专利名称：皮肤处理设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种皮肤处理设备，所述设备包括出射窗，在皮肤 处理设备的操作期间电磁辐射通过该出射窗发射。
背景技术：
以下将参考用于利用光来处理皮肤或组织的设备对本发明进行 描述，但本发明并不局限于此。众所周知，存在多种用于利用光、 尤其是强光来处理皮肤的皮肤处理设备。强光能够例如用于皮肤更 生、脱毛、血管或痤疮的处理，以及多种其它光应用。此类设备的光源可以例如是激光、闪光灯或LED-阵列。此类设备的波长依赖于 光源，所述光源可以是单色光(例如激光)或多色光(例如闪光灯)。 来自光源的光经由出射窗(具体来说是接触窗)施加到用户或病人 的皮肤上。在许多情况下，借助于透镜、光纤、带有反射器的闪光 灯系统、玻璃棱镜或玻璃立方体将光导向皮肤，其中玻璃棱镜或玻 璃立方体形成出射窗。这在例如US6280438和US5885273 ( Eckhouse 等人)或US2002/0173780A1 (Altshuler等人)中得到了描述。例 如玻璃棱镜可以是与皮肤接触的设备的一部分。这种玻璃棱镜可透 过待施加到皮肤上的波长。这种玻璃棱镜还具有防污功能，使得设 备内部的例如透镜、滤光器和反射镜的敏感的光学部件不受玷污， 例如不受尘埃或诸如凝胶体、添加剂、皮肤碎片等的杂质的污染。 因此，出射窗会变脏。尤其在难于清洁的区域中，例如角落或分隔 线处，易于收集杂质。如果使用添加剂或凝胶体，接触窗将出现阻 塞。在许多光处理应用中，穿过出射窗发射的光的强度足够高，以 致使污垢深入(burn-in)到出射窗表面内，这种深入效应至少是由于吸收造成的。在一些情况下，强光只是闪现便足以致使污垢深入 出射窗表面内部。深入内部的污垢颗粒或杂质将部分地或在最糟的 情况下完全地吸收下一束强光。因此，在皮肤处理设备的操作期间 加热的出射窗表面上产生一薄层深入内部的污垢。如图ll所示，如果出射窗12'是接触窗，那么该层深入内部的污垢颗粒46'将与皮肤 44'直接接触。因此，会导致例如发红或灼伤和水泡等不期望的副作 用。这种不期望的副作用的程度依赖于施加光束16'的流畅性 (fluency)以及能够吸收所述光的污垢区域的大小。如图12所示， 如果出射窗12'是不会与待处理的皮肤44'直接接触的凹入窗，那么 深入内部的污垢颗粒或杂质4 6'至少会降低设备的效率，这也是不期 望的副作用。在一些情况下，污垢颗粒或杂质相对较小且几乎不可 见。然而，几平方毫米大的污垢颗粒就能足以吸收足够的能量，以 产生上述不期望的副作用。可以观察到，湿式清洁组织的正常清洁 程序通常不适于去除深入内部的污垢。发明内容本发明的目的在于，进一步发展上述类型的皮肤处理设备，从 而避免导致皮肤处理设备效率降低和/或引起例如发红或灼伤和水 泡等不期望的副作用。为了达到该目的，根据本发明的皮肤处理设备的特征在于，该 设备包括与出射窗关联的防垢装置。该防垢装置防止污垢累积在出 射窗上，以致深入内部。因此，避免了上述不期望的副作用，即， 不会出现发红、灼伤或水泡，并且不会降低设备的效率。本发明适 于各种类型的皮肤处理设备，适合专业设备、半专业设备(温泉疗 养、美容沙龙等)，以及家用设备。依照本发明皮肤处理设备的第 一总实施方式，防垢装置包括无 粘性出射窗表面。无粘性是指表面具有下述性质，即，例如尘粒、 添加剂、油和液体等污垢无法粘着和深入内部。就此而论，尤其优选的是，无粘性出射窗表面具有莲花效应。同样，通过出射窗表面上的纳米结构得到公知的莲花效应。这样的 人工表面由非常小的周期或随意结构组成，所述结构的高度在几百 纳米至几百微米之间。可以具有单个升高或者也线性排列的凸起结构。这种结构的直径范围也可以在lOOnm至100微米之间。这些结 构的顶部非常小并且基本上没有让杂质以及液体实现粘着接触的区 域。也可以对具有莲花效应的表面进行改变，使得该表面具有非常 强的耐刮擦性。如果出射窗是频繁地在皮肤上移动的接触窗，这是 特别有利的。具有莲花效应的出射窗表面的另一个优点在于，极大 地降低了从手持件内部例如光源和吸收型滤光器等发热部件向皮肤 的热传导。优点在于不必对出射窗进行主动冷却。具有莲花效应的 出射窗表面的另 一 个优点在于，对通常用作清洗剂的酒精或其它溶 剂长久抵抗性。根据另一个优选的方案，无粘性出射窗表面是聚四氟乙烯表面。 因此，聚四氟乙烯能够被用作出射窗和接触窗。聚四氟乙烯具有下 述性质，即，其表面对大多颗粒和流体来说是无粘性。聚四氟乙烯 在全方向上散射光，类似于乳白玻璃，但不会吸收太多光。光透射 的功能性不会因此降低，因为光无论如何将在皮肤中强散射。聚四 氟乙烯表面能够例如由布置在设备的出射窗前方的薄镀层组成。这 种聚四氟乙烯镀层的尺寸可以比出射窗的大，以避免光直接发射到 出射窗外。替代地，可以将聚四氟乙烯镀在出射窗上，类似于镀在 煎锅上。一般来说，无粘性出射窗表面可以通过涂层形成。例如，可以 使用提供莲花效应的涂层。依照本发明皮肤处理设备的第二总实施 方式，防垢装置包括薄片，该薄片的至少一部分布置在出射窗前方。 例如，可以提供粘附在一起的薄片叠层，如果其变脏可以去除最外 面的薄片层。另一种优选方式在于，薄片相对于出射窗可移动。例如，可以 将薄片从出射窗的一侧传送到另一侧。因此，出射窗覆盖有透明的 薄片，在皮肤处理之前该透明的薄片在一侧巻起。薄片可以通过设备在皮肤上方的移动而在出射窗上方从其一侧向另一侧移动。薄片 的传送例如能够通过与皮肤间的摩擦来驱动，或者由马达以及如果 必要的话由齿轮机构来自动驱动。如果薄片被主动驱动，那么例如 可以通过用来检测设备皮肤接触的压力开关来激活传送机构。利用 一些实施方式，薄片可以在使用后处理掉。然而，也可以具有与薄片相关联的至少一个污垢擦拭器。例如， 如果出射窗覆盖有在其上方移动的透明薄片，那么在该薄片经过出 射窗以去除能够分别深入到薄片和出射窗内的污垢之后，可以将该 薄片去除。具体而言，如果提供有污垢擦拭器，可以将薄片布置成 闭环薄片。在薄片部分经过出射窗之后，该薄片部分经过污垢擦拭 器并随后移回出射窗的另 一 侧。该薄片例如可以通过两个薄片支承 辊支撑。可以对第一薄片支承辊进行主动驱动，并且可以弹簧加载 第二薄片支承辊以拉伸该薄片。如果仅提供一个污垢擦拭器，那么 优选的是，薄片可以仅在一个方向上移动。为了实现这个，薄片支 承辊的至少一个可以包括锁定机构。依照第三总实施方式，防垢装置包括至少一个辊。这种辊例如 可以是如上述的薄片支承辊，或者是用来拾取和去除污垢的辊。在 后者情况下，辊可以涂布有胶合剂，所有的污垢颗粒、例如皮肤碎 片、毛发等将粘附到胶合剂上。如果辊不是可回收的辊，那么可以 使用胶合剂，使得例如可以通过沖洗来清洁辊。也可以使辊带电， 以确保污垢颗粒静电粘着。在一种实施方式中，辊形成出射窗。在这种情况下，优选地， 辊不被主动驱动，而是仅仅通过设备在皮肤上方的移动。如果皮肤 处理设备在同一皮肤部分上方移动多于一次，那么在第一次移动期 间辊能够拾取所有污垢并确保设备在该皮肤部分的下 一 次移动时该 皮肤部分处没有污垢。辊也可以布置在出射窗附近。如果设备仅在一个方向上移动， 那么只需要一个辊。在这种情况下，优选地，辊关于设备的移动方 向布置在出射窗前方。如果设备例如在两个方向上移动，那么优选提供两个辊。关于使用用来拾取污垢的至少一个辊，尤其优选的是，至少一 个污垢擦拭器与辊关联。在这种情况下，例如可以将通过辊拾取的污垢收集到容器中，该容器在使用完皮肤处理设备之后可以被清空。
通过参照以下描述的实施方式和附图所示，本发明的上述和其它方面及优点将变得清楚，其中图1示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第一实施方式；图2示意性地示出了图1的细节D;图3示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第二实施方式 的出射窗；图4示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第三实施方式 的出射窗；图5示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第四实施方式的出射窗；图6示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第五实施方式 的出射窗；图7示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第六实施方式 的出射窗；图8示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第七实施方式 的剖面图；图9示意性地示出了图8皮肤处理i殳备的剖面侧^L图； 图IO示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第八实施方式 的出射窗；图11示意性地示出了根据现有技术皮肤处理设备的出射窗的一 种实施方式；以及图12示意性地示出了根据现有技术皮肤处理设备的出射窗的另 一种实施方式。
具体实施方式
在全部附图中，相同或相似的附图标记指代相同或近似的部件， 为避免重复在大多数情况下仅对此说明一次。图1至4示意性地示出的实施方式涉及根据本发明皮肤处理设备 的第一总实施方式，其中，防垢装置包括无粘性出射窗表面。图1示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第一实施方式，图2示意性地示出了图1的细节D。示出的皮肤处理设备10包括用 作手持件的外壳48。在外壳48中设置有光源50，该光源50以强光 形式产生电磁辐射16，用来以任何适当的方式处理皮肤44。光经由 出射窗12到达皮肤44。正如从图2中可以明显看出，通过提供莲花 效应的涂层来形成出射窗表面18。莲花效应防止污垢颗粒48粘着到 出射窗表面18上且深入到其中。图3示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第二实施方式 的出射窗。在图3示意性示出的实施方式中，聚四氟乙烯镀层形成 无粘性出射窗表面20。聚四氟乙烯镀层的尺寸可以比出射窗12的尺 寸稍大，以避免光从出射窗12直接发射。图4示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第三实施方式 的出射窗。在该实施方式中，通过镀在出射窗12上的聚四氟乙烯涂 层形成无粘性出射窗表面22。在这种情况下，聚四氟乙烯层可以是 很薄的一层，使得通过出射窗12发射光的不必要的损失降到最低。图5至7示意性地示出的实施方式涉及根据本发明皮肤处理设备 的第二总实施方式，其中，防垢装置包括薄片，该薄片的至少部分 设置在出射窗前方。图5示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第四实施方式 的出射窗。在该实施方式中，两个薄片支承辊52, 54设置在出射窗 12附近。在处理之前，将薄片24巻在薄片支承辊54上。在处理过 程中，通过设备在皮肤上的运动使薄片从 一 侧向另 一 侧移过出射窗 12。如各个箭头所示，薄片24必须仅在一个方向上因此，每个薄片支承辊52， 54提供有锁定机构58, 60,用以防止辊 52, 54在不期望的方向上旋转。薄片24由拉紧弹簧56拉伸。当薄 片24完全从薄片支承辊54上解绕时，就必须将其丢弃并使用新的 薄片。图6示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第五实施方式 的出射窗。在该实施方式中，与图5的实施方式相比，薄片24可以 在两个方向上移动，如各个箭头所示。薄片24并不是可回收的薄片， 但可以用至少更长一段时间。因此，提供两个用于去除粘着在薄片 24上的污垢的污垢擦拭器26, 28。从薄片24上去除的污垢例如可 以收集到容器中，如果必要的话该容器可以被清空。图7示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第六实施方式 的出射窗。在该实施方式中，薄片24以闭环的形式提供。与图5的 实施方式相似，薄片24必须仅在一个方向上移过出射窗12，如各个 箭头所示。由于薄片以闭环的形式提供，因此仅提供一个与薄片支 承辊52关联的用以避免薄片24在不期望的方向上移动的锁定机构 58就足够了。为了拉伸薄片24，提供拉紧弹簧，该拉紧弹簧弹性加 载薄片支承辊54。因为薄片24仅在一个方向上移动，所以提供一个 用于从经过出射窗12的薄片24部分去除污垢的污垢擦拭器26就足 够了。关于图5至7的实施方式，可以通过有源驱动器(未示出)驱动 薄片支承辊52， 54中的至少一个来致使薄片运动。替代地，可以通 过与正在处理的皮肤之间的摩擦致使薄片运动。尤其在后者情况下， 旋转地弹簧加载薄片支承辊52， 54中的至少一个是有利的。图8至10示意性地示出的实施方式涉及根据本发明皮肤处理设 备的第三总实施方式，其中，至少一个辊用于拾取污垢。图8示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第七实施方式 的剖面图，图9示意性地示出了图8皮肤处理设备的剖面侧视图。 在该实施方式中，通过由适当材料组成的非驱动辊30来形成出射窗 14。在皮肤处理设备的外壳48中设置有两个用于去除粘着在辊30上污垢的污垢擦拭器36, 38。污垢擦拭器36, 38设置在反射器62 的自由端，该反射器62至少部分包围光源50。至少在一些实施方式 中，可以对辊30进行充电，以使污垢颗粒静电粘着到辊30上。此 外，或替代地，可以在辊30上涂布胶合剂，以有助于拾取污垢。通 过污垢擦拭器36， 38去除的污垢可以收集到容器中，如果必要的话 该容器可以被清空。图10示意性地示出了根据本发明皮肤处理设备的第八实施方式 的出射窗。在该实施方式中，两个辊32， 34设置在出射窗12附近。 关于各个箭头指示的可能的运动方向，通常将两个辊32, 34中的一 个设置在出射窗12的前方用以拾取污垢。同样在这种情况下，可以 对辊32， 34中的至少一个进行充电和/或涂布胶合剂。污垢擦拭器 40与辊32关联以及污垢擦拭器42与辊34关联，用以去除通过辊 32, 34拾取的污垢。本领域技术人员应当清楚，可以将这里描述的所有实施方式的特 征有利地进行结合，并且因此，各个特征组合即使没有被明确地示 出或讨论也应被视为已7>开。在不背离由所附权利要求书限定的本发明范围的情况下，也可以 采用以上未提及的等效和变型。
权利要求
1.一种皮肤处理设备，包括出射窗(12；14)，在所述皮肤处理设备(10)的操作期间电磁辐射(16)通过所述出射窗(12；14)发射，其特征在于，所述皮肤处理设备(10)包括与所述出射窗(12；14)关联的防垢装置(18-42)。
2. 根据权利要求1所述的皮肤处理设备，其中，所述防垢装置 (18-42)包括无粘性出射窗表面(18; 20; 22)。
3. 根据权利要求2所述的皮肤处理设备，其中，所述无粘性出 射窗表面(18)具有莲花效应。
4. 根据权利要求2所述的皮肤处理设备，其中，所述无粘性出 射窗表面(20; 22)是聚四氟乙烯表面。
5. 根据权利要求2所述的皮肤处理设备，其中，通过涂层来形 成所述无粘性出射窗表面(18; 22)。
6. 根据权利要求1所述的皮肤处理设备，其中，所述防垢装置 (18-42)包括薄片(24)，所述薄片U4)的至少一部分布置在所述出射窗(12; 14 )的前方。
7. 根据权利要求6所述的皮肤处理设备，其中，所述薄片(24) 相对于所述出射窗(12; 14)可移动。
8. 根据权利要求6所述的皮肤处理设备，其中，至少一个污垢 擦拭器(26, 28 )与所述薄片(24)关联。
9. 根据权利要求1所述的皮肤处理设备，其中，所述防垢装置 (18-24)包括至少一个辊(30; 32, 34 )。
10. 根据权利要求9所述的皮肤处理设备，其中，所述辊(30) 形成出射窗(14 )。
11. 根据权利要求9所述的皮肤处理设备，其中，所述辊(32, 34)设置在所述出射窗U2)附近。
12. 根据权利要求9所述的皮肤处理设备，其中，至少一个污垢 擦拭器(36, 38; 40, 42 )与所述辊(30; 32, 34 )关联。
全文摘要
本发明涉及一种皮肤处理设备，其包括出射窗(12；14)，在皮肤处理设备(10)的操作期间电磁辐射(16)通过该出射窗(12；14)发射。根据本发明，皮肤处理设备包括与出射窗(12；14)关联的防垢装置(18-42)。
文档编号A61B18/20GK101237831SQ200680028994
公开日2008年8月6日 申请日期2006年8月1日 优先权日2005年8月5日
发明者R·弗特纳 申请人:皇家飞利浦电子股份有限公司