一种洗浴装置的制作方法

本发明涉及一种生活用具，具体的说是一种洗浴装置。

背景技术：

洗浴，俗称洗澡，是能清除汗垢油污、消除疲劳、舒筋活血、改善睡眠、提高皮肤新陈代谢功能和抗病力。目前传统的洗浴方式洗澡分淋浴和盆浴以及缸浴，其中，淋浴是最卫生的一种洗浴方式，但传统的淋浴方式比较死板，在洗浴时，人只能自身调节来适应喷头固定喷水，进而使得人不能得到良好的洗浴享受。

技术实现要素：

现为了满足现代人对舒适方便洗浴的需求，本发明提出了一种洗浴装置。

本发明所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现：

一种洗浴装置，包括底板以及固装在底板上的吊架，所述吊架上安装有一号电机，所述一号电机连接有转杆架，所述转杆架上开有90度圆心角所对应的弧形槽，转杆架的下端以铰接方式安装有液压缸。

所述弧形槽内部滑动安装有t形的上杆架，上杆架前端与液压缸铰接相连，上杆架下端连接有转轴，所述转轴上分别通过键连接方式、轴承连接方式对应安装有绳轮、壳体架；所述壳体架呈半球体，壳体架中心固装有与转轴相连的二号电机，壳体架上沿环形方向均布有弧形的轨迹槽，每个轨迹槽内均滑动安装有水喷头，每个水喷头上均栓剂有绳带，每个绳带上端均以固定并环绕的方式安装在绳轮上。

所述复合槽自上而下依次由呈水平的横槽、90度圆心角所对应的弧槽、呈竖直状的竖槽。

所述底板上设有环形的遮挡架，所述遮挡架前端设有门，遮挡架的内圆弧面上开有一圈环槽，所述转杆架的下部滑动安装在环槽内。

本发明的有益效果是：

本发明使用方便，不仅可以通过控制多个水喷头滑动，达到控制喷水集散程度的作用和提高洗浴时人的皮肤舒适度的效果，而且还能够在空间上自动改变调节壳体架的位置，因而能够方便洗浴，节省人力。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1为本发明的主视图；

图2为图1的i处局部放大图；

图3为图1的a-a剖视图；

图4为本发明的俯视图。

具体实施方式

为了使本领域的技术人员更好的理解本发明的技术方案，下面将结合实施例中的附图，对本发明进行更清楚、更完整的阐述，当然所描述的实施例只是本发明的一部分而非全部，基于本实施例，本领域技术人员在不付出创造性劳动性的前提下所获得的其他的实施例，均在本发明的保护范围内。

如图1至图4所示，一种洗浴装置，包括底板1以及固装在底板1上的吊架2，所述吊架2上安装有一号电机3，所述一号电机3连接有转杆架4，所述转杆架4上开有90度圆心角所对应的弧形槽4a，转杆架4的下端以铰接方式安装有液压缸5。

所述弧形槽4a内部滑动安装有t形的上杆架6，上杆架6前端与液压缸5铰接相连，上杆架6下端连接有转轴7，所述转轴7上分别通过键连接方式、轴承连接方式对应安装有绳轮8、壳体架9；所述壳体架9呈半球体，壳体架9中心固装有与转轴7相连的二号电机10，壳体架9上沿环形方向均布有弧形的轨迹槽9a，每个轨迹槽9a内均滑动安装有水喷头11，每个水喷头11上均栓剂有绳带12，每个绳带12上端均以固定并环绕的方式安装在绳轮8上。

所述复合槽4a自上而下依次由呈水平的横槽4a1、90度圆心角所对应的弧槽4a2、呈竖直状的竖槽4a3。

所述底板1上设有环形的遮挡架13，所述遮挡架13前端设有门13a，遮挡架13的内圆弧面上开有一圈环槽13b，所述转杆架4的下部滑动安装在环槽13b内。

在具体使用时，需要将每个水喷头11外接水管。在洗浴时，只需人从门13a进入至遮挡架13内并站立在壳体架9的下方，即可开始洗浴，在洗浴时，可通过二号电机10带动转轴7以及绳轮8旋转，继而能够带动所有的水喷头11均在对应的轨迹槽9a滑动，使得水喷头11的喷水角度发生改变，继而能够使得喷出的水集散效果不同，继而在洗浴时，能够良好地适应人的皮肤舒适度。

另一方面，为了让洗浴变成更方便，可通过液压缸5将上杆架6在复合槽4a内拉动至不同的位置，并通过一号电机3带动转杆架4以及壳体架9进行旋转至特定的位置，即可实现自动调整以方便对人体上的不同位置进行喷水洗浴的效果。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

技术特征：

技术总结
本发明涉及一种洗浴装置，包括底板以及固装在底板上的吊架，所述吊架上安装有一号电机，所述一号电机连接有转杆架，所述转杆架上开有90度圆心角所对应的弧形槽，转杆架的下端以铰接方式安装有液压缸。本发明使用方便，不仅可以通过控制多个水喷头滑动，达到控制喷水集散程度的作用和提高洗浴时人的皮肤舒适度的效果，而且还能够在空间上自动改变调节壳体架的位置，因而能够方便洗浴，节省人力。

技术研发人员：丁玉清
受保护的技术使用者：丁玉清
技术研发日：2017.08.04
技术公布日：2017.11.24