基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法
【专利摘要】本发明公开了一种基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法，属于无机非金属材料领域。本发明所采用的技术方案包括以下步骤a、根据设计的陶瓷釉层的表面形状、颜色，制作用于覆盖素胚不同色块的拓印件；b、将拓印件覆盖在素胚对应的色块上；c、采用金属釉喷涂色块前，卸下对应色块的拓印件，喷涂完毕后再用拓印件覆盖已喷涂色块，继续喷涂其他色块；d、将喷涂完毕后的陶瓷烧制得产品。该方法可节约步骤，工艺更简单，能提高喷涂效率。利用拓印方法可节约装饰瓷砖的制备工艺，产品图案更精确，可应用于批量生产。
【专利说明】基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法
[0001]
【技术领域】
[0002]本发明属于无机非金属材料领域，具体涉及一种基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法。
【背景技术】
[0003]釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料和化工原料按一定比例配合经过研磨制成釉浆，施于坯体表面，经一定温度煅烧而成。能增加制品的机械强度、热稳定性和电介强度，还有美化器物、便于拭洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点。
[0004]目前上釉方式通常包括釉上彩、釉下彩、釉中彩三种方式。
[0005]釉上彩是陶瓷的主要装饰技法之一，用各种彩料在已经烧成的瓷器釉面上绘制各种纹饰，然后二次入窑，低温固化彩料而成，通常包括彩绘瓷、彩饰瓷、青花加彩瓷、五彩瓷、粉彩瓷、色地描金瓷及珐琅彩等。
[0006]釉下彩是瓷器釉彩装饰的一种，又称“窑彩”。釉下彩是陶瓷器的一种主要装饰手段，是用色料在已成型晾干的素坯(即半成品)上绘制各种纹饰，然后罩以白色透明釉或者其他浅色面釉，一次烧成。
[0007]釉中彩是七十年代发展起来的一种新的瓷器装饰材料和技法。亦称高温快烧颜料。颜料的熔剂成分不含铅或少含铅，按釉上彩方法施于器物釉面，通过1100?1260°C的高温快烧，颜料渗入釉内，冷却后釉面封闭。细腻晶莹、滋润恍目，抗腐蚀、耐磨损，具有釉下彩的效果。
[0008]但是，无论采用上述任一方式，均不可避免的需要施用涂料，而且工艺复杂。
【发明内容】
[0009]本发明的目的在于克服现有技术中所存在的上述不足，提供一种新的上釉方法。为解决上述技术问题，本发明所提供的基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法包括以下步骤:
a、根据设计的陶瓷釉层的表面形状、颜色，制作用于覆盖素胚不同色块的拓印件；
b、将拓印件覆盖在素胚对应的色块上；
C、采用金属釉喷涂色块前，卸下对应色块的拓印件，喷涂完毕后再用拓印件覆盖已喷涂色块，继续喷涂其他色块；
d、将喷涂完毕后的陶瓷烧制得产品。
[0010]上述技术方案，所述的素胚采用常规方式烧制即可；所述金属釉采用常规金属釉即可，根据产品要求确定金属釉品种数量。
[0011]具体的，所述拓印件可采用纸张或塑料膜制作，以能避免喷涂时不同金属釉混合，能完成金属轴唆涂即可。
[0012]优选的，所述步骤b中覆盖时控制拓印件与素胚距离为3mm-10mm，既可达到覆盖的作用，也可避免与喷涂后的金属釉层接触，损伤釉层。
[0013]本发明的有益效果如下:
采用本发明方法，根据设计的陶瓷形状烧制素胚，再根据素胚的表面形状、颜色制作拓印件，再分别针对不同的色块喷涂金属釉。该方法可节约步骤，工艺更简单，能提高喷涂效率。利用拓印方法可节约装饰瓷砖的制备工艺，产品图案更精确，可应用于批量生产。
【具体实施方式】
[0014]下面结合【具体实施方式】对本发明作进一步的详细描述。但不应将此理解为本发明上述主题的范围仅限于以下的实施例，凡基于本
【发明内容】
所实现的技术均属于本发明的范围。
实施例
[0015]具有树叶图案的装饰瓷砖的制作方法，包括以下步骤:
a、根据图案大小，制作树叶状拓印件和用于覆盖除树叶以外其他瓷砖部位的拓印件；
b、将树叶状拓印件覆盖素胚上对应的色块，控制拓印件与素胚距离为5mm;
c、采用蓝色金属釉对树叶以外其他瓷砖部位进行喷涂，喷涂完成后，用拓印件覆盖已完成喷涂的部位，卸下树叶形状拓印件，采用绿色金属釉进行喷涂；
d、将喷涂完毕后的陶瓷烧制既得产品。
[0016]所得装饰瓷砖金属质感强，金属釉无混合，产品质量佳。本发明方法简单，利用拓印方法可节约装饰瓷砖的制备工艺，产品图案更精确，可应用于批量生产。
【权利要求】
1.基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法，其特征在于，包括以下步骤: a、根据设计的陶瓷釉层的表面形状、颜色，制作用于覆盖素胚不同色块的拓印件； b、将拓印件覆盖在素胚对应的色块上； C、采用金属釉喷涂色块前，卸下对应色块的拓印件，喷涂完毕后再用拓印件覆盖已喷涂色块，继续喷涂其他色块； d、将喷涂完毕后的陶瓷烧制得产品。
2.根据权利要求1所述的基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法，其特征在于:所述拓印件采用纸张或塑料膜制作。
3.根据权利要求1所述的基于拓印技术的陶瓷釉面装饰金属釉的方法，其特征在于:所述步骤b中覆盖时控制拓印件与素胚距离为3mm-10mm。
【文档编号】C04B41/86GK104496563SQ201510026020
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2015年1月20日 优先权日:2015年1月20日
【发明者】徐文军 申请人:四川汇丰陶瓷有限公司