大面积彩绘陶瓷的制造工艺的制作方法

文档序号:1913359阅读:597来源:国知局
专利名称:大面积彩绘陶瓷的制造工艺的制作方法
技术领域
本发明属于一种特种超大面积彩绘陶瓷的制造工艺。
陶瓷在日常生活中是经常遇到的,或是生活陶瓷,或工业陶瓷或艺术陶瓷,且品种繁多,制造工艺各异,如“一种釉面砖制法”(CN90104045.5)涉及了建筑陶瓷领域,它采用绢云石英片岩替代了硅灰石,并主要采用球磨,坯体制备,素烧,施釉等工艺;在“青花陶瓷面砖装饰壁面的颜料及其工艺方法(CN88102554.2)中,提及了主要采用石膏制成的阴纹模具装饰工艺”,以中温青花颜料和釉中彩工艺方法,以及“陶瓷工艺品浮雕图案装饰工艺”(CN87108101.6)中提及在产品原型上采用粘贴或涂刷方法装饰浮雕图案,铸成石膏工作模具,泥注坯体,施釉和烧制成品等等。所有这些,都各具特点如节能,原料来源容易;供室内装饰具有中国画的艺术效果等等。但是,它们都是局限在小体积,小面积的陶瓷制造方法,由于大模具的吸水能力不一,使坯体容易受伤,造成变形,其次由于传热和压力不匀,造成成品率低以及当釉面和坯体同时烧制时,当达到1200℃时,易产生二三相变,故变形率大。
本发明的目的在于提出一种特种超大面积彩绘陶瓷的工艺,它主要是根据陶瓷坯体面积大小的不同而使用不同重量比的生、熟粉料,添加稀释蜜糖水,经搅拌、重压成型、煅烧、彩绘、施以中低热度釉,最后再煅烧成陶瓷成品,从而解决了现有技术的不足。
本发明的主要技术方案在于,首先是加工生料和熟料,添加稀释蜜糖水,经密封搅拌重压成型,室内自然凉干,煅烧,施以中低热度釉烧制,再施以基础釉调配色料,彩绘图案,烧制而成,其具体步骤是1、将普通现成已混合的,生产中的瓷土用滚动球磨机进行细磨达到280目,储存20天,使之自动发酵,然后用干燥机使之失去全部水份而形成生料;
2、用生料在1100°至1180℃温度下先行煅烧,然后用粗碎机粉碎达到30至50目,再以料与球子重量比为6∶1,一起放在滚动球磨机中细靡达到200目而形成熟料;
3、在按比例的生熟料中,添加入其总重量8-12%的稀释蜜糖水,在密封的容器中,搅拌成微湿的粉料。生熟料的重量比可以是A.生产0.5-1.5平方米面积陶瓷坯体,其生料重量75-85%和熟料重量为15-25%;
B.生产1.5-3平方米面积陶瓷坯体,其生料重量占65-75%和熟料重量占25-35%;
C.生产3平方米以上面积陶瓷坯体,其生熟各占总重量的50%。
4、在室温22-26℃和室内湿度在70至80%的条件下,将微湿粉料重压成瓷坯,并将它置于湿度为50%以下的室内,使之自然干燥,其瓷坯所用压力控制在10-30吨/平方厘米。
5、将已干燥的瓷坯置于窑中烧制,其烧结温度控制在1160°-1260℃范围。
6、将烧制过的坯体施以中低热度釉,该釉的成分是以铅和矽酸的氧化物为主,石灰石为副,其成分和重量比为氧化铅占60-70%,矽石占24-35%,石灰石占1-5%,再配以各成分总重量32%的水调配而成。
7、将已施釉过的瓷体置于窑中烧制成陶瓷,其温度控制在1100°至1200℃范围。
8、采用由基础釉调配的各种色料,在烧结后带釉的陶瓷体上彩绘各种中外美术图案,如油画等,最后将它置入窑中烧制成特种大面积或大瓷盘,大瓷瓶,大缸等等各种形状的彩绘陶瓷,烧制的温度控制在780°-900℃范围,其中所用基础釉的配制有如下三种,它们的成分和份量比是第一种,由0.8-0.9份的氧化铅(PbO),0.07-0.09份的氧化钾(K2O),0.01-0.03份的氧化钠(Na2O),0.03-0.05份氧化铝(Al2O3)和1.5-2.2份的氧化硅(SiO2)组成。
第二种,由0.8-0.9份的氧化铅(PbO),0.07-0.09份的氧化钾(K2O),0.01-0.03份的氧化钠(Na2O),0.03-0.05份的氧化铝(Al2O3),1.5-2.2份的氧化硅(SiO2)和5.5-7份的酸化锡组成。
第三种,由0.03-0.05份的氧化钾,0.1份的氧化钠,0.09-0.11份的氧化锂(Li2O),0.45-0.58份的氧化钙(CaO),0.15-0.2份的氧化钡(BaO),0.03-0.06份的氧化铝(Al2O3)和0.15-0.22的氧化硅组成。
其中,第一和第二两种基础釉可以调配各种煅烧过的着色金属溶块釉或高温度釉;第三种则专为调配红色的釉。就此,可以彩画烧制出超大平面和各种形状的西洋画系列陶瓷。
本发明工艺简单,原料低廉以及所烧制的彩画陶瓷具有不变形,不褪色,平滑光洁和强度大等特点,因此,可作为艺术珍品长期保存观赏。
本发明的一个具体实施例在于烧制一块1×2平方米的彩绘陶瓷。它的制法是1、首先将现成已混合的,生产中的普通瓷土用滚动球磨机细磨到280目;储存20天后使之自动发酵,然后用干燥机使之失去全部水份,形成生料;
2、用生料在1100°至1180℃温度下煅烧,然后用粗碎机粉碎,达到30至50目,再以6∶1的料、球子重量比,在滚动球磨机中将料细磨达到200目,形成熟料;
3、称取生料28.4斤和熟料9.6斤并添加入由3.456斤的水和0.384斤蜂蜜组成的蜜糖水,然后在密封的容器中搅拌成微湿粉料;
4、在室温为22℃及湿度为70%的室内,采用21吨/平方厘米的压力,将微湿粉料压成平面瓷坯,并将它置入室内湿度为50%以下的地方让其自然干燥;
5、将干燥后的瓷坯置于窑内素烧,素烧温度控制1160°至1260℃范围;
6、在已素烧过的平面陶瓷体上喷涂由68斤的氧化铅,30.5斤氧化硅,1.5斤的石灰岩和32斤的水所组成中低热度釉;喷涂厚度为0.07cm;
7、将已喷涂釉的瓷体置于窑中煅烧,其烧制温度控制在1100°-1200℃范围;
8、量取0.8份的氧化铅,0.08份氧化钾,0.01份氧化钠,2份氧化硅,0.03份氧化铝,6份酸化锡,和1.2份的日本双鹤牌艳黑色料混均调配以适量的水组成基础釉,并采用它在已煅烧过的带釉的瓷体上彩绘出黑白的大面积平面山水画,所需要其它颜色,可以依同样方法调配。
9、将已彩绘的大面积瓷体置入窑中烧成成品,烧成的温度控制在780°-900℃范围。
当然,本发明还可以有其它的实施方案,烧制出各种形状的彩绘陶瓷。
权利要求
1.一种大面积彩画陶瓷的制造工艺,其特征在于采用下列步骤a.将已混合现成的,生产中的普通瓷土用滚动球磨机进行细磨达到280目,并凉干形成生料;b.将生料在1100°-1180℃温度下煅烧,然后由粗碎机粉碎达到30至50目,再以料与球子比为6∶1置入滚动球磨机中细磨至200目,形成熟料;c.在按比例的生、熟料中添加入其总量为8-12%的稀释蜜糖水,并在密封容器中搅拌成微湿粉料;d.在室温为22-26℃和湿度为70-80度的条件下将微湿粉料重压成瓷坯,并置入湿度为50度以下的室内自然凉干;e.将已干燥的瓷坯置于窑中烧制,烧结温度为1160°-1260℃;f.将烧制过的陶瓷施以中低热度釉,然后再置入窑中烧制,烧结温度为1100°-1200℃;g.采用由基础釉调配的各种色料,在烧制后带釉的陶瓷体上彩绘出各种中外美术图案,如油画等,并置入的窑中烧制成特种大面积彩绘陶瓷,烧结温度为780-900℃。
2.按照权利要求1所述的工艺,其特征在于所说的按比例的生熟料,是指按不同陶瓷坯体面积而形成的生熟料重量比有75-85%比15-25%;65-75%比25-35%和生熟料各相等三种。
3.按照权利要求2所说的工艺,其特征在于所说的面积是指0.5至1.5平方米,1.5至3平方米和3平方米以上等三种。
4.按照权利要求1所说的工艺,其特征在于所说的重压是指其压力为10-30吨/平方厘米。
5.按照权利要求1所说的工艺,其特征在于所说的中低热度釉是指其成分和重量配比为氧化铅60-75%,矽石为24-35%和石灰石为1-5%及其总重量32%的蜜糖水。
6.按照权利要求1所说的工艺,其特征在于所说的基础釉是指第一种,由0.8-0.9份的氧化铝,0.07-0.09份的氧化钾,0.01-0.03份的氧化钠,1.5-2.2份的氧化硅组成;第二种,由0.8-0.9份的氧化铅,0.07-0.09份的氧化钾,0.01-0.03份的氧化钠,0.03-0.05份的氧化铝,1.5-2.2份的氧化硅和5.5-7份的酸化锡组成;第三种由0.03-0.05份的氧化钾,0.1份的氧化钠,0.09-0.11份的氧化锂,0.45-0.58份的氧化钙,0.15-0.2份的氧化钡,0.03-0.06份的氧化铝和1.5-2.2份的氧化硅组成。
全文摘要
本发明属于一种超大面积特种彩绘陶瓷的制造工艺。其特征在于所采用的步骤为按比例称取规定细度的生熟料、添加蜜糖水后搅拌成微湿粉料,经重压成瓷坯、涂釉、素烧、着色,再烧制成彩绘陶瓷作品。本发明可以烧制超大面积和各种形状瓷坯彩绘中外画系陶瓷,并具有不变形,表面平滑,不变色和强度大等特点,因此可以作艺术珍品长期保存观赏。
文档编号C04B33/34GK1085199SQ9311978
公开日1994年4月13日 申请日期1993年11月10日 优先权日1993年11月10日
发明者李爱好 申请人:李爱好
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1