1.一种烹饪容器，其包括容器基体，其特征在于，所述容器基体的至少内表面的烹饪区域附着熔射层，所述熔射层为合金组合物，所述合金组合物以质量％计包含≤0.08％的碳、15％～27％铬、12％～37％镍、1.5％～8％钼、0.05％～3％铜、≤7％的锰、≤2.5％的硅、≤0.05％的磷、≤0.05％的硫、≤0.6％的氮，余量为铁和不可避免的杂质。
2.根据权利要求1所述的烹饪容器，所述合金组合物以质量％计包含0.0001％～0.06％的碳、18％～25％铬、16％～30％镍、3％～7％钼、0.3％～2.5％的铜、0.0001％～5％的锰、0.0001％～2％的硅、0.0001％～0.045％的磷、0.0001％～0.04％的硫和0.0001％～0.45％的氮，余量为铁和不可避免的杂质。
3.根据权利要求2所述的烹饪容器，所述合金组合物以质量％计包含0.001％～0.03％的碳、19％～24％铬、18％～28％镍、4％～7％钼、0.6％～2％的铜、0.001％～4％的锰、0.001％～1％的硅、0.001％～0.045％的磷、0.001％～0.035％的硫和0.01％～0.2％的氮，余量为铁和不可避免的杂质。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的烹饪容器，其特征在于，所述容器基体的内表面形成与所述熔射层相结合的贴附面，所述熔射层的表面为烹饪面；或
所述容器基体的内表面形成与所述熔射层相结合的贴附面，所述熔射层的表面附着至少一层不粘层，所述不粘层的表面为烹饪面。
5.根据权利要求4所述的烹饪容器，其特征在于，所述熔射层的表面为烹饪面，所述贴附面的表面粗糙度ra1为1.3μm～15μm；所述烹饪面的表面粗糙度ra2为2.5μm～40μm；
优选地，所述熔射层的表面为烹饪面，所述贴附面的表面粗糙度ra1为3μm～12μm；所述烹饪面的表面粗糙度ra2为4μm～20μm。
6.根据权利要求4所述的烹饪容器，其特征在于，所述不粘层的表面为烹饪面；
所述贴附面的表面粗糙度ra1为1.3μm～15μm；所述熔射层的表面粗糙度ra2为2.5μm～40μm；所述烹饪面的表面粗糙度ra3为20μm～70μm；
优选的，所述熔射层的表面为烹饪面，所述贴附面的表面粗糙度ra1为3μm～12μm；所述熔射层的表面粗糙度ra2为4μm～35μm；所述烹饪面的表面粗糙度ra3为40μm～60μm。
7.根据权利要求5所述的烹饪容器，其特征在于，所述容器基体为铁基材质、铝基材质或铜基材质；和/或
所述不粘层的材质选自聚四氟乙烯。
8.一种权利要求1-7中任一项所述的烹饪容器的制造方法，其特征在于，其包括：
将形成所述容器基体的容器基材成型；
对所述容器基体内表面进行喷砂粗化；
提供所述合金组合物的熔射原料；
将熔射原料熔射至容器基体内表面形成熔射层，即制得所述烹饪容器。
9.根据权利要求8所述的烹饪容器的制造方法，其特征在于，所述熔射层的熔射使用的熔射原料为奥氏体结构材质，所述熔射的喷涂距离为100mm～200mm，喷射压力为0.3mpa～0.9mpa。
10.根据权利要求9所述的烹饪容器的制造方法，其特征在于，还包括在所述熔射层的表面形成不粘层，具体包括：
提供不粘层原料；
在所述熔射层的内表面冷喷形成所述不粘层。