一种立体导湿自洁针织面料的制作方法

文档序号:10286026阅读:462来源:国知局
一种立体导湿自洁针织面料的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于针织面料,尤其涉及一种立体导湿自洁针织面料。
【背景技术】
[0002]随着人们对衣物的功能性,舒适性的要求越来越高,普通的针织面料已经满足不了消费者的需求。当人们在运动中出大量的汗时,普通的针织面料会湿透,不会很快变干,汗液和油渍沾在皮肤上不但不舒服还会有异味。

【发明内容】

[0003]本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供排汗、散热快、速干,还可达到自清洁目的的针织面料。
[0004]为实现上述目的,本实用新型的技术方案是:一种立体导湿自洁针织面料,包括基础层和自清洁层,所述基础层和自清洁层中间设有储水速干层,其特征在于:在所述基础层上设有V型微孔,且此层为平纹组织结构;所述储水速干层由亲水改性聚酯低弹丝纤维针织形成波纹状;所述自清洁层由若干个纳米级凸起组成,在每个纳米级凸起上设有多个不规则的集尘导水通孔,形成微观下的粗糙表面,其中所述的每个纳米级凸起都设置在波纹状储水速干层中凸起的位置。
[0005]进一步,在所述纳米级凸起上分布有壳聚糖微粒。
[0006]本实用新型的积极效果:通过粗糙表面增大水滴或油滴在面料上的接触角,可将汗液快速排出外界,达到自清洁目的,同时具有壳聚糖微粒,可把细菌和污染物有机物氧化分解成二氧化碳和水,具有良好的化学稳定性和热稳定性,安全无毒,绿色环保。
[0007]【【附图说明】】
[0008]图1为本实用新型的结构示意图;
[0009]1-基础层、2-自清洁层、3-储水速干层、I1-V型微孔、21-纳米级凸起、21a-集尘导水通孔。
[0010]【【具体实施方式】】
[0011]下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本实用新型。
[0012]如图1所示,一种立体导湿自洁针织面料,包括基础层(I)和自清洁层(2),所述基础层(I)和自清洁层(2)中间设有储水速干层(3),其特征在于:在所述基础层(I)上设有V型微孔(11),且此层为平纹组织结构,在使用过程中,汗水可通过V型微孔排出外界;所述储水速干层(3 )由亲水改性聚酯低弹丝纤维针织形成波纹状,此层可把汗水吸湿进来;所述自清洁层(2)由若干个纳米级凸起(21)组成,在每个纳米级凸起(21)上设有多个不规则的集尘导水通孔(21a),形成微观下的粗糙表面,其中所述的每个纳米级凸起(21)都设置在波纹状储水速干层中凸起的位置,在使用过程中,将纳米级凸起设置在波纹状凸起的位置,是为了增加皮肤和纳米级凸起的摩擦,且身上的汗液和油渍会因摩擦进入到集尘导水通孔中,当有压力时,会被储水速干层进行吸湿。
[0013]进一步,在所述纳米级凸起(21)上分布有壳聚糖微粒。在使用过程中,可起到抗菌的作用。
[0014]以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种立体导湿自洁针织面料,包括基础层(I)和自清洁层(2),所述基础层(I)和自清洁层(2)中间设有储水速干层(3),其特征在于:在所述基础层(I)上设有V型微孔(11),且此层为平纹组织结构;所述储水速干层(3)由亲水改性聚酯低弹丝纤维针织形成波纹状;所述自清洁层(2)由若干个纳米级凸起(21)组成,在每个纳米级凸起(21)上设有多个不规则的集尘导水通孔(21a),形成微观下的粗糙表面,其中所述的每个纳米级凸起(21)都设置在波纹状储水速干层中凸起的位置。2.根据权利要求1所述的一种立体导湿自洁针织面料,其特征在于:在所述纳米级凸起(21)上分布有壳聚糖微粒。
【专利摘要】本实用新型提供了一种立体导湿自洁针织面料,包括基础层和自清洁层,基础层和自清洁层中间设有储水速干层,其特征是:在所述基础层上设有V型微孔,且此层为平纹组织结构;所述储水速干层由亲水改性聚酯低弹丝纤维针织形成波纹状;所述自清洁层由若干个纳米级凸起组成,在每个纳米级凸起上设有多个不规则的集尘导水通孔,形成微观下的粗糙表面,其中所述的每个纳米级凸起都设置在波纹状储水速干层中凸起的位置。本实用新型的有益效果是:通过粗糙表面增大水滴或油滴在面料上的接触角,可将汗液快速排出外界,达到自清洁目的,同时具有壳聚糖微粒,可把细菌和污染物有机物氧化分解成二氧化碳和水,具有良好的化学稳定性和热稳定性,安全无毒,绿色环保。
【IPC分类】A41D31/02, B32B3/30, B32B27/02, B32B27/06, B32B33/00
【公开号】CN205197105
【申请号】CN201520872763
【发明人】于杰, 张秀军, 王红
【申请人】天津市兰纳针织服饰有限公司
【公开日】2016年5月4日
【申请日】2015年11月5日
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