专利名称：止滑磁砖的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种磁砖。
背景技术：
随着人们居住水平的提高，新颖装饰材料不断涌现，比如磁砖就是其中之一。磁砖主要铺设在墙面和地面上，为了达到更加美观的效果，目前又出现了抛光磁砖，但是，普通抛光磁砖由于表面非常光滑，在有水状态下的摩擦系数已经低于正常的安全系数，人走在磁砖上常常会有滑倒的危险。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种止滑磁砖，该磁砖表面的玻璃相用酸浊液侵蚀，从而在表面上形成细小的凹陷，提高了磁砖的摩擦系数，可防止人们在行走时滑倒。
本实用新型的技术方案是一种止滑磁砖，包括基材，所述基材的上表面设有若干细小的凹陷，该凹陷是由酸浊液将基材中的玻璃相侵蚀后形成的。
本实用新型详细的技术方案之一是一种止滑磁砖，包括基材，所述基材的上表面设有若干细小的凹陷，该凹陷是由酸浊液将基材中的玻璃相侵蚀后形成的；所述基材为玻化砖，凹陷直接在玻化砖上形成；所述凹陷的深度小于1.5微米。
本实用新型详细的技术方案之二是一种止滑磁砖，包括基材，所述基材的上表面设有若干细小的凹陷，该凹陷是由酸浊液将基材中的玻璃相侵蚀后形成的；所述基材包括陶坯和釉面，凹陷在釉面上形成；所述凹陷的深度小于1.5微米。
本实用新型的优点是1.本实用新型在磁砖表面设有用酸蚀液侵蚀玻璃相后形成的凹陷，提高了磁砖表面的摩擦系数，可防止人们在行走时滑倒。
2.本实用新型在提高摩擦系数的同时，仍然保留了磁砖表面的光洁和亮度，不影响磁砖外观的美化效果。
3.本实用新型克服了现有止滑磁砖采用强烈的凹凸结构来进行防滑、造成不易清洗的毛病。
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步的描述
图1为止滑抛光砖的结构示意图；图2为止滑釉面砖的结构示意图；其中1 基材；2 凹陷；3 玻化砖；4 陶坯；5 釉面。
具体实施方式
实施例一如
图1所示，一种止滑磁砖，包括基材(1)，基材(1)为玻化砖(3)，玻化砖(3)的表面设有凹陷(2)，该凹陷(2)是由酸浊液将玻化砖(3)中的玻璃相侵蚀后形成的，凹陷(2)的深度小于1.5微米。
实施例二如图2所示，一种止滑磁砖，包括基材(1)，基材(1)包括陶坯(4)和釉面(5)，釉面(5)上的表面设有凹陷(2)，该凹陷(2)是由酸浊液将玻化砖(3)中的玻璃相侵蚀后形成的，凹陷(2)的深度小于1.5微米。
本实用新型在磁砖表面设有用酸蚀液侵蚀玻璃相后形成的凹陷(2)，提高了磁砖表面的摩擦系数，可防止人们在行走时滑倒；本实用新型在提高摩擦系数的同时，仍然保留了磁砖表面的光洁和亮度，不影响磁砖外观的美化效果；本实用新型克服了现有止滑磁砖采用强烈的凹凸结构来进行防滑、造成不易清洗的毛病。
权利要求1.一种止滑磁砖，包括基材(1)，其特征在于所述基材(1)的上表面设有若干细小的凹陷(2)，该凹陷(2)是由酸浊液将基材(1)中的玻璃相侵蚀后形成的。
2.根据权利要求1所述的止滑磁砖，其特征在于所述基材(1)为玻化砖(3)，凹陷(2)直接在玻化砖(3)上形成。
3.根据权利要求1所述的止滑磁砖，其特征在于所述基材(1)包括陶坯(4)和釉面(5)，凹陷(2)在釉面(5)上形成。
4.根据权利要求1或2或3所述的止滑磁砖，其特征在于所述凹陷(2)的深度小于1.5微米。
专利摘要本实用新型公开了一种止滑磁砖，包括基材，所述基材的上表面设有若干细小的凹陷，该凹陷是由酸浊液将基材中的玻璃相侵蚀后形成的；本实用新型提高了磁砖表面的摩擦系数，可防止人们在行走时滑倒，保留了磁砖表面的光洁和亮度，不影响磁砖外观的美化效果。
文档编号E04F15/08GK2679283SQ20032012328
公开日2005年2月16日 申请日期2003年12月23日 优先权日2003年12月23日
发明者曹小美, 杨健 申请人:信益陶瓷(中国)有限公司