专利名称：一种匀水分配装置的制作方法
技术领域：
一种匀水分配装置技术领域[0001]本实用新型涉及一种匀水装置，涉及印染行业的染液分配设备。
背景技术：
[0002]目前，染整设备大都是采用多个染整空间进行同时作业，同时通过一个染液循环 系统进行染液循环。在循环的过程中经常存在着压力不等的情况，造成了染液的循环速度 不同，染整的效果也就参差不齐。[0003]针对上述问题，申请人在同日申请了《匀水分配装置》的专利，在该专利结构中，采 用了水轮和隔间相结合的方式，可以达到一定的均匀分配的效果，可以适用于普通的燃料 染液的输送。但由于水轮的稳定性，特别是要承受高压条件下的稳定性，以及水轮与本体的 同心度的问题，采用普通的轴向定位的方式，会使水轮的使用寿命大大降低，所以为了提高 水轮的使用寿命。实用新型内容[0004]本实用新型的目的是提供一种可以保证水轮稳定运转的匀水分配装置。[0005]本实用新型采用的技术方案是[0006]匀水分配装置，包括本体，所述本体为回转体结构，本体上的上部中央与一个进水 管道连接，本体的下部与若干个出水管道连接，在本体的内顶部设有水轮，所述水轮与回转 体形状的本体同心设置，在本体的底部中央设有支撑柱，所述支撑柱的顶端具有圆台面；所 述水轮的底部中心设有支撑台面，所述支撑台面具有圆形的内凹面，所述圆台面与所述内 凹面配合。[0007]更进一步的，在所述水轮所处位置的本体内壁面上设有环状的支撑台阶，所述水 轮的外边缘与所述支撑台阶相接触。[0008]本实用新型所述的匀水分配装置，通过圆台面和支撑台阶可以对水轮的边缘和中 央进行支撑。所述支撑台阶起到主要的支撑和稳定的作用，所述支撑台阶可以对水轮的边 缘进行支撑，使水轮的运转更为稳定。
[0009]下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。[0010]图1是本实用新型实施例所述匀水分配装置的结构图。
具体实施方式
[0011]如图1所示，本实用新型实施例所述的匀水分配装置，包括本体1，所述本体I为回 转体结构，本体I上的上部中央与一个进水管道2连接，本体I的下部与若干个出水管道3 连接，在本体I的内顶部设有水轮4，所述水轮4与回转体形状的本体I同心设置，在本体I 的底部中央设有支撑柱5，所述支撑柱5的顶端具有圆台面51 ;所述水轮4的底部中心设有支撑台面6，所述支撑台面6具有圆形的内凹面，所述圆台面与所述内凹面配合。[0012]更进一步的，在所述水轮4所处位置的本体I内壁面上设有环状的支撑台阶7，所 述水轮4的外边缘与所述支撑台阶7相接触。[0013]本实用新型所述的匀水分配装置，通过圆台面和支撑台阶可以对水轮的边缘和中 央进行支撑。所述支撑台阶起到主要的支撑和稳定的作用，所述支撑台阶可以对水轮的边 缘进行支撑，使水轮的运转更为稳定。
权利要求1.匀水分配装置，包括本体，其特征在于，所述本体为回转体结构，本体上的上部中央与一个进水管道连接，本体的下部与若干个出水管道连接，在本体的内顶部设有水轮，所述水轮与回转体形状的本体同心设置，在本体的底部中央设有支撑柱，所述支撑柱的顶端具有圆台面；所述水轮的底部中心设有支撑台面，所述支撑台面具有圆形的内凹面，所述圆台面与所述内凹面配合。
2.如权利要求1所述的匀水分配装置，其特征在于，在所述水轮所处位置的本体内壁面上设有环状的支撑台阶，所述水轮的外边缘与所述支撑台阶相接触。
专利摘要匀水分配装置，包括本体，所述本体为回转体结构，本体上的上部中央与一个进水管道连接，本体的下部与若干个出水管道连接，在本体的内顶部设有水轮，所述水轮与回转体形状的本体同心设置，在本体的底部中央设有支撑柱，所述支撑柱的顶端具有圆台面；所述水轮的底部中心设有支撑台面，所述支撑台面具有圆形的内凹面，所述圆台面与所述内凹面配合。本实用新型所述的匀水分配装置，通过圆台面和支撑台阶可以对水轮的边缘和中央进行支撑。所述支撑台阶起到主要的支撑和稳定的作用，所述支撑台阶可以对水轮的边缘进行支撑，使水轮的运转更为稳定。
文档编号D06B23/20GK202830522SQ20122054785
公开日2013年3月27日 申请日期2012年10月25日 优先权日2012年10月25日
发明者鲍洪生 申请人:无锡宇吉科技有限公司