用于事后全息标记的方法以及用于事后全息标记的半成品和设备的制造方法

文档序号:9220870阅读:501来源:国知局
用于事后全息标记的方法以及用于事后全息标记的半成品和设备的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种用于事后全息标识用于安全文件的复合体的方法以及所述可以 随后标识的复合体,以及一种用于实施标识的相应设备。
【背景技术】
[0002] 由现有技术已知,制造具有构造为复合体的文件体的安全文件。现代的安全文件 例如制造为层压复合体,其中多个衬底层相互层压成复合体。多个衬底层例如可以是塑料 层、尤其PVC、聚碳酸酯或者类似的热塑性塑料层或者也包括纸层等等。在这种复合体中可 以集成多个安全文件和安全特征。
[0003] 称作安全特征的是以下特征:所述特征通过其他特征防止、妨碍特征或对象的未 经授权的仿制、复制、伪造或仿造或者使之不能实现,安全特征构造在所述对象中。称作安 全文件的是安全特征的具体构造。根据所述定义,每一个安全文件也是安全元素。
[0004] 由现有技术已知多种安全特征和安全元素,它们包括例如纸中的水印、特定的印 刷方法、特定的印刷油墨的应用、电子电路的集成、全息和衍射结构的压印或引入。一种类 型的安全特征因此涉及集成到复合体中的全息图。一组全息图包括构造为所谓的薄的全息 图并且其在安全文件中的结构深度位于以下光的波长的数量级中的全息图:借助所述光可 以复现全息图结构(Hologrammstruktur)。首先,所谓的压印全息图和表面全息图属于所述 全息图,其中全息图结构存储在复合体的表面浮雕中。所述结构可以事后集成到其他完成 的复合体中或者完成的安全文件中。然而,所述结构仅仅可以非常困难地用于个人标识,因 为引入通常通过压印冲头(Piigestempel)实现。曝光和随后的显影(其中构造表面结 构)是非常耗费的并且不适于大规模制造。此外,与布置在内部的全息图相比在损坏方面 更差地保护表面全息图。此外通常普遍的是,例如也镜像所述压印全息图或者设置有保护 涂覆层。因此,在压印之后需要另外的加工步骤。也可能的是,将全息图以补丁(Patches) 的形式引入到具有相应制造的全息图的安全文件中。
[0005] 与此相反,好得多地保护免受操作并且更简单地设置有个人标识的是曝光到感光 层中的全息图。通常,所述全息图构造为所谓的体积全息图(Volumenhologramme)。所述体 积全息图具有高的角度选择性和波长选择性,所述体积全息图例如能够实现借助白光的好 的可复现性。所述体积全息图的制造通常通过使用例如以胶片形式的记录材料来实现,所 述胶片适于存储干涉结构,所述干涉结构的有特征的尺寸位于用于全息图的记录或者复现 的光的光波长的范围中。对于大规模制造而言,所谓的接触式复印方法证实为适合的,其中 全息胶片设置在母版(Master)前方,其中构造应当传输到全息胶片中的衍射结构和/或光 偏转结构。因此在所述方法中,将母版的衍射结构拷贝到全息胶片中。因为要拷贝的或者 要产生的干涉结构在用于制造并且复现的光的光波长范围中具有典型的尺寸、即通常具有 数百纳米范围中的结构大小,所以需要使胶片在曝光期间处于静止并且例如不振动。因此 已经证实为有利的是,将胶片与母版接触地布置在所述母版前方,所述母版布置或者构造 在刚性载体、例如玻璃板、金属板等等上。为了拷贝例如体积反射全息图结构,相干的光通 过布置在母版前方附近并且尤其如所描述的那样与母版接触布置的胶片辐射到母版上。母 版中的衍射结构或者反射结构如此衍射或者反射光,使得经衍射或者经反射的光反射回全 息胶片中。在那里,经衍射或者经反射的光与用于曝光母版的相干光进行干涉。因此,在全 息胶片中构造干涉结构,所述干涉结构通过在母版上衍射的光来确定。所显影的胶片的全 息复现与在曝光母版时观察的全息复现相同。因此,在全息胶片中存储全息图,所述全息图 也称作Denisyuk全息图并且是体积反射全息图。理解为,入射光必须具有一个适合的波长 (或者多个适合的波长)和一个适合的入射方向(或者多个适合的入射方向),从而在母版 的衍射结构上以期望的方式实现衍射。
[0006] 母版的示例性制造以及接触式复印方法自身例如在EP 0 896 260 A2中描述。在 那里所描述的作为衍射结构的实施方式中,母版包括磨砂玻璃(Mattscheibe)的体积反射 全息图。如果在接触式复印方法期间空间调制用于曝光的相干光,则由此可以将包含在空 间调制中的信息、例如面像(Gesichtsbild)存储到所曝光的全息图中。根据空间调制,磨 砂玻璃的一个区域在曝光时复现并且因此曝光或者不曝光到构造在全息胶片中的全息图 中。通过如此实施的空间强度调制可以如此曝光全息图结构,使得不同的地点具有不同的 衍射效率。因此,能够以在复现时得到的不同亮度级(灰度级)存储面像信息。
[0007] 由现有技术已知不同的空间光调制器。为此,例如可以使用所谓的数字微镜设备 (DMD),所述数字微镜设备包括受控制的微镜。同样可能的是,极化相干光并且使用液晶单 元来控制地调制光。液晶单元具有穿透的光与开关状态相关地不同变化的特性。因此,通 过连接在后方的极化滤波器或者极化相关的镜或者分束器可以根据液晶单元的开关状态 来影响光传播。如果例如在LCD显示器中使用多个液晶单元,则可以同时在其空间延展中 不同地空间调制已扩展的光束。
[0008] 所谓的娃上液晶调制器(LcoS-Modulatoren)证实为除DMD调制器以外特别适合 的,其中液晶单元布置在硅层前方,所述硅层将穿过液晶单元的光通过所述液晶单元反射 回。根据开关状态,再次不同地影响光在各个单元中的极化状态。因此,在极化方面空间调 制反射的光。如果所述光引导通过极化相关的分束器或者极化滤波器,则输出的光束也在 其强度方面调制。具有预定的极化状态的光份额可以经过分束器或者极化滤波器,与此相 反具有与预定的极化状态正交的极化状态的光份额被吸收或者偏转。
[0009] 尤其当已经个性化全息图时,将如此曝光到胶片中的全息图输送给复合体制造。 如果在复合体制造中除可能个人化的全息图胶片以外使用已经个人化的半成品,则需要各 个半成品的准确协调和分配。如果在半成品的一个中出现制造误差,则这通常也导致所分 配的全息图中的次品,因为由于技术原因在生产中通常不能实现已曝光的全息图从胶片带 的单独移除。因此,例如错误印刷的衬底层通常导致必须重复整个文件的制造,包括全息图 的重新制造,在所述衬底层中印有个人的个性化信息,所述个性化信息与同一人的所个性 化的全息图相关联。然而,即使仅仅所述全息图个人化并且与没有个人化的其他半成品结 合成复合体并且仅仅在应用全息图之后才在复合体上或者复合体中实施文件坯件的标识 和个人化,也得到相同的问题,只要在所述随后标识步骤和/或个人化步骤中出现误差。
[0010] 由DE 25 58 056 A1已知一种用于通过借助对象射束和参考射束在感光的记录材 料上记录承载信息的对象的全息图来制造辨识载体的方法,其中感光的记录材料在全息曝 光之前固定地且持久地与承载信息的对象复合成辨识载体,并且将由对象反射的对象射束 引导到记录材料上并且在所述记录材料上借助参考射束干涉成要记录的信息的全息图。
[0011] 由公开文献DE 28 53 893还已知一种用于制造辨识卡的方法,所述辨识卡由多 个层构造,其中设置有一个或多个光图像并且设置有数据块的模型电子摄像地在记录载体 上成像、显影并且传输到作为卡芯的层材料上,使得逐行完成的卡芯放置在中间存储器中 并且从那里传送给层压机,在所述层压机中其以由聚合材料构成的下方和上方的透明保护 薄膜层压成辨识卡坯件。
[0012] 在文献DE 10 2007 052 952 A1中描述了用于制造作为安全特征的全息图的方法 和设备以及一种全息图和具有这种全息图的安全文件。此外,描述了用于验证全息图或者 具有这种全息图的安全文件的方法和设备。提出一种具有水印状结构的全息图,所述全息 图使在复现入射角下入射的光在复现时以复现出射角反射和/或衍射,其中全息图包括至 少两个区域,它们将入射的光从围绕所述复现入射角的不同大的角范围反射到围绕所述复 现出射角的相应的不同大的角范围中。
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