高压旋喷桩垂直度控制装置的制作方法

文档序号:11400930阅读:2625来源:国知局
高压旋喷桩垂直度控制装置的制造方法

本实用新型涉及垂直度技术领域,具体涉及到一种高压旋喷桩垂直度控制装置。



背景技术:

随着国家基础设施的大量建设,高速公路、铁路、水利、房建等工程中为了避免地下水的影响,同时保护周边建筑及设施的安全,高压旋喷桩作为地基具有加固深度深、强度高、止水防渗性好等优点,在基础设施建设工程中得到广泛应用。高压旋喷桩是以高压旋喷的喷嘴将水泥喷入土层与土体混合,通过钻杆钻至设计深度,边提升边喷浆形成的桩体。施工过程中,由于操作不当或机械振动、移位,易造成钻杆偏斜,影响成桩质量;孔口常有大量返浆冒出地面,不仅浪费材料,还污染了环境。

目前,高压旋喷桩的垂直度控制主要采用挂线锤的方式,选择一合适位置,平稳吊挂线锤,并用肉眼观察进行垂直度检测,这种方法用肉眼造成的偏差较大、操作麻烦影响施工进度,以致于桩身垂直度无法得到保证,需要对此方法进行改进。



技术实现要素:

针对上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种高压旋喷桩垂直度控制装置,该装置可以让操作工人边操作边调整机械各方向的垂直度,操作简单、效率高,确保高压旋喷桩的成桩质量;而且可实时监测垂直度、结构也简单。

为实现上述目的,本实用新型所采取的技术方案是:

一种高压旋喷桩垂直度控制装置,其特征在于:它包括一块竖直放置的固定板,所述固定板上下两端分别设有线锤和刻度盘,线锤位于刻度盘的正上方;所述线锤中心处设有激光笔;所述刻度盘上设有偏差刻度线。

所述固定板上端设有线锤支架,线锤悬挂在线锤支架上;所述线锤支架下方设有透明的防风罩,所述线锤位于防风罩内。

所述固定板下端设有刻度盘支架,刻度盘安装在刻度盘支架上。

所述线锤采用直径为0.1mm-0.5mm的细线悬挂在线锤支架上。

所述防风罩为透明塑料材质的圆柱型结构。

所述激光笔到刻度盘之间的距离为1m,所述刻度盘上根据到中心点的距离刻有1.5%、1%、0.5%、0的偏差刻度线。

所述固定板上设有用于与桩机连接的预留孔洞和卡扣,所述卡扣位于固定板上线锤的对立面。

本实用新型的有益效果是:1、利用光的传播直线型,光源投影在刻度盘上,通过投影位置来进行桩机垂直度的调整,保证了桩身垂直度,确保高压旋喷桩的成桩质量;装置可以让操作工人边操作边调整机械各方向的垂直度,操作简单、效率高,确保高压旋喷桩的成桩质量;而且可实时监测垂直度、结构也简单。2、设置防风罩,减小风力对线锤的影响,避免线锤摇摆,造成桩身垂直度控制困难。3、本实用新型制作简单,操作方便,成本低廉,组装方便,可重复使用。

附图说明

图1为本实用新型的立体示意图。

图2为本实用新型的正面示意图。

图3为图2的右视示意图。

图中:1-固定板;2-线锤;4-刻度盘;5-防风罩;6-线锤支架;7-刻度盘支架;8-预留孔洞。

具体实施方式

为了更好地理解本实用新型,下面结合实施例和附图对本实用新型的技术方案做进一步的说明(如图1-3所示)。

一种高压旋喷桩垂直度控制装置,其特征在于:它包括一块竖直放置的固定板1,所述固定板1上下两端分别设有线锤2和刻度盘4,线锤2位于刻度盘4的正上方;所述线锤2中心处设有(一个竖直方向点光源的)激光笔;所述刻度盘4上设有(圆环形的)偏差刻度线。

所述固定板1上端设有线锤支架6,线锤2悬挂在线锤支架6上;所述线锤支架6下方设有透明的防风罩5,所述线锤2位于防风罩5内。

所述固定板1下端设有刻度盘支架7,刻度盘4安装在刻度盘支架7上。

所述线锤2采用直径为0.1mm-0.5mm的细线悬挂在线锤支架6上。

所述防风罩5为透明塑料材质的圆柱型结构。

所述激光笔到刻度盘4之间的距离为1m,所述刻度盘4上根据到中心点的距离刻有1.5%、1%、0.5%、0的偏差刻度线。

所述固定板1上设有用于与桩机连接的预留孔洞8和卡扣,所述卡扣位于固定板1上线锤2的对立面。

一种高压旋喷桩垂直度控制装置使用时:将固定板1安装在高压旋喷桩机械上,线锤2的中轴线与钻杆的中轴线平行,过激光笔照射在刻度盘4上的点光源来调整高压旋喷桩的垂直度。使用前,将激光笔安装在圆柱形线锤2的内部,保证光源与线锤中轴线重合;通过垂线调整刻度盘4与激光笔的距离至1m,安装防风罩5避免风对线锤2的影响,将固定板1紧靠绝对垂直的墙面上,打开激光笔,将光源调整至刻度盘4中心点。完成后,在高压旋喷桩合适的位置通过固定板1将本装置安装在桩机上。安装完毕后即可根据光源在刻度盘4上的照射位置进行桩的垂直度调整,刻度盘4上根据距离刻有1.5%、1%、0.5%、0等不同的控制数值,根据设计的垂直度要求,光源在所示范围内及合格,范围外要及时进行调整。

以上说明仅为本实用新型的应用实施例而已,当然不能以此来限定本实用新型之权利范围,因此依本实用新型申请专利范围所作的等效变化,仍属本实用新型的保护范围。

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