专利名称：抗强洗与煮沸膜系的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种抗强洗与煮沸膜系，主要应用于光学薄膜加工。
背景技术：
光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。主要应用在光在传播路径过程中，附著在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层，通过分层介质膜层时的反射、折射和偏振等特性，以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或是光的偏振分离等各特殊形态的光。目前，光学膜系加工的产品，经3次以上的洗净或是5分钟的煮沸膜就会脱落，此现象严重影响品质；旧膜系结构为H4与Al2O3组成的层状膜系，其中Al2O3为两性氧化物，易与碱发生化学反应，而洗剂的PH值约12，故用此结构加工的产品经过多次洗净时，Al2O3层易被洗剂腐蚀从而出现脱膜。同时Al2O3膜相对较松软，其抗煮沸与热冲击能力较弱，特别是高温时更易出现边缘掉膜。
发明内容鉴于现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种与传统结构、材质不同的抗强洗与煮沸膜系。为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是一种抗强洗与煮沸膜系，包括从上而下依次设置的七层膜，所述第一层、第三层、第五层和第七层为MgF2薄膜层，所述第二层、第四层和第六层为H4镀膜层。进一步的，所述第一层厚度为16. 25nm,所述第二层厚度为35. 43nm,所述第三层厚度为21. 34nm,所述第四层厚度为76. 9nm,所述第五层厚度为8nm,所述第六层厚度为47. 76nm,所述第七层厚度为95. 44nm。进一步的，所述七层膜通过热处理复合为一体。本实用新型具有以下优点采用多层MgF2薄膜层和多层H4镀膜层复合一体结构，能够在保证反射率的情况下提高其抗强洗性能和抗煮沸性能，其中MgF2为氟化物，化学性稳定，受酸碱的影响小，稳定性极强，特别是温度在280度以上时，它与H4的结合层致密坚硬，抗擦拭与煮沸能力明显比Al2O3提升2倍以上。
图1为本实用新型实施例的构造示意图。图中，1-第一层，2-第二层，3-第三层，4-第四层，5-第五层，6-第六层，7-第七层。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型做进一步的阐述。[0012]传统旧膜系结构如表I所示。表I
权利要求1.一种抗强洗与煮沸膜系，包括从上而下依次设置的七层膜，其特征是，所述第一层、 第三层、第五层和第七层为MgF2薄膜层，所述第二层、第四层和第六层为H4镀膜层。
2.根据权利要求1所述的抗强洗与煮沸膜系，其特征是，所述第一层厚度为16.25nm, 所述第二层厚度为35.43nm，所述第三层厚度为21. 34nm，所述第四层厚度为76. 9nm，所述第五层厚度为8nm,所述第六层厚度为47.76nm,所述第七层厚度为95. 44nm。
3.根据权利要求1所述的抗强洗与煮沸膜系，其特征是，所述七层膜通过热处理复合为一体。
专利摘要本实用新型涉及一种抗强洗与煮沸膜系，包括从上而下依次设置的七层膜，所述第一层、第三层、第五层和第七层为MgF2薄膜层，所述第二层、第四层和第六层为H4镀膜层。本实用新型采用多层MgF2薄膜层和多层H4镀膜层复合一体结构，能够在保证反射率的情况下提高其抗强洗性能和抗煮沸性能，其中MgF2为氟化物，化学性稳定，受酸碱的影响小，稳定性极强，特别是温度在280度以上时，它与H4的结合层致密坚硬，抗擦拭与煮沸能力明显比Al2O3提升2倍以上。
文档编号B32B9/04GK202878786SQ20122056837
公开日2013年4月17日 申请日期2012年11月1日 优先权日2012年11月1日
发明者田儒平, 雷洪涛, 易灯良, 李成 申请人:福建福光光电科技有限公司