专利名称：一种浸洗槽的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及湿法制芯片生产领域，尤其是涉及一种浸洗槽。
背景技术：
在湿法制芯片的生产过程中，经过各种工艺环节之后，芯片表面会残留各种化学液体及杂质，因此需要对其进行清洗，才能将化学液体及杂质清理干净。在清洗过程中，由于需要保证浸洗槽内液体的高度能够足够覆盖芯片，且加液体时不会溢出，因此一般在浸洗槽上均设置有液位检测装置。传统的液位检测装置为直接设置在浸洗槽体上，在清洗时，芯片有可能会卡在检测装置上，既对检测装置造成影响，还对芯片的质量造成了一定的影响。
实用新型内容本实用新型为了克服上述的不足，提供了一种清洗方便，且芯片和液位检测装置不会发生触碰的浸洗槽。本实用新型的技术方案如下:一种浸洗槽，包括浸洗槽体和液位检测装置，所述液位检测装置包括高液位检测装置和低液位检测装置，所述浸洗槽体的一侧设有检测槽体，所述检测槽体与浸洗槽体相连通，所述高液位检测装置和低液位检测装置均设置在检测槽体上。所述高液位检测装置位于检测槽体的顶部，低液位检测装置位于检测槽体的底部。所述液位检测装置还包括安全液位检测装置。所述安全液位检测装置位于高液位检测装置和低液位检测装置之间。本实用新型的有益效果是:本实用新型由于将浸洗槽设置成连通的浸洗槽体和检测槽体，浸洗槽内放置需要清洗的芯片，检测槽体上安装液位检测装置，既能够对液位进行检测，又使芯片不与液位检测装置接触，在对液位进行检测的同时，保证了芯片的质量。
本实用新型将通过例子并参照附图的方式说明，其中:图1是本实用新型的示意图。
具体实施方式
本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。如图1所示的浸洗槽，包括浸洗槽体I和液位检测装置，所述液位检测装置包括高液位检测装置2和低液位检测装置3，所述浸洗槽体I的一侧设有检测槽体4，所述检测槽体4与浸洗槽体I相连通。所述高液位检测装置2和低液位检测装置3均设置在检测槽体4上，所述高液位检测装置2位于检测槽体4的顶部，低液位检测装置3位于检测槽体4的底部，所述高液位检测装置2和低液位检测装置3之间还设有一个安全液位检测装置。本实用新型由于将浸洗槽设置成连通的浸洗槽体和检测槽体，浸洗槽内放置需要清洗的芯片，检测槽体上安装液位检测装置，既能够对液位进行检测，又使芯片不与液位检测装置接触，在对液位进行检测的同时，保证了芯片的质量。本实用新型并不局限于前述的具体实施方式
。本实用新型扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组
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权利要求1.一种浸洗槽，包括浸洗槽体(I)和液位检测装置，所述液位检测装置包括高液位检测装置(2)和低液位检测装置(3)，其特征是:所述浸洗槽体(I)的一侧设有检测槽体(4)，所述检测槽体(4 )与浸洗槽体(I)相连通，所述高液位检测装置(2 )和低液位检测装置(3 )均设置在检测槽体(4)上。
2.根据权利要求1所述的浸洗槽，其特征是:所述高液位检测装置(2)位于检测槽体(4)的顶部，低液位检测装置(3)位于检测槽体(4)的底部。
3.根据权利要求1所述的浸洗槽，其特征是:所述液位检测装置还包括安全液位检测装置(5)。
4.根据权利要求2所述的浸洗槽，其特征是:所述安全液位检测装置(5)位于高液位检测装置(2 )和低液位检测装置(3 )之间。
专利摘要本实用新型公开了一种浸洗槽，包括浸洗槽体(1)和液位检测装置，所述液位检测装置包括高液位检测装置(2)和低液位检测装置(3)，所述浸洗槽体(1)的一侧设有检测槽体(4)，所述检测槽体(4)与浸洗槽体(1)相连通，所述高液位检测装置(2)和低液位检测装置(3)均设置在检测槽体(4)上。本实用新型既能够对液位进行检测，又使芯片不与液位检测装置接触，在对液位进行检测的同时，保证了芯片的质量。
文档编号B08B3/04GK202996794SQ20122058275
公开日2013年6月12日 申请日期2012年11月7日 优先权日2012年11月7日
发明者王京雨 申请人:王京雨