomerusa(exton,pa))商购获得)。通过超声雾化和闪蒸施加丙烯酸酯层，得到宽度为12.5英寸(31.8cm)的涂层。该混合物进入雾化器中的流速为0.67ml/min以实现375nm的层，气体流速为60标准立方厘米每分钟(sccm)，并且蒸发器温度为260℃。一旦该单体涂层冷凝到cu层上就立即使用以7.0kv和4.0ma操作的电子束固化枪将该单体涂层固化。
硅铝氧化物的无机氧化物阻挡功能层在通过真空涂覆机的同一趟次中施加在该固化的有机层上。使用采用40khzac电源供应的交流电(ac)反应溅射沉积工艺来铺设该硅铝氧化物。阴极具有得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus(biddeford,me))的si(90％)/al(10％)旋转靶标。在溅射过程中，阴极的电压由反馈控制回路控制，该回路监控电压并控制氧气流量，使得电压保持在高位并且不会击穿靶电压。系统以16kw的功率操作，以将25nm厚的硅铝氧化物层沉积到固化的有机层上。
同样在通过真空涂覆机的同一趟次中使用进一步内嵌工艺在硅铝氧化物层的顶部上形成第二聚合物层。该聚合物层通过包含sartomersr833s(94重量％(wt％))和dynasylan1189(6wt％)(可购自德国埃森的赢创工业集团(evonikindustries(essen,germany)))的单体混合物的雾化和蒸发来产生。该混合物进入雾化器中的流速为0.67ml/min以实现375nm的层，气体流速为60sccm，并且蒸发器温度为260℃。一旦带涂层的丙烯酸酯单体混合物冷凝到无机层上，就使用以7kv和10ma操作的电子束将该单体混合物固化。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对该已完成的实施例1膜进行测试。以g/in为单位的平均剥离力测量为3.9，峰值剥离力为4.9。
实施例2：sial上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备金属构造上的阻挡涂层，不同的是取代cu层沉积，以32fpm(9.8m/min)的线速度沉积sial。
阴极具有得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,(me))的si(90％)/al(10％)靶标。使用采用ar气并以16kw的功率操作的常规ac溅射工艺将7nm厚的sial合金层沉积到基材上。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的实施例2膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为2.0，峰值剥离力为3.0。
根据以上所讨论的测试方法对实施例2膜的水蒸气传输速率进行测量。发现该实验中的水蒸气传输速率小于0.005克/平方米/天。
实施例3：nb上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备金属构造上的阻挡涂层，不同的是取代cu层沉积，以20fpm(6.1m/min)的线速度沉积nb。
在采用ar气并以2kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用阴极nb靶标(得自加利福尼亚州圣何塞的aci合金公司(acialloysofsanjose,ca))来将7nm厚的nb层沉积到基材上。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的实施例3膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为3.7，峰值为178g/in。
实施例4：ti上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备金属构造上的阻挡涂层，不同的是取代cu层沉积，以12fpm(3.7m/min)的线速度沉积ti。
在采用ar气并以2kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用得自加利福尼亚州圣何塞的aci合金公司(acialloysofsanjose,ca)的阴极ti靶标用于来将7nm厚的ti层沉积到基材上。
在气相沉积之后的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的实施例4膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为4.5，峰值为566g/in。
实施例5：nicr上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备金属构造上的阻挡涂层，不同的是，取代cu层沉积以20fpm(6.1m/min)的线速度沉积nicr。
在采用ar并以2kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用得自加利福尼亚州圣何塞的aci合金公司(acialloysofsanjose,ca)的阴极nicr靶标来将7nm厚的nicr层沉积到基材上。
在气相沉积之后的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的实施例5膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为3.4，峰值为4.5g/in。
实施例6：zr上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备金属构造上的阻挡涂层，不同的是，取代cu层沉积以14fpm(4.3m/min)的线速度沉积zr。
在采用ar气并以2kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用阴极zr靶标来将7nm厚的zr层沉积到基材上。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的
实施例6膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为9.1，峰值为174g/in。
实施例7：al上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备金属构造上的阻挡涂层，不同的是，取代cu层沉积以9.5fpm(2.9m/min)的线速度沉积al。
在采用ar气并以2kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用得自加利福尼亚州圣何塞的aci合金公司(acialloysofsanjose,ca)的阴极al靶标来将7nm厚的al层沉积到基材上。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的实施例7膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为6.8，峰值为350g/in。
实施例8：掺杂半导体掺杂b的si上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备包含在掺杂b的si上的阻挡涂层的构造，不同的是，取代cu层沉积以7fpm(2.1m/min)的线速度沉积sib。
在采用ar气并以2kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,(me))的阴极sib靶标来将7nm厚的sib层沉积到基材上。
在气相沉积之后的两周内，根据以上所讨论的测试方法使用t-剥离测量对已完成的实施例8膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为6.5，峰值剥离力为7.8。
实施例9：sialox上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备氧化物构造上的阻挡涂层，不同的是，取代cu层沉积以7fpm(2.1m/min)的线速度沉积硅铝氧化物[sialox]。
通过采用40khzac电源供应的ac反应溅射沉积工艺来铺设sialox。阴极具有得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,(me))的si(90％)/al(10％)旋转靶标。在溅射过程中，阴极的电压由反馈控制回路控制，该回路监控电压并控制氧气流量，使得电压保持在高位并且不会击穿靶电压。系统以16kw的功率操作，以沉积20nm厚的硅铝氧化物层。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的
实施例9膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为8g/in，峰值剥离力为400g/in。
比较例1：pet上用于剥离的阻挡涂层
如实施例1中那样制备pet基材构造上的阻挡涂层，不同的是没有金属发生沉积。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用t-剥离测量对已完成的比较例1膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为高于800g/in。
实施例10：用于剥离的铌氧化物光学涂层
实施例10的膜是在与美国专利5,440,446(shaw等人)和7,018,713(padiyath等人)中所述的涂覆机类似地辊对辊真空涂覆机上制成的。该涂覆机配备有呈由3m公司制造的1000英尺长、0.05mm厚、14英寸(35.6cm)宽的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜的形式的基材。通过使基材经受氮等离子体处理来制备用于涂覆的基材，从而改善金属层的粘附性。
硅铝层以32fpm(9.8m/min)的线速度沉积在该制备好的pet基材上。阴极具有得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,me)的si(90％)/al(10％)靶标。采用采用ar气并以16kw的功率操作的常规ac溅射工艺将12nm厚的硅铝合金层沉积到基材上。
通过超声雾化和闪蒸将三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯单体层施加到sial的顶部上，得到宽度为12.5英寸(31.8cm)的涂层。单体进入雾化器中的流速为1.33ml/min，以实现375nm的层，气体流速为60sccm，并且蒸发器温度为260℃。一旦该丙烯酸酯单体涂层冷凝到sial层上就立即使用以7.0kv和4.0ma操作的电子束固化枪将该丙烯酸酯单体涂层固化。
然后将膜重绕，并且使用第二趟次来将功能层沉积在固化的有机丙烯酸酯层上。在以2kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用具有得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,(me))的陶瓷低价氧化物nbox靶标的阴极，来将大约66nm厚的nbox层沉积到固化的有机丙烯酸酯层上，从而以1fpm(0.3m/min)的线速度形成四分之一波长光学厚度的光学功能层。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用180°剥离测试对已完成的实施例10膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为12，峰值为15。
实施例11：用于剥离的透明导体涂层
实施例11的膜是在与美国专利5,440,446(shaw等人)和7,018,713(padiyath等人)中所述的涂覆机类似地辊对辊真空涂覆机上制成的。该涂覆机配备有呈由3m公司制造的1000英尺长、0.05mm厚、14英寸(35.6cm)宽的pet膜的卷的形式的基材。通过使基材经受氮等离子体处理来制备用于涂覆的基材，从而改善金属层的粘附性。
在采用ar气并以12kw的功率操作的常规ac溅射工艺中使用具有si(90％)/al(10％)靶标(得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,me)的阴极将金属层以16fpm(4.9m/min)的线速度沉积到该pet基材的顶部上，从而将19nm厚的sial合金层沉积到基材上。
通过使用超声雾化和闪蒸施加三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯而将有机丙烯酸酯层形成在sial的顶部上，从而制成宽度为12.5英寸(31.8cm)的涂层。该单体进入雾化器中的流速为0.67ml/min以实现375nm的层，气体流速为60sccm，并且蒸发器温度为260℃。一旦该丙烯酸酯单体涂层冷凝到sial层上就立即使用以7.0kv和4.0ma操作的电子束固化枪将该丙烯酸酯单体涂层固化。
然后将膜重绕，并且使用第二趟次来将透明导体功能层沉积在有机丙烯酸酯层上。在以2kw的功率操作、ar气流速为450sccm并且氧气流速为12sccm的常规dc溅射工艺中使用得自罗德岛州普罗维登斯的优美科薄膜材料股份有限公司(umicorethinfilmproductsrovidence,(providence,ri))的阴极(陶瓷ito(氧化铟93wt％:氧化锡7wt％))靶标，来以4.6fpm(1.4m/min)的线速度从阴极将大约75nm厚的ito层沉积到基材上。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用180°剥离测试测量对实施例11的膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为8，峰值为15。
实施例12：用于剥离的光学色移涂层
实施例12的带涂层的膜是在与美国专利5,440,446(shaw等人)和7,018,713(padiyath等人)中所述的涂覆机类似地辊对辊真空涂覆机上制成的。该涂覆机配备有呈由3m公司制造的1000英尺长、0.05mm厚、14英寸(35.6cm)宽的pet膜的卷的形式的基材。通过使基材经受氮等离子体处理来制备用于涂覆的基材，从而改善金属包含层的粘附性。
以32fpm(9.8m/min)的线速度将金属层沉积在该pet基材上。阴极具有si(90％)/al(10％)靶标(得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,me)并且使用采用ar气并以24kw的功率操作的常规ac溅射工艺来将19nm厚的sial合金层沉积到基材上。
通过使用超声雾化和闪蒸施加三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯单体来将有机丙烯酸酯层沉积到该硅铝层上，从而制成宽度为12.5英寸(31.8cm)的涂层。该单体进入雾化器中的流速为1.33ml/min以实现375nm的层，气体流速为60sccm，并且蒸发器温度为260℃。一旦该单体涂层冷凝到sial层上就立即使用以7.0kv和10.0ma操作的电子束固化枪将该单体涂层固化。
对膜进行重绕。在通过真空涂覆机的第二向前趟次中，将半透明ge层沉积为在固化单体层的顶部上的多层功能性堆叠的第一层。在以1.5kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用阴极ge靶标来以16fpm(4.9m/min)的线速度将大约9nm厚的ge层沉积到固化单体层上。
对膜进行重绕并且在在通过真空涂覆机的第三向前趟次中，通过以14.5fpm(4.4m/min)的线速度将三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯单体层沉积在ge层上来形成功能性堆叠中的第二层。通过使用超声雾化和闪蒸施加单体来将该单体层形成在基材上，从而制成宽度为12.5英寸(31.8cm)的涂层。单体进入雾化器中的流速为0.8ml/min以实现410nm的层，气体流速为60sccm，并且蒸发器温度为260℃。一旦单体涂层冷凝到ge层上就立即使用以7.0kv和7.0ma操作的电子束固化枪将单体涂层固化。
再次对膜进行重绕。在第四向前趟次中，将不透明al层沉积为多层功能性叠堆的最后一层。将al沉积到在前一向前趟次过程中沉积的固化单层体上。在使用两个阴极以4kw的功率操作的常规dc溅射工艺中使用阴极al靶标(得自加利福尼亚州帕洛阿尔托的aci合金公司(acialloysofpaloalto,ca))，来以25fpm(7.7m/min)的线速度将大约60nm厚的al层沉积到固化单体层上。
在制造的两周内，根据上述测试方法使用180°剥离测试测量对实施例12的膜进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为3，峰值为5。
实施例13：sial上用于剥离的丙烯酸酯涂层
丙烯酸酯的功能层在该实施例13中进行了描述，并且是在与美国专利申请20100316852(condo等人)中所述的涂覆机类似地辊对辊真空涂覆机上，外加第二蒸发器和位于等离子体预处理站和第一溅射系统之间的固化系统，并且使用如美国专利8658248(anderson和ramos)中所述的蒸发器制成的。
该涂覆机配备有呈由3m公司制造的1000英尺长、0.05mm厚、14英寸(35.6cm)宽的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)膜的卷的形式的基材。通过使基材经受氮等离子体处理来制备用于涂覆的基材，从而改善金属层的粘附性。用使用钛阴极以120w的功率操作的氮等离子体、使用9.8m/min的卷绕速度并且维持膜的背侧与冷藏至0℃的涂覆滚筒接触，来处理膜。
将sial剥离层与前一等离子体处理步骤一致地沉积在该制备好的pet基材上。阴极具有得自美国缅因州比迪福德的梭莱镀膜工业公司(solerasadvancedcoatingsus,ofbiddeford,me)的si(90％)/al(10％)靶标。使用采用ar气并以16kw的功率操作的常规ac溅射工艺将7nm厚的sial合金层沉积到基材上。然后对涂覆有sial的pet基材进行重绕。
在处于16fpm(4.9m/min)的线速度下的第二趟次中，在铜层的顶部上形成丙烯酸酯层(三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯，可作为sartomersr833s从美国宾夕法尼亚州埃克斯顿的沙多玛公司(sartomerusa(exton,pa))商购获得)。通过超声雾化和闪蒸施加丙烯酸酯层，得到宽度为12.5英寸(31.8cm)的涂层。该混合物进入雾化器中的流速为0.67ml/min以实现375nm的层，气体流速为60标准立方厘米每分钟(sccm)，并且蒸发器温度为260℃。一旦该单体涂层冷凝到cu层上就立即使用以7.0kv和4.0ma操作的电子束固化枪将该单体涂层固化。
在气相沉积之后的两周内，根据以上所讨论的测试方法使用t-剥离测量对实施例13构造的样本进行测试。以g/in为单位的剥离力测量为6.1。
本文所引用的所有参考文献和公布全文均明确地以引用方式并入本公开。本文讨论了本发明的例示性实施方案，并且引用了本发明范围内可能的变型。例如，结合一个例示性实施方案描绘的特征部可与本发明的其它实施方案结合使用。在不脱离本发明范围的前提下，本发明中的这些以及其它变型和修改对本领域内的技术人员将是显而易见的，并且应当理解，本发明并不限于本文阐述的例示性实施方案。因此，本发明仅受以下所提供的权利要求书及其等同物的限定。
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