一种耕地埂坎结构的制作方法

文档序号:2266593阅读:860来源:国知局
专利名称:一种耕地埂坎结构的制作方法
技术领域
本实用新型涉及农业耕地埂坎技术的改进,具体涉及一种土石结合的坡耕地埂坎结构,特别适合三峡库区坡耕地,属于耕地埂坎技术领域。
背景技术
三峡库区耕地资源十分有限,农村居民人均耕地面积0.88亩,且大部分为坡耕地,社会经济加速发展引起非农建设占用耕地增量大,导致人地矛盾更加尖锐。地埂和田坎(统称为埂坎)是地块的分界线,约占耕地面积的6% 12%,具有水土保持、行走等多重功能。“坡改梯”是三峡库区坡耕地整治和中低产田改造的重要途径,实施过程中通常采用石质埂坎,但石坎修筑成本高、机械台班或劳动力投入多,在现行社会经济条件下,不宜全部修筑石质埂坎。同时,大量石质埂坎占地多,虽方便行走,但石质埂坎无法耕种不能产生经济效益,在耕地日益紧张的三峡库区农民不易接受单一的纯石坎。此外,石坎比较适宜在石料丰富的地区修建,而在石料缺乏地区难以推广,具有一定局限性。鉴于以 上问题,在三峡库区坡耕地整治或水土流失综合治理过程中,采用了土质埂坎替代(部分)石坎,也采用了土坎或土坎与石坎间隔布置等措施。野外调查表明,土质埂坎比较适宜于坡度较小的坡耕地内,在土坎两侧种植地埂植物篱,也能提高其利用效率。但土质埂坎最大的问题是具有不稳定性,三峡库区雨量多,耕地坡度大,单一土坎容易因地表径流冲刷而被毁坏,造成严重的水土流失。因此,需要寻求新的埂坎建造方法以解决耕地埂坎利用率不高、不稳定、成本高等问题。
发明内容针对现有耕地石坎占地多、土地利用率不高和土坎不稳定、易损毁等不足,本实用新型的目的在于提供一种提高埂坎利用率、相对比较稳固、具有较好水土保持效果且农民能接受的特别适用于三峡库区坡耕地的土石结合埂坎结构。本实用新型的技术方案是这样实现的:一种耕地埂坎结构,它由上下两层构成,下层为硬料层,上层为土质层,硬料层由条石(或块石、空心砖)堆砌而成并形成自然缝隙;土质层厚度为20 30cm, 土质层顶部两侧种植植物,中间用作行走道。所述硬料层与土质层接触的上表面进行糙化处理并间隔开凿有若干凹槽,凹槽深度为3 6cm,土质层部分嵌入凹槽内。进一步地,所述硬料层壁面沿不同高度布设有若干内外壁面贯通的排水孔,排水孔断面总面积为整个壁面面积的1/30-1/40,以增强雨季排水能力,避免强降雨径流对硬料
层产生损毁。本实用新型土石结合埂坎相对于以往埂坎而言,能显著改善单一土坎不稳定、单一石坎成本高等弊病。土质层顶面中间区域用于行走,土质层两侧种植低矮草本经济植物。无疑增加了作业面积和埂坎利用率,避免了以往采用的单一石坎造成的不能种植和土地占用率高的缺陷。土质层种植植物篱还有助于固土培肥,与地埂相结合起到双重调节作用,具有明显的水土流失控制效果,同时还产生一定的经济效益。本土石结合埂坎建造工程量小,投资少(与单一石坎比,可节约1/3以上建设投资),就地取材,施工方法简单,容易修复,硬料层、土质层和其顶部的经济植物篱相结合形成系统配套的埂坎生物化体系。

图1-本实用新型结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步说明。参见图1,从图上可以看出,本实用新型在耕地原有地坎位置修建一种土石结合的上下层结构埂坎,埂坎下部为条石(或块石、空心砖)堆砌而成的硬料层2,堆砌时尽量避免使用混凝土,以免造成“石质污染”,硬料层横截面呈梯形状,其高度和上下底面宽度随地块地形和高差而定,条石(或块石、空心砖)施工后无需水泥抹面,以形成自然缝隙便于走水。在条石(或块石、空心砖)堆砌而成的硬料层上部覆土并压实形成土质层1,土质层厚度一般为20 30cm,具体依据地埂经济植物篱所种植物的适宜生长厚度而定,以确保足以提供植物生长所需的水分及养分。土质层顶部两侧种植低矮灌草经济植物3,切忌种植中高乔木,低矮灌草经济植物的根系反过来又可以固结地埂,进一步增强土石结合埂坎的稳固性。土质层中间用作行走道。为了增强硬料层与土质层的结合力,防止降雨过大时雨水对土质层冲刷造成水土流失,本实用新型对硬料层上表面5进行糙化处理以形成非光滑的粗糙面,同时在硬料层2与土质层接触的上表面开凿 一定数量的凹槽4,凹槽深度大致为3 6cm,土质层I部分嵌入凹槽4内。凹槽4形成微型水分储存器,便于保持土壤水分供给植物生长,凹槽同时也能增强硬料层与土质层之间的结合力。在硬料层2壁面沿不同高度布设有若干内外壁面贯通的排水孔6,增强雨季排水能力,避免强降雨径流对硬料层产生损毁。排水孔断面总面积为整个壁面面积的1/30-1/40,这样既实现有效排水,又不影响硬料层的稳定。最后说明的是,以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
权利要求1.一种耕地埂坎结构,其特征在于:它由上下两层构成,下层为硬料层(2),上层为土质层(1),硬料层(2)由条石、块石或者空心砖堆砌而成并形成自然缝隙;土质层(I)厚度为20 30cm,土质层(I)顶部两侧种植植物(3),中间用作行走道。
2.根据权利要求1所述的耕地埂坎结构,其特征在于:所述硬料层(2)与土质层接触的上表面进行糙化处理并间隔开凿有若干凹槽(4),凹槽(4)深度为3 6cm,土质层(I)部分嵌入凹槽(4)内。
3.根据权利要求1所述的耕地埂坎结构,其特征在于:所述硬料层(2)壁面沿不同高度布设有若干内外壁面贯通的 排水孔(6),排水孔断面总面积为整个壁面面积的1/30-1/40。
专利摘要本实用新型公开了一种耕地埂坎结构,它由上下两层构成,下层为硬料层,上层为土质层,硬料层由条石(或块石、空心砖)堆砌而成并形成自然缝隙;土质层顶部两侧种植低矮灌草经济植物,中间用作行走道。硬料层与土质层接触的上表面进行糙化处理并间隔开凿有若干凹槽,土质层部分嵌入凹槽内。硬料层壁面沿不同高度布设有若干排水孔。本实用新型工程量小,投资少,施工简单,容易修复,能显著改善单一土坎不稳定、单一石坎成本高等弊病。土质层种植植物篱还有助于固土培肥,与地埂相结合起到双重调节作用,具有明显的水土流失控制效果,同时还产生一定的经济效益。
文档编号E01C15/00GK203113356SQ20132007344
公开日2013年8月7日 申请日期2013年2月16日 优先权日2013年2月16日
发明者韦杰, 陈国建, 金慧芳, 侯林, 董宏伟 申请人:重庆师范大学
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