1.一种应用于植入医疗器械的医用涂层，其特征在于，包括钛-钇涂层、氮化钛-钇的合金层、钽-钇涂层、钽-锌-银涂层四层，所述钛-钇涂层涂覆在所述植入医疗器械基材的外层，所述氮化钛-钇的合金层涂覆在钛-钇涂层的外层，所述钽-钇涂层涂覆在氮化钛-钇的合金层的外层；所述钽-锌-银涂层涂覆在钽-钇涂层的外层。
2.根据权利要求1所述的一种应用于植入医疗器械的医用涂层，其特征在于，所述钽-锌-银涂层替换为钽-镁-银涂层。
3.根据权利要求1或2所述一种应用于植入医疗器械的医用涂层，其特征在于，所述钛-钇涂层厚度为100nm-1500nm，所述钛-钇涂层中钛、钇的质量百分数分别为90％、10％。
4.根据权利要求1或2所述一种应用于植入医疗器械的医用涂层，其特征在于，所述氮化钛－钇的合金层厚度为50nm-1500nm。
5.根据权利要求1或2所述一种应用于植入医疗器械的医用涂层，其特征在于，所述钽-钇涂层厚度为50nm-500nm，所述钽-钇涂层中钽、钇的质量百分数分别为93％、7％。
6.根据权利要求1所述一种应用于植入医疗器械的医用涂层，其特征在于，所述钽-锌-银涂层厚度为50nm-1000nm，所述钽-锌-银涂层中钽、锌、银的质量百分数分别为92％、5％、3％。
7.根据权利要求2所述一种应用于植入医疗器械的医用涂层，其特征在于，所述钽-镁-银涂层厚度为50nm-1000nm，所述钽-镁-银涂层中钽、镁、银的质量百分数分别为92％、5％、3％。
8.权利要求1所述一种应用于植入医疗器械的医用涂层的制备方法，其特征在于，所述钛-钇涂层用99.999％的钛和钇高纯靶材进行真空溅射，形成厚度为100nm-1500nm的钛-钇金属薄膜涂层；所述钛-钇涂层中钛、钇的质量百分数分别为90％、10％；
所述氮化钛-钇的合金层用99.999％的钛和钇的高纯靶材进行真空溅射，在其沉积过程中混入高纯氮气，形成厚度为50nm-500nm的氮化钛-钇金属薄膜；
所述钽-钇涂层用99.999％的钽和钇的高纯靶材，进行真空溅射，形成厚度为50nm-500nm的钽-钇金属薄膜，所述钽-钇涂层中钽、钇的质量百分数分别为93％、7％。
所述钽-锌-银涂层用99.999％的钽、锌和银的高纯靶材，进行真空溅射，形成厚度为50nm-1000nm的钽-锌-银金属薄膜，所述钽-锌-银涂层中钽、锌、银的质量百分数分别为92％、5％、3％。
9.权利要求2所述一种应用于植入医疗器械的医用涂层的制备方法，其特征在于，所述钛-钇涂层用99.999％的钛和钇高纯靶材进行真空溅射，形成厚度为100nm-1500nm的钛-钇金属薄膜涂层；所述钛-钇涂层中钛、钇的质量百分数分别为90％、10％；
所述氮化钛-钇的合金层用99.999％的钛和钇的高纯靶材进行真空溅射，在其沉积过程中混入高纯氮气，形成厚度为50nm-500nm的氮化钛-钇金属薄膜；
所述钽-钇涂层用99.999％的钽和钇的高纯靶材，进行真空溅射，形成厚度为50nm-500nm的钽-钇金属薄膜，所述钽-钇涂层中钽、钇的质量百分数分别为93％、7％。
所述钽-镁-银涂层用99.999％的钽、镁和银的高纯靶材，进行真空溅射，形成厚度为50nm-1000nm的钽-镁-银金属薄膜，所述钽-镁-银涂层中钽、镁、银的质量百分数分别为92％、5％、3％。