专利名称：一种烧成温度1200℃的燃气烤花窑的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种烧成温度120(TC的燃气烤花窑。
背景技术：
随着生活水平的不断提高，人们对物质的需求也日益高涨，瓷器 中的釉下彩花和金水釉面花产品如今已成为富贵象征。这类瓷产品的 制作工艺考究，对烤花窑的气氛波动和温度控制有严格要求，以往市 面上的该类瓷产品均为电烤花，少量用隔焰烤花窑生产；电烤花生产 量低，而隔焰烤花产量大但能耗较大。 发明内容
本实用新型目的，是提供一种烧成温度120(TC的燃气烤花窑， 它具有明焰式内膛结构，能够显著减轻气氛波动，较快提高窑炉温度 并降低能耗，保证优良的外观质量。
本实用新型的技术方案如下一
一种烧成温度120(TC的燃气烤花窑，它含有烤花窑墙，瓷产品 依托设置于烤花窑内膛中部的高铝瓷辊棒渐次向窑尾移动并形成瓷 产品通行区间，其特征在于在所述瓷产品通行区间上部和下部的两 侧烤花窑墙上，交错设置有等距排列的多个上层高速调温烧嘴和与其 对应的多个下层高速调温烧嘴，其中的多个上层高速调温烧嘴与瓷产 品通行区间的上界之间设置有靠隔焰棚板托辊支承的隔焰棚板。
本实用新型的有益效果是多个下层高速调温烧嘴的燃气火焰直 接辐射产品，窑炉内膛温度提升时间较隔焰烤花窑快24%，可显著降低能耗；多个上层高速调温烧嘴的火焰用隔焰棚板隔开可以缓冲火焰
波动的冲击，能够保证120(TC釉下彩和金水釉面彩的外观质量。
图1是本实用新型的结构示意图(大箭号指示瓷产品移动方向， 中、小箭号指示热量传递方向)。
图2是本实用新型的纵向断面示意图。
图中1—烤花窑墙，2—上层高速调温烧嘴，3—下层高速调温 烧嘴，4—高铝瓷辊棒，5—瓷产品，6—上层火焰，7—下层火焰， 8—隔焰棚板，9—隔焰棚板托辊。
具体实施方式
一种烧成温度120(TC的燃气烤花窑的整体结构恰如图1、图2所 示，它含有位于底部和两侧的烤花窑墙1，瓷产品5依托设置于烤花 窑内膛中部的高铝瓷辊棒4渐次向窑尾移动并形成瓷产品通行区间， 在瓷产品通行区间上部和下部的两侧烤花窑墙1上，交错设置有等距 排列的多个上层高速调温烧嘴2和与其对应的多个下层高速调温烧 嘴3，其中的多个上层高速调温烧嘴2与瓷产品通行区间的上界之间 设置有靠隔焰棚板托辊9支承的隔焰棚板8。
这是一种具有明焰式内膛结构的烤花窑炉。由于有下层火焰7直 接辐射产品，故窑炉内膛升温较快，测试表明，它比较隔焰烤花窑的 升温时间快24%;另夕卜，其上层火焰6又有隔焰棚板8隔开，这可以 缓冲火焰波动的冲击，确保烧成120(TC釉下彩、金水釉面彩的外观 质量。
权利要求1、一种烧成温度1200℃的燃气烤花窑，它含有烤花窑墙(1)，瓷产品(5)依托设置于烤花窑内膛中部的高铝瓷辊棒(4)渐次向窑尾移动并形成瓷产品通行区间，其特征在于在所述瓷产品通行区间上部和下部的两侧烤花窑墙(1)上，交错设置有等距排列的多个上层高速调温烧嘴(2)和与其对应的多个下层高速调温烧嘴(3)，其中的多个上层高速调温烧嘴(2)与瓷产品通行区间的上界之间设置有靠隔焰棚板托辊(9)支承的隔焰棚板(8)。
专利摘要本实用新型涉及一种烧成温度1200℃的燃气烤花窑，它含有烤花窑墙，瓷产品依托设置于烤花窑内膛中部的高铝瓷辊棒渐次向窑尾移动并形成瓷产品通行区间，其特征在所述瓷产品通行区间上部和下部的两侧烤花窑墙上，交错设置有等距排列的多个上层高速调温烧嘴和与其对应的多个下层高速调温烧嘴，其中的多个上层高速调温烧嘴与瓷产品通行区间的上界之间设置有靠隔焰棚板托辊支承的隔焰棚板。本实用新型的有益效果是具有明焰式内膛结构，能显著减轻气氛波动，较快提高窑炉温度并降低能耗，保证优良的外观质量。
文档编号C04B33/34GK201359433SQ200920062919
公开日2009年12月9日 申请日期2009年1月14日 优先权日2009年1月14日
发明者宋志国, 杨志平, 陈云志 申请人:湖南省醴陵市科发窑炉热工设备有限公司