离型膜的制作方法

文档序号:9151497阅读:166来源:国知局
离型膜的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种适用于柔性线路板胶膜保护的离型膜。
【背景技术】
[0002]随着电子产品朝着轻、薄、短、小型化发展,其电子产品中使用的挠性线路板材料、背胶材料的尺寸稳定性要求越来越高。对于其挠性线路板使用的覆盖膜、纯胶膜等材料在加工过程中要求具有更小的涨缩变化。目前保护膜、胶膜产品在生产时贴合双淋膜离型纸,即需要对原纸进行淋膜和涂覆离型剂,由于淋膜离型纸虽经过双淋膜处理,但其吸水率仍在4.0%左右,客户在热半固化处理过种中易导致其失水而产生较大涨缩问题,且由于离型纸在冲型、钻孔过程中易产生碎肩、边缘毛刺影响产品品质。而使用传统离型膜虽具低吸水率,但由于PET薄膜的挺度不够需要使用100 μm以上的PET基材再经涂覆离型剂制成,且PET基材硬度高在模切或钻孔过程中边缘毛刺会造成产品边缘变形,影响产品对位精确性,且使用较厚PET基材成本高,客户无法接受。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种离型膜,可解决上述现有问题的一个或多个。
[0004]根据本实用新型的一个方面,提供了一种离型膜,包括高分子薄膜层和粘合在高分子薄膜层侧面的聚乙烯层及聚乙烯层表面涂覆离型层。
[0005]本实用新型的有益效果是:聚乙烯粒料经加热熔融后,淋膜涂覆在高分子薄膜层的侧面,冷却后粘合在高分子薄膜层上,再在其聚乙烯层上涂覆离型层,获得的产品可在较薄厚度下具有良好的挺度,整体只需控制在60 μ m?90 μ m厚度就可以满足离型膜挺度要求;涂覆了离型层的聚乙烯层具有良好的柔韧性,模切效果好,不易产生碎肩、边缘毛刺,更适用于具有模切、钻孔要求的保护膜、纯胶膜产品;且本实用新型吸水率低(小于0.3% ),更适用于高涨缩要求产品,制造成本更低,符合客户高品质低成本的使用要求。
[0006]在一些实施方式中,高分子薄膜层为PET薄膜层。PET薄膜是Polyester Film薄膜的简称,是以聚对苯二甲酸乙二醇酯为原料制成的薄膜材料。其机械性能优异,而且耐低温和高温,耐摩擦,是常用的高分子薄膜。
[0007]在一些实施方式中,高分子薄膜层的厚度为15 μ m?75 μ m。在符合工艺需求情况下,节省材料及成本。
[0008]在一些实施方式中,聚乙烯层的厚度为10 μπι?40 μπι。在此厚度下,聚乙烯层具有良好的柔韧性和模切效果。
[0009]在一些实施方式中,离型层为非硅或硅酮离型剂层。
[0010]在一些实施方式中,离型层厚度为0.1 μπι?1.0 μπι。在此厚度下的离型层,能获得良好的附着力和离型效果,而且能符合工艺需求。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型离型膜第一种实施方式的结构示意图;
[0012]图2是本实用新型离型膜第二种实施方式的结构示意图;
[0013]图3是本实用新型离型膜第三种实施方式的结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。
[0015]实施例一
[0016]图1给出了本实用新型第一个实施例,该实施例中,离型膜包括高分子薄膜层I和粘合在高分子薄膜层I 一个侧面上的聚乙烯层2及在聚乙烯层2表面涂覆离型层3,高分子薄膜层I为PET膜层,厚度为50 μ m,聚乙烯层2厚度为30 μ m,离型层3为非硅或硅酮离型层,厚度为0.2 μπι。
[0017]实施例二
[0018]图2给出了本实用新型第二个实施例,该实施例中,离型膜包括高分子薄膜层I和粘合在高分子薄膜层I两个侧面上的聚乙烯层2,在两个聚乙烯层2表面分别涂覆离型层3。高分子薄膜层I为PET膜层,厚度为25 μ m,聚乙烯层2厚度为30 μ m,离型层3为非硅或硅酮离型层,厚度为0.1 μ m。
[0019]实施例三
[0020]图3给出了本实用新型第三个实施例,该实施例中,离型膜包括高分子薄膜层I和粘合在高分子薄膜层I两个侧面上的聚乙烯层2,在一个聚乙烯层2表面涂覆离型层3。高分子薄膜层I为PET膜层,厚度为38 μ m,聚乙烯层2为厚度为20 μ m,离型层3为非硅或硅酮离型层,厚度为1.0 μπι。
[0021]以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.离型膜,其特征在于,包括高分子薄膜层(I)、粘合在高分子薄膜层(I)侧面的聚乙烯层⑵以及涂覆在聚乙烯层⑵上的离型层(3),所述高分子薄膜层(I)为PET薄膜层。2.根据权利要求1所述的离型膜,其特征在于,所述高分子薄膜层(I)的厚度为15 μ m ~ 75 μ mD3.根据权利要求1所述的离型膜,其特征在于,所述聚乙烯层(2)的厚度为ΙΟμπι?.40 μ mD4.根据权利要求1所述的离型膜,其特征在于,所述离型层(3)为非硅或硅酮离型剂层。5.根据权利要求1所述的离型膜,其特征在于,所述离型层(3)厚度为0.1 μπι?.1.0 μ mD
【专利摘要】本实用新型公开了一种离型膜,包括高分子薄膜层、粘合在高分子薄膜层侧面的聚乙烯层以及涂覆在聚乙烯层上的离型层,其中聚乙烯层由聚乙烯粒料经加热熔融后,淋膜涂覆在高分子薄膜层的侧面,冷却后形成粘合在高分子薄膜层上,再在其聚乙烯层上涂覆离型层,获得的产品可在较薄厚度下具有良好的挺度,整体只需控制在60μm~90μm厚度就可以满足离型膜挺度要求;涂覆了离型层的聚乙烯层具有良好的柔韧性,模切效果好,不易产生碎屑、边缘毛刺,更适用于具有模切、钻孔要求的保护膜、纯胶膜产品;且本实用新型吸水率低(小于0.3%),更适用于高涨缩要求产品,制造成本更低,符合客户高品质低成本的使用要求。
【IPC分类】B32B27/32, B32B27/08, B32B27/36
【公开号】CN204820559
【申请号】CN201520332566
【发明人】向必军
【申请人】周宏亮
【公开日】2015年12月2日
【申请日】2015年5月21日
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