技术总结
粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后，控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后，控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正，减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。
技术研发人员：坂本裕介;蒲越虎;原田久;本田泰三
受保护的技术使用者：三菱电机株式会社
文档号码：201480077893
技术研发日：2014.04.10
技术公布日：2016.11.23