等离子显示面板的定位标记形成方法

文档序号:2611985阅读:283来源:国知局
专利名称:等离子显示面板的定位标记形成方法
一、技术区域本发明涉及到等离子显示面板,尤其涉及以少数的蚀刻形成等离子显示面板的定位标记(Align Mark)的形成方法。
背景技术
一般情况下,等离子显示面板是前板和后板之间形成的间隔构成一个单位的单元,然后,将各个单元内的氖(Ne),氦(He)或氖和氦的混合体(Ne+He)作为周期性放电的气体,并加入少量氙的惰性气体氙(Xe)等惰性气体。当高频率电压放电时,惰性气体产生真空紫外线(Vacuum Ultraviolet rays),从而使在隔壁间荧光体发光,显示画面了。这样的等离子显示面板可以实现轻薄的结构,作为新一代标志性装置引人注目。


图1是一般等离子显示面板的结构图。图1所示,等离子显示面板由前基板100和后基板110成一定距离平行排列结合而成。前面基板100上排列着成对安装在前面玻璃101上扫描电极102和维持电极103的多个维持电极对,后面基板110上排列着与前基板100的排列的多个维持电极对交叉的多个寻址电极113。前面基板100的一个放电单元中相互放电维持单元发光的扫描电极102及维持电极103,即透明的ITO物质制成的透明电极a和有金属电极制成的总线电极b构成的扫描电极102和维持电极103成对而成。扫描电极102及维持电极103限制放电电流,而且上面覆盖着一层以上的绝缘层104保持电极时间的绝缘,在上部绝缘层104上面为了满足放电条件上面有加有氧化镁(MgO)的保护层。
后面基板110排列着多个放电空间,即为了形成放电单元保持平行排列的条纹型(或井型)间壁112。执行寻址放电功能,产生真空紫外线的多个寻址电极113平行排列在间壁112上。后面基板110的上侧面涂抹有放射寻址放电时显示画面的可视光的R,G,B荧光体114。寻址电极113和荧光体114之间有保护寻址电极113的下部电介质层115。
这样的等离子显示面板上为了形成透明电极,玻璃基板上涂抹感光物质,例如ITO膜,通过印刷形成透明电极。实施例可以参照图2。
图2是一般的情况下,为了使用感光膜(photo mask)印刷形成透明电极,执行暴光(Exposure)工程的示意图。
图2所示,为了形成透明电极,使用所设定的photo mask210执行暴光(Exposure)工程,形成图案。
为此,首先,所设定的感光膜202,例如ITO为了在上部基板200上形成图案,将暴光(Exposure)装置220散发的光选择性的透射或切断到形成图案的212 photo mask210上,印刷出所愿的图案。
这样,为了所需要的图案,基板200和photo mask210必须排列正确。而且,基板200形成图案的感光膜202是透明,无法肉眼确认。因此为了确认是否和基板200正确定位,需要形成所定的Align Mark(无图释)。
上述的Align Mark示意图如图3a至图3b。
图3a至图3b是利用现有的Align Mark排列基板和ITO墨的示意图。
如图3a所示,基板200上全面涂抹所定的ITO(无图释)膜。这时,ITO膜上印刷的图案,例如R,G,B时,如图3a,R,G,B在基板上的位置必须正确。但是,因ITO膜透明,肉眼无法确认R,G,B在的位置是否正确。因此,也可能将印刷的R,G,B倒贴在基板(200)上。
随之,这样一来,基板200形成的图案210会扭曲,结果会造成严重减少等离子显示面板的特性。
为了解决这样的问题,目前是通过在基板200的ITO膜未形成图案的非印刷区域220上标志所设定位置的Align Mark确认ITO膜的位置是否正确。
目前为了形成上述的Align Mark的方法之一,只留下形成Align Mark的部分,其余的非印刷区域220进行蚀刻。具体内容如图4b。
图4b所示,形成十字形状的Align Mark时,非印刷区域移动一定的距离,调整激光去除ITO膜。
之后,在形成Align Mark的位置上形成十字形状的阳刻,将a,b,c,d,e,f,g,h及i区域阶段性地调整激光去除ITO膜来形成阳刻的Align Mark.但是,利用这样的方法形成Align Mark的话,Align Mark蚀刻作业复杂,而且按照一定的距离多次移动,需要时间。
并且,多次移动造成的误差累积而Align Mark位置不能够准确,存在严重减少等离子显示面板特性的问题。
而且,在需要变更Align Mark形状时,阳刻形成的Align Mark不容易修改。

发明内容
本发明的目的是通过蚀刻,提供一种形成阴刻定位标记(Align Mark)的等离子显示面板的Align Mark形成方法。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的一种等离子显示面板的定位标记形成方法,其特征在于在涂抹感光膜的基板的非印刷区域上,形成一个以上的阴刻定位标记。
本发明中,所述定位标记形成在所述非印刷区域的角落部分。
并且,所述定位标记蚀刻后,将非印刷区域的感光膜去除。
本发明通过蚀刻形成阴刻的Align Mark,可以简化Align Mark的蚀刻作业;而且,可以减少蚀刻时的移动次数,减少Align Mark的形成时间及误差,正确形成Align Mark,提高等离子显示面板的特性;并且,本发明具有Align Mark形状变更方面的效果。
四、说明书附1是一般等离子显示面板的结构图;图2是表示一般使用photo mask印刷透明电极暴光过程的实例图;图3a至图3b是说明Align Mark的图;图4a至图4b表示形成Align Mark的实例的图;图5是依据本发明的Align Mark形成位置的实施例子图;图6是本发明形成等离子显示面板Align Mark方法的示意图;图7a及图7b是依据本发明的Align Mark的另外一种实施方式的示意图;图8是说明本发明所述等离子显示面板Align Mark形成方法的另一个例子。
具体实施例方式
以下,对于本发明参照附图进行详细说明。
图5表示Align Mark形成的位置。
如图5所示,依据本发明的Align Mark形成在涂抹感光膜的基板500的非印刷区域510上。在此,感光膜由氧化铟膜ITO、Indium Tin Oxide组成为佳。
这时,非印刷区域,例如符号B,C,D,E等区域上形成一个以上的阴刻Align Mark。
依据本发明,在非印刷区域510形成Align Mark的具体方法如图6。
图6是依据本发明的等离子显示面板Align Mark形成方法的示意图。
如图6所示,依据本发明的等离子显示面板的Align Mark形成方法是,在非印刷区域形成至少一个以上的阴刻Align Mark。例如,在符号B的区域上形成阴刻的Align Mark。
在此,以形成十字形状Align Mark阴刻为例,在符号B的区域上蚀刻十字形状的感光膜去除。这时,Align Mark(b)用激光蚀刻为佳。
作为例子,参照图5再详细分析,在基板500上部涂抹的感光膜上形成印刷的印刷区域510和未形成印刷的非印刷区域520上,上述的非印刷区域(520)中,部分进行激光蚀刻形成十字形状的Align Mark。
这样形成的Align Mark是无法用激光蚀刻,因此,比未蚀刻的其他非印刷区域520的感光膜,形成的阴刻深一点。
在此,只对于Align Mark在符号B区域上形成的情况进行说明,但不局限与这样的情况。上述的Align Mark在非印刷区域520的任何部分都可以形成若干个,例如2个,3个,4个等。只是,这样的Align Mark是为了正确得知基板500上的感光膜上形成的印刷的位置,因此在形成时就考虑这一点。并且,Align Mark在非印刷区域510的角落部分形成比较好。
并且,即使上述的Align Mark形状说明为十字型,但并不局限于十字型,形成其他形状也可以,具体事例参照图7。
图7a及图7b是依据本发明的Align Mark的另外一种实施方式的示意图。
首先,如图7a所示,本发明的Align Mark可以形成为圆形。并且,如图7b所示,Align Mark也可形成为矩形。
这样的Align Mark的阴刻比非印刷区域的520感光膜深一点。
而且,这样的Align Mark形成在玻璃上面也比较好。
另外,阴刻Align Mark形成后,可以去除非印刷区域的感光膜,具体如图8。
图8是本发明所述等离子显示面板Align Mark形成方法的另外一个例子。
如图8所示,首先形成阴刻的Align Mark。这样形成Align Mark的方法与图6相同,因此不再进行说明。
之后,将非印刷区域的感光膜进行蚀刻工艺,例如激光调整去除。这时,阴刻Align Mark(d)周边的感光膜最好不被去除。
这样,对非印刷区域的感光膜进行蚀刻,形成阴刻的Align Mark,可简化Align Mark的作业程序。
并且,蚀刻时,可减少移动次数,减少Align Mark形成时间及误差累积,准确地形成Align Mark,提供等离子显示面板的优良特性。
而且,变更Align Mark形状时,也非常容易。
权利要求
1.一种等离子显示面板的定位标记形成方法,其特征在于在涂抹感光膜的基板的非印刷区域上,形成一个以上的阴刻定位标记。
2.根据权利要求1所述的等离子显示面板的定位标记形成方法,其特征在于所述定位标记形成在所述非印刷区域的角落部分。
3.根据权利要求1所述的等离子显示面板的定位标记形成方法,其特征在于所述定位标记蚀刻后,将非印刷区域的感光膜去除。
全文摘要
本发明公开了一种等离子显示面板的定位标记形成方法,在涂抹感光膜的基板的非印刷区域上,形成至少一个以上的阴刻定位标记。定位标记形成在所述非印刷区域的角落部分。并且,定位标记蚀刻后,将非印刷区域的感光膜去除。本发明通过所定蚀刻形成阴刻的Align Mark,可简化Align Mark蚀刻作业;而且减少蚀刻时的移动次数,能够减少Align Mark形成时间及误差的累积,准确地形成Align Mark,有效提高等离子显示面板的特性;而且Align Mark形状的变化更加容易。
文档编号G09F9/313GK1949311SQ20061007491
公开日2007年4月18日 申请日期2006年4月4日 优先权日2006年4月4日
发明者张盛皓 申请人:乐金电子(南京)等离子有限公司
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