使用具有临时保持构件的磁性装置的吻合形成的制作方法

文档序号:29315404发布日期:2022-03-19 21:33阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种用于在消化道的两个相邻壁之间形成吻合的系统,该系统包括:第一和第二磁性植入物,其构造成经消化道的两个相邻壁彼此磁耦合以将所述两个相邻壁的一部分压缩在其间并形成坏死区域,所述坏死区域在愈合时期之后被瘢痕边缘包围;和保持构件,其从所述第一和第二磁性植入物中的至少一者向外延伸,所述保持构件构造成将所述第一和第二磁性植入物保持就位并在愈合时期内防止其通过所述坏死区域。2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述保持构件包括凸缘或一系列凸缘。3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述保持构件包括围绕所述第一和第二磁性植入物中的所述至少一者周向延伸的连续边沿。4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述保持构件包括生物可侵蚀材料、生物可降解材料和生物可吸收材料中的至少一者。5.根据权利要求1至4中任一项所述的系统,其中,所述保持构件包括至少两种材料,一旦植入给定环境中,所述至少两种材料具有不同的溶解率或不同的降解率。6.根据权利要求1至4中任一项所述的系统,其中,所述保持构件包括至少一个凹口或点,一旦植入给定环境中,所述凹口或点具有与其其余部分不同的溶解率或降解率。7.根据权利要求1至6中任一项所述的系统,其中,所述第一和第二磁性植入物中的每一个均包括相应的从其向外延伸的保持构件,和/或所述第一和第二磁性植入物的保持构件由相同材料制成。8.根据权利要求1至6中任一项所述的系统,其中,所述第一和第二磁性植入物中的每一个均包括相应的从其向外延伸的保持构件,和/或所述第一磁性植入物的保持构件由与所述第二磁性植入物的保持构件不同的材料制成。9.根据权利要求8所述的系统,其中,所述第一磁性植入物构造成用于植入强酸性环境中,并且所述第二磁性植入物构造成用于植入弱酸性环境中,并且一旦分别地被植入强酸性环境和弱酸性环境中,所述第一和第二保持构件具有相似的溶解率或降解率。10.根据权利要求1-6中任一项所述的系统,其中,所述第一和第二磁性植入物中的每一个均包括相应的从其向外延伸的保持构件,和/或每个相应的保持构件具有朝向消化道组织取向的向外延伸的内表面,一旦植入消化道中,就在第一和第二磁性植入物的对应的保持构件的向外延伸的内表面之间限定出间隙。

技术总结
提供了用于在消化道的两个相邻壁之间形成吻合的系统和方法。该系统可以包括第一和第二磁性植入物,其构造成经消化道的两个相邻壁彼此磁耦合以将两个相邻壁的一部分压缩在其间并形成在愈合时期之后被瘢痕边缘包围的坏死区域。该系统还可包括可从第一和第二磁性植入物中的相应一者向外延伸的保持构件,该保持构件构造成将第一和第二磁性植入物保持在适当位置并在愈合时期内防止其通过坏死区域。当位置并在愈合时期内防止其通过坏死区域。当位置并在愈合时期内防止其通过坏死区域。


技术研发人员:M
受保护的技术使用者:GT代谢解决方案公司
技术研发日:2021.09.18
技术公布日:2022/3/18
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