平板玻璃低反射蒙砂工艺的制作方法
【专利摘要】一种平板玻璃低反射蒙砂工艺，包括如下步骤：a.研磨蒙砂，用带有金属盘的研磨机对平板玻璃单面的表面进行研磨，研磨液为含有碳化硅微粉的溶液；b.化学抛光，使用AR级的氢氧化钾或氢氧化钠熔盐，在280℃±2℃温度下，对研磨后的产品抛光2～6分钟；c.酸洗，使用2％-4％的强酸溶液对化学抛光后的产品浸泡清洗5分钟以上。本发明的目的是提供一种无氟蒙砂工艺，具有可控性高、成品率稳定、便于管控、运输、废弃物易处理、适合于所有不同材质玻璃的低反射蒙砂处理等优势。
【专利说明】平板玻璃低反射蒙砂工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种平板玻璃低反射蒙砂工艺，适用于所有平面玻璃镜片蒙砂加工处理，能得到表面很好、蒙砂效果一致的蒙砂玻璃。
【背景技术】
[0002]随着玻璃镜片冷加工工艺在手机、触摸屏领域的日趋完善，各种不同样式的玻璃镜片已越来越不能满足消费者的审美观。低反射蒙砂玻璃以其典雅的风格更能吸引消费者的眼球；同时低反射蒙砂玻璃防眩效果好，强光下不会产生眩光；低反射玻璃同时具有触摸手感好。
[0003]因为蒙砂玻璃所具备其他玻璃产品没有的优势，苹果、惠普等公司早已使用化学蒙砂镜片、研磨砂面镜片作为笔记本触摸板。但化学蒙砂存在良率低、蒙砂效果不一致、以及蒙砂液含氟高等诸多弊端；研磨砂面存在砂面视觉效果发白、触摸感差、光泽度差等弊端。
[0004]具体来讲，目前常用做蒙砂的工艺与设备分氢氟酸喷淋蒙砂、研磨、喷砂等，氢氟酸喷淋蒙砂缺陷在于工艺较难控制，很难达到整面均匀性；研磨、喷砂不足在于，蒙砂后的产品再经过化学抛光，均会因为产品表面损伤层不一致，导致产品表面砂面效果参差不齐，严重时甚至出现明显的深划伤、凹坑不良。而且氢氟酸、硫酸混合酸常温下抛光，设备需考虑溶液挥发、 表面蒙砂不均匀等异常，要求设备密闭抽风、溶液不停循环、喷淋，且氢氟酸作为一种有毒酸，对人体有很严重的创伤。
【发明内容】
[0005]本发明的目的在于针对现有技术的不足提供一种防止因研磨蒙砂后再抛光产品表面深划伤现象、可去除化学抛光残留的印溃、降低化学蒙砂对氢氟酸的依赖性的平板玻璃低反射蒙砂工艺。
[0006]为解决上述技术问题，本方法所采用的技术方案为:包括如下步骤:
[0007]a.研磨蒙砂，
[0008]用带有金属盘的研磨机对平板玻璃单面的表面进行研磨，研磨液为含有碳化硅微粉的溶液；
[0009]b.化学抛光，
[0010]使用AR级的氢氧化钾或氢氧化钠熔盐，在280°C ±2°C温度下，对研磨后的产品抛光2~6分钟；
[0011]C.酸洗，
[0012]使用2% -4%的强酸溶液对化学抛光后的产品浸泡清洗5分钟以上。
[0013]步骤a中的金属盘研磨机的研磨盘面由铜、锡、铁软金属制成；
[0014]所述碳化硅微粉的粒径为5-10um。
[0015]所述步骤a中,研磨平板玻璃单面的研磨量不低于0.04mm。[0016]步骤c中的强酸是分析纯硫酸、盐酸、硝酸或磷酸。
[0017]本方法采用铜盘或锡盘机,采用粒径5-10um的碳化娃微粉研磨液,研磨5Min,由于使用铜盘或锡盘机，使得研磨能得到很好的平整度，同时使产品表面损伤层达到一致的效果，经过化学抛光，不会出现表面划痕、砂面效果参差不齐等等不良现象。使用分析纯的Κ0Η,NaOH强碱280°C熔盐抛光2_6Min，对设备无复杂的要求，熔盐不会挥发，不需要佩带防毒面具，废弃物可再回收利用。熔盐温度较高，已经超过强化玻璃表面活化温度，因此只需浸泡抛光即可。使用2% -4%的氏504浸泡清洗51^11，可去除强碱作用在玻璃表面残留的色泽不均、水印等不良外观。在浓度高的强酸、强碱下，玻璃表面容易发生吸附，表面产生色泽不均等现象，对应使用浓度低的碱、酸进行浸泡清洗，可快速去除。
【专利附图】
【附图说明】
[0018]图1为不同粒径的碳化硅微粉研磨液与产品表面粗糙度的直方图。
[0019]图2为不同抛光时间与产品光泽度之间关系的曲线图。
【具体实施方式】
[0020]以下使用康宁公司生产的Corning2317玻璃为对象，结合手机玻璃屏幕的加工进一步说明本发明的实施方式，制作粗糙度为250nm、光泽度为IOGu的蒙砂。
[0021]采用如下工艺步骤:
[0022]粗磨:采用创机公司生产的16B单面铜盘机，山东潍坊凯华碳化硅微粉有限公司生产的F1200型反应烧结专用碳化硅微粉研磨液，抛光粉粒径5-6um，研磨单位面压50-60Kg/cm2，研磨转速20转/Min，研磨时温度控制在25 ±5°C，单面去除量0.04mm ;研磨使用不同粒径的碳化硅微粉研磨液，可获得不同粗糙度的产品表面，具体粗糙度要求可视客户要求而定，可参考图1。
[0023]
【权利要求】
1.一种平板玻璃低反射蒙砂工艺，其特征在于:包括如下步骤: a.研磨蒙砂， 用带有金属盘的研磨机对平板玻璃单面的表面进行研磨，研磨液为含有碳化硅微粉的溶液； b.化学抛光， 使用AR级的氢氧化钾或氢氧化钠熔盐，在280°C ±2°C温度下，对研磨后的产品抛光2~6分钟； c.酸洗， 使用2% -4%的强酸溶液对化学抛光后的产品浸泡清洗5分钟以上。
2.根据权利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工艺，其特征在于，步骤a中的金属盘研磨机的研磨盘面由铜、锡、铁软金属制成。
3.根据权利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工艺，其特征在于:所述碳化硅微粉的粒径为5-10um。
4.根据权利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工艺，其特征在于:所述步骤a中，研磨平板玻璃单面的研磨量不低于0.04_。
5.根据权利要求1所述的平板玻璃低反射蒙砂工艺，其特征在于，步骤c中的强酸是分析纯硫酸、盐酸、硝酸或磷酸。
【文档编号】C03C15/00GK104016591SQ201410272571
【公开日】2014年9月3日 申请日期:2014年6月18日 优先权日:2014年6月18日
【发明者】周群飞, 饶桥兵, 赵军华 申请人:蓝思科技股份有限公司