一种具有自洁功能的国画用画架的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种画架，具体讲是涉及一种具有自洁功能的国画用画架，其属于绘画工具【技术领域】，其包括：支撑架，固定于支撑架上部的画板垫板、设置于画板垫板外围的边框、设置于支撑架下部的放置架，设置于画板垫板的上部和下部的画夹；它结构简单，其可以调节高度，同时在画板底板上设有吸水层和自洁层，防止直接固定在画板底板上作画时，墨水浸渍画板，污染画板，并且设有自洁层，其具有很高的亲水性，及时墨水浸渍画板，容易清洗；在画板底板中设有加热元件，其可以使画板垫板处于合适的温度，加快画纸上墨汁的晾干速度。
【专利说明】—种具有自洁功能的国画用画架
[0001]
【技术领域】
[0002]本发明涉及一种画架，具体讲是涉及一种具有自洁功能的国画用画架，其属于绘画工具【技术领域】。
【背景技术】
[0003]画架是绘画时用来放置画板的架子，人们绘制写生国画时大多是在室外，直接面对对象进行描绘，所以画板需要使用画架固定，这样可以专心绘画。目前绘画使用的画架其功能单一，仅具有支撑的作用。在室外绘画环境比较复杂，目前的画架无法满足室外绘画的需求。
【发明内容】
[0004]鉴于现有技术存在的问题，本发明的目的是要提供一种结构简单、使用方便的具有自洁功能的国画用画架。
[0005]为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案为一种具有自洁功能的国画用画架，其包括:支撑架，固定于支撑架上部的画板垫板、设置于画板垫板外围的边框、设置于支撑架下部的放置架，设置于画板垫板的上部和下部的画夹；其特征在于:支撑架上部设有遮挡板，支撑架与遮挡板通过旋转轴连接，遮挡板以旋转轴为轴，做旋转运动；所述画板垫板与画板接触面设有吸水层和自洁层，自洁层与画板垫板相接触，吸水层位于自洁层表层，所述画板底板采用具有中空腔结构，中空腔内设有加热元件和活性炭块，所述加热元件与活性炭块均匀分布。
[0006]所述自洁层由纳米级二氧化钛和纳米级二氧化硅混合溶液喷涂而成。
[0007]本发明的优点在于:它结构简单，其可以调节高度，同时在画板底板上设有吸水层和自洁层，防止直接固定在画板底板上作画时，墨水浸溃画板，污染画板，并且设有自洁层，其具有很高的亲水性，及时墨水浸溃画板，容易清洗；在画板底板中设有加热元件，其可以使画板垫板处于合适的温度，加快画纸上墨汁的晾干速度。
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1为本发明的结构示意图；
图2为画板垫板的剖视图；
图中:1、支撑架，2、画板垫板，3、边框，4、放置架，5、遮挡板，6、画夹，7、旋转轴，8、自洁层，9、吸水层，10、加热元件，11、活性炭块。
【具体实施方式】
[0009]一种具有自洁功能的国画用画架，其包括:支撑架，固定于支撑架上部的画板垫板、设置于画板垫板外围的边框、设置于支撑架下部的放置架，设置于画板垫板的上部和下部的画夹；其特征在于:支撑架上部设有遮挡板，支撑架与遮挡板通过旋转轴连接，遮挡板以旋转轴为轴，做旋转运动；所述画板垫板与画板接触面设有吸水层和自洁层，自洁层与画板垫板相接触，吸水层位于自洁层表层，所述画板底板采用具有中空腔结构，中空腔内设有加热元件和活性炭块，所述加热元件与活性炭块均匀分布。
【权利要求】
1.一种具有自洁功能的国画用画架，其包括:支撑架，固定于支撑架上部的画板垫板、设置于画板垫板外围的边框、设置于支撑架下部的放置架，设置于画板垫板的上部和下部的画夹；其特征在于:支撑架上部设有遮挡板，支撑架与遮挡板通过旋转轴连接，遮挡板以旋转轴为轴，做旋转运动；所述画板垫板与画板接触面设有吸水层和自洁层，自洁层与画板垫板相接触，吸水层位于自洁层表层，所述画板底板采用具有中空腔结构，中空腔内设有加热元件和活性炭块，所述加热元件与活性炭块均匀分布。
2.根据权利要求1所述的一种具有自洁功能的国画用画架，其特征在于:所述自洁层由纳米级二氧化钛和纳米级二氧化硅混合溶液喷涂而成。
【文档编号】A47B97/04GK103637574SQ201310600386
【公开日】2014年3月19日 申请日期:2013年11月25日 优先权日:2013年11月25日
【发明者】陈洋 申请人:大连创达技术交易市场有限公司