光学补偿结构的制作方法

本发明涉及一种光学结构领域，特别涉及一种光学补偿结构。

背景技术：

随着电子技术的高度发展，电子产品不断推陈出新。电子产品为了可应用于不同领域，可弯曲、轻薄以及外型不受限的特性逐渐受到重视。也就是说，电子产品逐渐被要求需要依据不同的应用方式以及应用环境而有不同的外型。

一般来说，会将电子产品中的基板(也称衬底，substrate)、涂层及/或黏着层加以图案化，以使电子产品具有柔韧性、可弯曲性或可折叠性。然而，图案化后的基板、涂层及/或黏着层在使用上可能会产生的光学视差，进而导致电子产品的视觉效果不佳。因此，如何降低图案化的基板、涂层及/或黏着层所产生的光学视差，以提升视觉效果是相当重要的课题。

技术实现要素：

本发明实施例提供一种光学补偿结构，其可以改善光学视差问题。

具体地说，本发明公开了一种光学补偿结构，其中包括：

基板；

阻挡层，位于所述基板上，其中所述阻挡层具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；以及

第一涂层，覆盖于部分的所述第二折射区上。

所述光学补偿结构，其中所述第一涂层与部分所述阻挡层接触。

所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，其中所述第一涂层位于所述第二涂层与所述阻挡层之间。

所述光学补偿结构，其中所述第二涂层与所述第一涂层接触。

所述光学补偿结构，其中还包括第三涂层，覆盖于所述阻挡层的部分所述第二折射区上，其中所述第一涂层与所述第三涂层位于所述第二涂层的相对侧，且所述第三涂层与所述第一涂层不重叠。

所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，所述第二涂层与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述阻挡层接触。

所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，所述弹性层与所述第一涂层接触，且所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量。

所述光学补偿结构，其中所述弹性层还与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述阻挡层接触。

所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，所述第二涂层与所述弹性层接触。

所述光学补偿结构，其中还包括第二涂层，所述第二涂层位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，且所述第二涂层与所述阻挡层接触。

所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量，且所述第一涂层与部分的所述第二涂层接触，所述弹性层与未被所述第一涂层覆盖的其余部分的所述第二涂层接触。

所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，所述第一涂层的杨氏模量大于所述弹性层的杨氏模量，且所述弹性层位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，所述第一涂层与所述弹性层接触。

所述光学补偿结构，其中所述阻挡层具有相对的第一面及第二面，所述第二折射区自所述第一面向内延伸，且所述第二面及部分的所述第一面位于所述第一折射区。

所述光学补偿结构，其中所述阻挡层还具有嵌于所述第一折射区内的第三折射区，所述第三折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率，且所述第三折射区与所述第二折射区重叠。

所述光学补偿结构，其中所述基板具有彼此相连的第一区与第二区，所述第一区的可弯曲度大于所述第二区的可弯曲度，且对应于所述第一区设置的部分所述第一涂层具有多个彼此分离的条状结构或岛状结构。

所述光学补偿结构，其中还包括电子元件层，位于所述阻挡层与所述基板之间。

本发明还提出了一种光学补偿结构，其中包括：

基板；

阻挡层，位于所述基板上，其中所述阻挡层具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；

第一涂层，具有第一涂层部分及与所述第一涂层部分相连接的第二涂层部分，其中所述第一涂层部分覆盖于所述第二折射区以外的区域上，所述第二涂层部分覆盖于所述第二折射区上，且所述第一涂层部分的厚度大于所述第二涂层部分的厚度；以及

第二涂层，位于所述第一涂层与所述阻挡层之间，且所述第二涂层与所述阻挡层接触。

所述光学补偿结构，其中所述第二涂层具有第三涂层部分及与所述第三涂层部分相连接的第四涂层部分，其中所述第三涂层部分覆盖于所述第二折射区以外的区域上，所述第四涂层部分覆盖于所述第二折射区上，且所述第三涂层部分的厚度小于所述第四涂层部分的厚度。

所述光学补偿结构，其中还包括弹性层，其中所述弹性层覆盖于所述第二折射区上。

本发明还提出了一种光学补偿结构，其中包括：

基板；

阻挡层，具有第一折射区及与所述第一折射区相连接的第二折射区，所述第二折射区的折射率大于所述第一折射区的折射率；

第一黏着层，位于所述阻挡层与所述基板之间，其中所述第二折射区对应于所述第一黏着层分布；以及

第二黏着层，位于所述阻挡层与所述基板之间，且所述第一黏着层与所述第二黏着层不重叠。

基于上述，本发明实施例可以对图案化后的基板、涂层及/或黏着层提供光学补偿，以改善光学视差问题。

附图说明

图1为依照本发明第一实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图2为依照本发明第二实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图3为依照本发明第三实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图4为依照本发明第四实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图5为依照本发明第五实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图6为依照本发明第六实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图7为依照本发明第七实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图8为依照本发明第八实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图9为依照本发明第九实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图10为依照本发明第十实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图11为依照本发明第十一实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图12为依照本发明第十二实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图13为依照本发明第十三实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图14为依照本发明第十四实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图15为依照本发明第十五实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图16为依照本发明第十六实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图17为依照本发明第十七实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图18为依照本发明第十八实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图19为依照本发明第十九实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图20为依照本发明第二十实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图21为依照本发明第二十一实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图22为依照本发明第二十二实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图23为依照本发明第二十三实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图24为依照本发明第二十四实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图25为依照本发明第二十五实施例的光学补偿结构的剖面示意图；

图26为依照本发明第二十六实施例的光学补偿结构的剖面示意图。

符号说明：

110、2010：基板；2220：第一基板；

2221：第一基板部分；2222：第二基板部分；

2230、2330：第二基板；2331：第三基板部分；

2332：第四基板部分；2230a：基板开口；

t1：第一基板厚度；t2：第二基板厚度；

t3：第三基板厚度；t4：第四基板厚度；

112：电子元件层；n1：第一折射区；

n2：第二折射区；n2a：第一折射部分；

n2b：第二折射部分；n3：第三折射区；

150、250、1150、1850：第一涂层；251、1851：第一涂层部分；

252、1852：第二涂层部分；150a：涂层开口；

361、661、961、1861：第三涂层部分；h1：第一涂层厚度；

362、662、962、1862：第四涂层部分；h2：第二涂层厚度；

h3：第三涂层厚度；h4：第四涂层厚度；

1155：第三涂层；1071：第一弹性部分；

1072：第二弹性部分；s1：第一面；

s2：第二面；s3：第三面；

s4：第四面；2080：第一黏着层；

2085：第二黏着层；r1：第一区；

140、240、2040、2140、2240、2440：阻挡层；r2：第二区；

870、1070、1470、1570、1670、1970：弹性层；

360、460、560、660、760、960、1060、1160、1260、1360、1760、1860、1960：第二涂层；

100、200、300、400、500、600、700、800、900、1000、1100、1200、1300、1400、1500、1600、1700、1800、1900、2000、2100、2200、2300、2400、2500、2600：光学补偿结构。

具体实施方式

图1是依照本发明第一实施例的光学补偿结构的剖面示意图。请参照图1，本实施例的光学补偿结构100包括基板110、阻挡层(barrierlayer)140以及第一涂层150。阻挡层140位于基板110上。阻挡层140具有彼此相连的第一折射区n1及第二折射区n2。第二折射区n2的折射率大于第一折射区n1的折射率。第一涂层150对应于阻挡层140的第二折射区n2设置，且第一涂层150覆盖于阻挡层140的第二折射区n2上。

在本实施例中，光学补偿结构100还可包括电子元件层112。电子元件层112位于阻挡层140与基板110之间。电子元件层112可以包括显示元件、触控元件、传感器、微机电元件或上述的组合，但本发明不限于此。

在本实施例中，基板110例如是柔性基板。因此，基板110具有可折叠或弯曲的性质。基板110的材质例如包括聚亚酰胺(polyimide；pi)、聚碳酸酯(polycarbonate；pc)、聚酰胺(polyamide；pa)、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethyleneterephthalate；pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate；pen)、聚乙烯亚胺(polyethylenimine；pei)、聚氨酯(polyurethane；pu)、聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane；pdms)、压克力系(acrylate)例如是聚甲基丙烯酸甲酯(polymethylmethacrylate；pmma)等、醚系(ether)聚合物例如是聚醚砜(polyethersulfone；pes)或聚醚醚酮(polyetheretherketone；peek)等、聚烯(polyolefin)或其他柔性材料，但本发明并不限于此。

阻挡层140具有相对的第一面s1及第二面s2，阻挡层140覆盖于电子元件层112上，且阻挡层140的第二面s2与电子元件层112接触。一般而言，阻挡层140可阻隔氧气及/或水气的渗透，以防止空气中的氧气及/或水气损坏位于阻挡层140下的电子元件层112及/或其他的膜层。举例而言，可以使用具有硅化合物的溶液，利用涂布法(coating)施于基板110上，以形成具有光穿透性及柔性的阻挡层140。而前述的硅化合物成份例如是聚硅氮烷化合物(polysilazane)、聚有机硅氧烷化合物(polyorganosiloxane)、聚硅烷化合物(polysilane)、聚碳硅烷化合物(polycarbosilane)或上述的组合，但本发明不限于此。在一些实施例中，阻挡层140的厚度介于1奈米(nanometer；nm)至1微米(micrometer；μm)，但本发明不限于此。

阻挡层140的材质在通过进一步的化学或物理处理后会改变其光学性质及/或组成成分。一般而言，可通过图案化的屏蔽，以对阻挡层140的部分第一面s1进行表面处理工艺(surfacetreatmentprocess)，以于阻挡层140的第一面s1上形成折射率彼此不同的第一折射区n1与第二折射区n2。举例而言，可以将聚硅氮烷化合物形成阻挡层140，并使用氧气、氮气、氦气、氩气、氖气及/或氪气作为载气(carriergas)，对阻挡层140的部分第一面s1进行电浆处理(plasmatreatmentprocess)以形成第二折射区n2，而阻挡层140中未通过电浆离子布植工艺处理的部分为第一折射区n1。相较于未通过电浆离子布植工艺处理的第一折射区n1，通过电浆离子布植工艺处理后所形成的第二折射区n2其具有较大比例的氮原子浓度(nitrogen-rich)，且第二折射区n2的折射率大于第一折射区n1的折射率。一般而言，可以通过调整电浆离子布植工艺的布植时间、载气种类、载气流量、载气压力及/或电压脉冲等不同的工艺参数(recipe)，来调整第二折射区n2的折射率或其深度。

在一些实施例中，第一折射区n1的折射率介于1.4至1.95，且第二折射区n2的折射率与第一折射区n1的折射率之间的差异至少大于0.01，但本发明不限于此。

在本实施例中，第二折射区n2自第一面s1向内延伸，且第二面s2及部分的第一面s1位于第一折射区n1，但本发明不限于此。在其他实施例中，可以通过多次的涂布法及/或表面处理工艺，以使第二折射区n2嵌于第一折射区n1内。

在本实施例中，第一涂层150与位于阻挡层140的第二折射区n2的部分第一面s1接触，但本发明并不限于此。一般而言，第一涂层150例如是将涂布后的胶材，透过光固化或热固化的方式，所形成的硬涂层，但本发明不限于此。胶材的材质例如是压克力树脂(acrylic)或环氧树脂(expoxy)，但本发明并不限于此。在一些实施例中，第一涂层150的硬度例如高于1h的铅笔硬度，以避免位于第一涂层150之下的电子元件层112及/或其他膜层的磨损或撞击。在一些实施例中，第一涂层150的厚度介于1微米至30微米，但本发明不限于此。

在本实施例中，第一涂层150可以为具有涂层开口150a的图案化膜层，且涂层开口150a可以为具有直线状、折线状或曲线状的沟渠或狭缝，以使光学补偿结构100的基板110及阻挡层140可以通过对应的涂层开口150a变形而被拉伸、压缩或弯曲。换言之，光学补偿结构100的基板110具有彼此相连的第二区r2与第一区r1，涂层开口150a对应于第一区r1。相较于第二区r2，第一区r1可以为可弯曲度较大的柔性区。也就是说，第一区r1的可弯曲度大于第二区r2的可弯曲度。基板110的第一区r1所具备的可弯曲性质允许位于第一区r1周围的第二区r2的水平及/或垂直间距为可变动的。举例而言，第一区r1可以在光学补偿结构100受到外力时对应地被延展或压缩，以使光学补偿结构100具有对应的形变状态。在图1的光学补偿结构100中，仅示例性的绘示一个涂层开口150a，但本发明对于涂层开口150a的数量并不加以限制。

在本实施例中，阻挡层140的第二折射区n2设置于基板110的第二区r2上，且对应于第二折射区n2设置的第一涂层150位于第二区r2，但本发明不限于此。

在本实施例中，第一涂层150的折射率大于阻挡层140的第一折射区n1的折射率，且第一涂层150的折射率小于阻挡层140的第二折射区n2的折射率。如此一来，可以通过具有第一折射区n1及第二折射区n2的阻挡层140，来降低图案化的第一涂层150所产生的光学视差问题。

图2是依照本发明第二实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第二实施例的光学补偿结构200与图1的光学补偿结构100类似，本实施例采用图2针对光学补偿结构200进行描述。值得注意的是，在图2中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图1中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图2，第二实施例的光学补偿结构200与图1的光学补偿结构100类似，两者的差异在于：阻挡层240的第二折射区n2具有彼此分离的第一折射部分n2a以及第二折射部分n2b，其中第一折射部分n2a设置于基板110的第二区r2上，且第二折射部分n2b设置于基板110的第一区r1上。第一涂层250具有彼此分离的第一涂层部分251以及第二涂层部分252。第一涂层部分251对应第一折射部分n2a设置，且第一涂层部分251设置于基板110的第二区r2上。第二涂层部分252对应第二折射部分n2b设置，且第二涂层部分252设置于基板110的第一区r1上。举例而言，设置于第一区r1的第二涂层部分252可以为多个彼此分离的条状结构或岛状结构。如此一来，第一区r1可以在光学补偿结构200受到外力时对应地被延展或压缩，以使光学补偿结构200具有对应的形变状态。

在本实施例中，阻挡层240的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例的阻挡层140的材质及/或形成方式，第一涂层250的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例的第一涂层150的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

图3是依照本发明第三实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第三实施例的光学补偿结构300与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图3针对光学补偿结构300进行描述。值得注意的是，在图3中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图2中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图3，第三实施例的光学补偿结构300与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构300还可包括第二涂层360，其中第一涂层250位于第二涂层360与阻挡层240之间，且第二涂层360与第一涂层250接触。第二涂层360具有彼此分离的第三涂层部分361以及第四涂层部分362。第三涂层部分361对应第一涂层部分251设置，且第三涂层部分361设置于基板110的第二区r2上。第四涂层部分362对应第二涂层部分252设置，且第四涂层部分362设置于基板110的第一区r1上。举例而言，设置于第一区r1的第四涂层部分362可以为多个彼此分离的条状结构或岛状结构。如此一来，第一区r1可以在光学补偿结构300受到外力时对应地被延展或压缩，以使光学补偿结构300具有对应的形变状态。简言之，在本实施例中，第二涂层360对应于第一涂层250设置，但本发明不限于此。

在本实施例中，第二涂层360的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层250的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层360及第一涂层250之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层360及第一涂层250之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图4是依照本发明第四实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第四实施例的光学补偿结构400与图1的光学补偿结构100类似，本实施例采用图4针对光学补偿结构400进行描述。值得注意的是，在图4中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图1中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图4，第四实施例的光学补偿结构400与图1的光学补偿结构100类似，两者的差异在于：光学补偿结构400还可包括第二涂层460，其中第一涂层150位于第二涂层460与阻挡层140之间，且第二涂层460与第一涂层150以及未被第一涂层150覆盖的阻挡层140接触。在本实施例中，第二涂层460的硬度大于阻挡层140的硬度，以避免未被第一涂层150覆盖的阻挡层140及/或其他膜层的磨损或撞击。

在本实施例中，可以对第一涂层150进行蚀刻、研磨或其他类似的圆角化工艺(cornerroundingprocess)，以使第一涂层150与第二涂层460的接触面具有弧角，但本发明不限于此。

在本实施例中，覆盖于第一涂层150上且与第一涂层150相接触的第二涂层460可以与第一涂层150共形设置(conformalcoating)。如此一来，于第二涂层460远离于第一涂层150的表面上也可以具有对应于第一涂层150的弧角，但本发明不限于此。

在本实施例中，第二涂层460的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层150的材质及/或形成方式，且可以通过调整第二涂层460及第一涂层150之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层460的厚度小于第一涂层150的厚度或是第二涂层460的硬度小于第一涂层150的硬度。如此一来，具有第二涂层460的第一区r1可以在光学补偿结构400受到外力时对应地被延展或压缩，以使光学补偿结构400具有对应的形变状态。

图5是依照本发明第五实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第五实施例的光学补偿结构500与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图5针对光学补偿结构500进行描述。值得注意的是，在图5中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图2中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图5，第五实施例的光学补偿结构500与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构500还可包括第二涂层560，其中第一涂层250位于第二涂层560与阻挡层240之间，且第二涂层560与第一涂层250以及未被第一涂层250覆盖的阻挡层240接触。在本实施例中，第二涂层560的硬度大于阻挡层240的硬度，以避免未被第一涂层250覆盖的阻挡层240及/或其他膜层的磨损或撞击。

在本实施例中，可以对第一涂层250进行蚀刻、研磨或其他类似的圆角化工艺，以使第一涂层250与第二涂层560的接触面具有弧角，但本发明不限于此。

在本实施例中，覆盖于第一涂层250上且与第一涂层250相接触的第二涂层560可以与第一涂层250共形设置。如此一来，于第二涂层560远离于第一涂层250的表面上也可以具有对应于第一涂层250的弧角，但本发明不限于此。

在本实施例中，第二涂层560的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层250的材质及/或形成方式，且可以通过调整第二涂层560及第一涂层250之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层560的厚度小于第一涂层250的厚度或是第二涂层560的硬度小于第一涂层250的硬度。如此一来，具有第二涂层560的第一区r1可以在光学补偿结构500受到外力时对应地被延展或压缩，以使光学补偿结构500具有对应的形变状态。

图6是依照本发明第六实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第六实施例的光学补偿结构600与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图6针对光学补偿结构600进行描述。值得注意的是，在图6中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图5中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图6，第六实施例的光学补偿结构600与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构600还可包括第二涂层660，其中部分的第一涂层250位于第二涂层660与阻挡层240之间。第二涂层660具有彼此分离的第三涂层部分661以及第四涂层部分662。第三涂层部分661对应第一涂层部分251设置，且第三涂层部分661设置于基板110的第二区r2上。第四涂层部分662位于彼此分离的第二涂层部分252之间，且第四涂层部分662设置于基板110的第一区r1上。举例而言，设置于第一区r1的第四涂层部分662可以为多个彼此分离的条状结构或岛状结构，且分离的条状结构或岛状结构之间具有第一涂层250的第二涂层部分252。于基板110的第二区r2中，第一涂层250的第一涂层部分251位于第二涂层660的第三涂层部分661与阻挡层240之间。于基板110的第一区r1中，第一涂层250的第二涂层部分252与阻挡层240接触，且第二涂层660的第四涂层部分662与阻挡层240接触。

在本实施例中，第二涂层660的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层250的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层660及第一涂层250之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层660及第一涂层250之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图7是依照本发明第七实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第七实施例的光学补偿结构700与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图7针对光学补偿结构700进行描述。值得注意的是，在图7中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图2中说明过的构件于此不再赘述。

参照图7，第七实施例的光学补偿结构700与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构700还可包括第二涂层760。第二涂层760设置于基板110的第一区r1上。于基板110的第一区r1中，第一涂层250的第二涂层部分252与阻挡层240接触，且第二涂层760与阻挡层240接触。举例而言，设置于第一区r1的第二涂层760可以为多个彼此分离的条状结构或岛状结构，且分离的条状结构或岛状结构之间具有第一涂层250的第二涂层部分252。

在本实施例中，第二涂层760的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层250的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层760及第一涂层250之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层760及第一涂层250之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图8是依照本发明第八实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第八实施例的光学补偿结构800与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图8针对光学补偿结构800进行描述。值得注意的是，在图8中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图2中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图8，第八实施例的光学补偿结构800与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构800还可包括弹性层870，其中第一涂层250位于弹性层870与阻挡层240之间，且弹性层870与第一涂层250以及未被第一涂层250覆盖的阻挡层240接触。第一涂层250的杨氏模量(又称杨氏系数，young'smodulus)大于弹性层870的杨氏模量。

一般而言，弹性层870可以在光学补偿结构800受到外力时对应地被延展或压缩，以使光学补偿结构800具有对应的形变状态。另外，弹性层870可辅助将延展或压缩时的应力分散而使基板110或其上的结构不易损坏。在上述的外力消失之后，可以使光学补偿结构800回复到未受到外力时的初始状态。

举例而言，弹性层870的材质例如是具链状结构的碳氢聚合物(polymer)材料，例如橡胶系列胶材、压克力系列胶材或硅树脂系列胶材，其中橡胶系列胶材包括天然橡胶与合成橡胶，压克力系列胶材包括标准压克力与改良压克力。弹性层870的形成方法例如是涂布法、黏合法、溶胶凝胶法(sol-gelmethod)或压合法。举例而言，弹性材料形成于第一涂层250上后，可以依据弹性材料的性质进行光聚合(photopolymerization)或烘烤(baking)工艺，使弹性材料固化而形成弹性层870。在本实施例中，第一涂层250的杨氏模量与弹性层870的杨氏模量的比值大于或等于2。在一实施例中，第一涂层250的杨氏模量与弹性层870的杨氏模量的比值大于或等于10。或者，在一实施例中，第一涂层250的杨氏模量与弹性层870的杨氏模量的比值大于或等于50。也就是说，相较于第一涂层250来说，弹性层870受力后的可塑性变形程度较大。

在本实施例中，弹性层870具有远离于基板110的第三面s3，且第三面s3可以为平坦面，以使后续形成的其他膜层及/或元件可以被形成于平坦的第三面s3上，但本发明不限于此。

图9是依照本发明第九实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第九实施例的光学补偿结构900与图8的光学补偿结构800类似，本实施例采用图9针对光学补偿结构900进行描述。值得注意的是，在图9中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图8中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图9，第九实施例的光学补偿结构900与图8的光学补偿结构800类似，两者的差异在于：光学补偿结构900还可包括第二涂层960，其中弹性层870位于第二涂层960与第一涂层250之间，且第二涂层960与弹性层870接触。第二涂层960具有彼此分离的第三涂层部分961以及第四涂层部分962。第三涂层部分961对应第一涂层部分251设置，且第三涂层部分961设置于基板110的第二区r2上。第四涂层部分962对应第二涂层部分252设置，且第四涂层部分962设置于基板110的第一区r1上。举例而言，设置于第一区r1的第四涂层部分962可以为多个彼此分离的条状结构或岛状结构。如此一来，第一区r1可以在光学补偿结构900受到外力时对应地被延展或压缩，以使光学补偿结构900具有对应的形变状态。简言之，在本实施例中，第二涂层960对应于第一涂层250设置，但本发明不限于此。

在本实施例中，第二涂层960的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层250的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层960及第一涂层250之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层960及第一涂层250之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图10是依照本发明第十实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十实施例的光学补偿结构1000与图8的光学补偿结构800类似，本实施例采用图10针对光学补偿结构1000进行描述。值得注意的是，在图10中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图8中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图10，第十实施例的光学补偿结构1000与图8的光学补偿结构800类似，两者的差异在于：弹性层1070对应于第一涂层250设置，且光学补偿结构1000还可包括第二涂层1060，其中弹性层1070位于第一涂层250与第二涂层1060之间。

弹性层1070具有彼此分离的第一弹性部分1071以及第二弹性部分1072。第一弹性部分1071对应第一涂层部分251设置，且第一弹性部分1071设置于基板110的第二区r2上。第二弹性部分1072对应第二涂层部分252设置，且第二弹性部分1072设置于基板110的第一区r1上。

第二涂层1060与弹性层1070接触，且第二涂层1060与未被第一涂层250覆盖的阻挡层240接触。在本实施例中，第二涂层1060具有远离于基板110的第四面s4，且第四面s4可以为平坦面，以使后续形成的其他膜层及/或元件可以被形成于平坦的第四面s4上，但本发明不限于此。

图11是依照本发明第十一实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十一实施例的光学补偿结构1100与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图11针对光学补偿结构1100进行描述。值得注意的是，在图11中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图2中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图11，第十一实施例的光学补偿结构1100与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构1100还可包括第二涂层1160以及第三涂层1155。第一涂层1150位于阻挡层240与第二涂层1160之间。第二涂层1160位于第一涂层1150与第三涂层1155之间。第一涂层1150对应第一折射部分n2a设置，且第一涂层1150设置于基板110的第二区r2上。第三涂层1155对应第二折射部分n2b设置，且第三涂层1155设置于基板110的第一区r1上。

第二涂层1160与第一涂层1150接触，且第二涂层1160与未被第一涂层1150覆盖的阻挡层240接触。在本实施例中，第二涂层1160具有远离于基板110的第四面s4，且第四面s4可以为平坦面，以使后续形成的第三涂层1155、其他膜层及/或元件可以被形成于平坦的第四面s4上，但本发明不限于此。

第三涂层1155位于第二涂层1160的第四面s4上而与第二涂层1160接触，且第一涂层1150与第三涂层1155不重叠。在本实施例中，设置于第一区r1的第三涂层1155可以为多个彼此分离的条状结构或岛状结构，但本发明不限于此。

在本实施例中，第一涂层1150、第二涂层1160及/或第三涂层1155的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的第一涂层(如：第二实施例中的第一涂层250)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第一涂层1150、第二涂层1160及/或第三涂层1155之间的材质组成及/或形成方式，以使第一涂层1150、第二涂层1160及/或第三涂层1155之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图12是依照本发明第十二实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十二实施例的光学补偿结构1200与图1的光学补偿结构100类似，本实施例采用图12针对光学补偿结构1200进行描述。值得注意的是，在图12中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图1中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图12，第十二实施例的光学补偿结构1200与图1的光学补偿结构100类似，两者的差异在于：光学补偿结构1200还可包括第二涂层1260，其中第二涂层1260位于第一涂层150与阻挡层140之间。第二涂层1260设置于基板110的第一区r1以及第二区r2上，且第二涂层1260的相对两侧分别与阻挡层140以及第一涂层150接触。

在本实施例中，第二涂层1260的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层150的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层1260及第一涂层150之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层1260及第一涂层150之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图13是依照本发明第十三实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十三实施例的光学补偿结构1300与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图13针对光学补偿结构1300进行描述。值得注意的是，在图13中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图2中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图13，第十三实施例的光学补偿结构1300与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构1300还可包括第二涂层1360，其中第二涂层1360位于第一涂层250与阻挡层240之间。第二涂层1360设置于基板110的第一区r1以及第二区r2上，且第二涂层1360的相对两侧分别与阻挡层240以及第一涂层250接触。

在本实施例中，第二涂层1360的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层250的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层1360及第一涂层250之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层1360及第一涂层250之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图14是依照本发明第十四实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十四实施例的光学补偿结构1400与图13的光学补偿结构1300类似，本实施例采用图14针对光学补偿结构1400进行描述。值得注意的是，在图14中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图13中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图14，第十四实施例的光学补偿结构1400与图13的光学补偿结构1300类似，两者的差异在于：光学补偿结构1400还可包括弹性层1470，其中弹性层1470位于第一涂层250与第二涂层1360之间，且设置于第一区r1的弹性层1470更位于第二涂层部分252所具有的彼此分离的条状结构或岛状结构之间。第一涂层250的杨氏模量大于弹性层1470的杨氏模量，且第二涂层1360的杨氏模量大于弹性层1470的杨氏模量。

在本实施例中，弹性层1470的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的弹性层(如：第八实施例中的弹性层870)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

图15是依照本发明第十五实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十五实施例的光学补偿结构1500与图13的光学补偿结构1300类似，本实施例采用图15针对光学补偿结构1500进行描述。值得注意的是，在图15中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图13中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图15，第十五实施例的光学补偿结构1500与图13的光学补偿结构1300类似，两者的差异在于：光学补偿结构1500还可包括弹性层1570，其中弹性层1570设置于第一区r1，且弹性层1570位于第二涂层部分252所具有的彼此分离的条状结构或岛状结构之间。第一涂层250的杨氏模量大于弹性层1570的杨氏模量，且第二涂层1360的杨氏模量大于弹性层1570的杨氏模量。

在本实施例中，弹性层1570的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的弹性层(如：第八实施例中的弹性层870)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

图16是依照本发明第十六实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十六实施例的光学补偿结构1600与图2的光学补偿结构200类似，本实施例采用图16针对光学补偿结构1600进行描述。值得注意的是，在图16中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图2中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图16，第十六实施例的光学补偿结构1600与图2的光学补偿结构200类似，两者的差异在于：光学补偿结构1600还可包括弹性层1670，其中弹性层1670位于第一涂层250与阻挡层240之间，且弹性层1670的相对两侧分别与阻挡层240以及第一涂层250接触。除此之外，设置于第一区r1的弹性层1670更位于第二涂层部分252所具有的彼此分离的条状结构或岛状结构之间。

在本实施例中，弹性层1670的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的弹性层(如：第八实施例中的弹性层870)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

图17是依照本发明第十七实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十七实施例的光学补偿结构1700与图16的光学补偿结构1600类似，本实施例采用图17针对光学补偿结构1700进行描述。值得注意的是，在图17中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图16中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图17，第十七实施例的光学补偿结构1700与图16的光学补偿结构1600类似，两者的差异在于：光学补偿结构1700还可包括第二涂层1760，其中第一涂层250位于弹性层1670与第二涂层1760之间。第二涂层1760位于第一涂层250上，且第二涂层1760与第一涂层250以及设置于第一区r1的弹性层1670接触。

在本实施例中，第二涂层1760的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层250的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层1760及第一涂层250之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层1760及第一涂层250之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

图18是依照本发明第十八实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十八实施例的光学补偿结构1800与图1的光学补偿结构100类似，本实施例采用图18针对光学补偿结构1800进行描述。值得注意的是，在图18中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图1中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图18，第十八实施例的光学补偿结构1800与图1的光学补偿结构100类似，两者的差异在于：第一涂层1850具有第一涂层部分1851及与第一涂层部分1851相连接的第二涂层部分1852，其中第一涂层部分1851覆盖于阻挡层140的第二折射区n2以外的区域上，第二涂层部分1852覆盖于阻挡层140的第二折射区n2上。第一涂层部分1851具有第一涂层厚度h1，第二涂层部分1852具有第二涂层厚度h2，且第一涂层厚度h1大于第二涂层厚度h2。第二涂层1860位于第一涂层1850与阻挡层140之间，且第二涂层1860的相对两侧分别与阻挡层140以及第一涂层1850接触。

在本实施例中，第二涂层1860具有第三涂层部分1861及与第三涂层部分1861相连接的第四涂层部分1862，其中第三涂层部分1861覆盖于阻挡层140的第二折射区n2以外的区域上，第四涂层部分1862覆盖于阻挡层140的第二折射区n2上，但本发明不限于此。第三涂层部分1861具有第三涂层厚度h3，第四涂层部分1862具有第四涂层厚度h4，且第三涂层厚度h3小于第四涂层厚度h4。

在本实施例中，第一涂层1850的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的第一涂层(如：第一实施例中的第一涂层150)的材质及/或形成方式。第二涂层1860的材质及/或形成方式可以类似于第一涂层1850的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。除此之外，可以通过调整第二涂层1860及第一涂层1850之间的材质组成及/或形成方式，以使第二涂层1860及第一涂层1850之间具有不同的硬度、折射率及/或厚度。

举例而言，可以通过多次的涂布以及光固化/热固化的方式，以形成厚度不一致的第一涂层1850及/或第二涂层1860，于本发明不限于此。

图19是依照本发明第十九实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第十九实施例的光学补偿结构1900与图18的光学补偿结构1800类似，本实施例采用图19针对光学补偿结构1900进行描述。值得注意的是，在图19中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图18中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图19，第十九实施例的光学补偿结构1900与图18的光学补偿结构1800类似，两者的差异在于：光学补偿结构1900还可包括弹性层1970。弹性层1970位于第一涂层1850及第二涂层1960之间，且弹性层1970覆盖于阻挡层140的第二折射区n2上。

在本实施例中，第二涂层1960的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的第二涂层(如：第十三实施例中的第二涂层1360)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

在本实施例中，弹性层1970的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的弹性层(如：第八实施例中的弹性层870)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

在本实施例中，第二涂层1960具有远离于基板110的第四面s4，且第四面s4可以为平坦面，以使后续形成的弹性层1970、其他膜层及/或元件可以被形成于平坦的第四面s4上，但本发明不限于此。

图20是依照本发明第二十实施例的光学补偿结构的剖面示意图。请参照图20，本实施例的光学补偿结构2000包括基板2010、阻挡层2040、第一黏着层2080以及第二黏着层2085。阻挡层2040具有彼此相连的第一折射区n1及第二折射区n2。第二折射区n2的折射率大于第一折射区n1的折射率。第一黏着层2080位于阻挡层2040与基板2010之间，其中第一黏着层2080覆盖于阻挡层2040的第二折射区n2上。第二黏着层2085位于阻挡层2040与基板2010之间，且第二黏着层2085与阻挡层2040的第二折射区n2不重叠。

在本实施例中，光学补偿结构2000还可包括电子元件层112。电子元件层112位于阻挡层2040与基板2010之间。

在本实施例中，基板2010可为硬质基板或柔性基板。举例而言，前述的硬质基板的材质例如是玻璃、石英、金属或其他硬质材料，而前述的柔性基板材料可以类似于前述实施例中的基板(如：第一实施例中的基板110)的材质及/或性质，于此不加以赘述。

在本实施例中，第一黏着层2080及/或第二黏着层2085的材料可为光学胶(opticallyclearadhesive)、黏胶或固态胶带，于本发明不限于此。如此一来，阻挡层2040可以接触且被黏着于第一黏着层2080及/或第二黏着层2085上而固定。举例而言，可以将具有第一折射区n1以及第二折射区n2的阻挡层2040通过第一黏着层2080及/或第二黏着层2085贴合于基板2010上或具有电子元件层112的基板2010上。

阻挡层2040具有相对的第一面s1及第二面s2。阻挡层2040的第二折射区n2自第一面s1向内延伸，且第二面s2及部分的第一面s1位于第一折射区n1。阻挡层2040覆盖于电子元件层112上，且阻挡层2040的第一面s1与第一黏着层2080及/或第二黏着层2085接触。

在本实施例中，阻挡层2040的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的阻挡层(如：第一实施例中的阻挡层140)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

在本实施例中，第一黏着层2080及第二黏着层2085为图案化的膜层。阻挡层2040的第二折射区n2上对应于第一黏着层2080分布，阻挡层2040的第二折射区n2以外的区域对应于第二黏着层2085分布。第一黏着层2080的折射率小于第二黏着层2085的折射率。如此一来，可以通过具有第一折射区n1及第二折射区n2的阻挡层2040，来降低图案化的第一黏着层2080及第二黏着层2085所产生的光学视差问题。

图21是依照本发明第二十一实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第二十一实施例的光学补偿结构2100与图20的光学补偿结构2000类似，本实施例采用图21针对光学补偿结构2100进行描述。值得注意的是，在图21中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图20中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图21，第二十一实施例的光学补偿结构2100与图20的光学补偿结构2000类似，两者的差异在于：阻挡层2140的第二折射区n2可以为栅状、格状或网状设置。也就是说，覆盖于阻挡层2140的第二折射区n2上的第一黏着层2180也可以是具有对应于第二折射区n2的栅状、格状或网状设置。

图22是依照本发明第二十二实施例的光学补偿结构的剖面示意图。请参照图22，本实施例的光学补偿结构2200包括第一基板2220、阻挡层2240以及第二基板2230。第一基板2220具有彼此相连的第一基板部分2221及第二基板部分2222。第一基板部分2221具有第一基板厚度t1，第二基板部分2222具有第二基板厚度t2，且第一基板厚度t1大于第二基板厚度t2。阻挡层2240位于第一基板2220上。阻挡层2240具有彼此相连的第一折射区n1及第二折射区n2。第二折射区n2的折射率大于第一折射区n1的折射率。阻挡层2240的第二折射区n2对应于第一基板2220的第二基板部分2222分布。第一基板2220位于阻挡层2240与第二基板2230之间。第二基板2230的杨氏模量大于第一基板2220的杨氏模量。

在本实施例中，光学补偿结构2200还可包括电子元件层112。电子元件层112位于阻挡层2240与第一基板2220之间。

在本实施例中，第一基板2220的材质可以类似于前述实施例中的基板(如：第一实施例中的基板110)的材质，于此不加以赘述。

在本实施例中，第二基板2230可为硬质基板或柔性基板。举例而言，前述的硬质基板的材质例如是玻璃、石英、金属或其他硬质材料，而前述的柔性基板材料可以类似于第一基板2220的材质，但本发明并不限于此。

在本实施例中，第二基板2230可以为具有基板开口2230a的图案化基板，且基板开口2230a可以为具有直线状、折线状或曲线状的沟渠或狭缝，以使光学补偿结构2200可以通过对应的基板开口2230a变形而被拉伸、压缩或弯曲。位于第二基板2230的基板开口2230a例如是以蚀刻、切割或计算机数控(computernumericalcontrol；cnc)冲压的方式形成于第二基板2230上，但本发明并不限于此。

阻挡层2240具有相对的第一面s1及第二面s2。阻挡层2240的第二折射区n2自第一面s1向内延伸，且第二面s2及部分的第一面s1位于第一折射区n1。

在本实施例中，阻挡层2240覆盖于电子元件层112上，且阻挡层2240的第一面s1与电子元件层112接触，但本发明不限于此。在其他的实施例中，阻挡层2240与电子元件层112之间也可以包括其他的膜层。

在本实施例中，阻挡层2240的材质及/或形成方式可以类似于前述实施例中的阻挡层(如：第一实施例中的阻挡层140)的材质及/或形成方式，于此不加以赘述。

在本实施例中，第一基板2220及第二基板2230为图案化的基板。阻挡层2240的第二折射区n2、第一基板2220的第二基板部分2222以及第二基板2230彼此对应设置。第一基板2220的折射率大于第二基板2230的折射率。如此一来，可以通过具有第一折射区n1及第二折射区n2的阻挡层2240，来降低图案化的第一基板2220及第二基板2230所产生的光学视差问题。

图23是依照本发明第二十三实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第二十三实施例的光学补偿结构2300与图22的光学补偿结构2200类似，本实施例采用图23针对光学补偿结构2300进行描述。值得注意的是，在图23中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图22中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图23，第二十三实施例的光学补偿结构2300与图22的光学补偿结构2200类似，两者的差异在于：第二基板2330具有彼此相连的第三基板部分2331及第四基板部分2332。第三基板部分2331具有第三基板厚度t3，第四基板部分2332具有第四基板厚度t4，且第三基板厚度t3小于第四基板厚度t4。第一基板2220的第一基板部分2221与第二基板2330的第三基板部分2331重叠。第一基板2220的第二基板部分2222与第二基板2330的第四基板部分2332重叠。

图24是依照本发明第二十四实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第二十四实施例的光学补偿结构2400与图23的光学补偿结构2300类似，本实施例采用图24针对光学补偿结构2400进行描述。值得注意的是，在图24中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图23中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图24，第二十四实施例的光学补偿结构2400与图23的光学补偿结构2300类似，两者的差异在于：阻挡层2440更具有与第一折射区n1及第二折射区n2相连接的第三折射区n3。第三折射区n3自阻挡层2440的第一面s1向内延伸。第三折射区n3的折射率大于第一折射区n1的折射率。于阻挡层2440中，第三折射区n3的深度小于第二折射区n2的深度。阻挡层2440的第二折射区n2、第一基板2220的第二基板部分2222以及第二基板2330的第四基板部分2332彼此对应设置。阻挡层2440的第三折射区n3、第一基板2220的第一基板部分2221以及第二基板2330的第三基板部分2331彼此对应设置。

在本实施例中，于阻挡层2440中的第二折射区n2与第三折射区n3可以具有类似的形成方式。一般而言，可以通过调整电浆离子布植工艺的布植时间、载气种类、载气流量、载气压力及/或电压脉冲等不同的工艺参数，来调整第二折射区n2及/或第三折射区n3的折射率或其深度，以使第二折射区n2的折射率或深度可以不同于第三折射区n3的折射率或深度。

图25是依照本发明第二十五实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第二十五实施例的光学补偿结构2500与图1的光学补偿结构100类似，本实施例采用图25针对光学补偿结构2500进行描述。值得注意的是，在图25中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图1中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图25，第二十五实施例的光学补偿结构2500与图1的光学补偿结构100类似，两者的差异在于：第二折射区n2嵌于第一折射区n1内。

一般而言，可以通过多次的涂布法及/或表面处理工艺，以使第二折射区n2嵌于第一折射区n1内，但本发明不限于此。

图26是依照本发明第二十六实施例的光学补偿结构的剖面示意图。第二十六实施例的光学补偿结构2600与图1的光学补偿结构100类似，本实施例采用图26针对光学补偿结构2600进行描述。值得注意的是，在图26中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件，故针对图1中说明过的构件于此不再赘述。

请参照图26，第二十六实施例的光学补偿结构2600与图1的光学补偿结构100类似，两者的差异在于：阻挡层140更具有与第一折射区n1相连接的第三折射区n3，其中第三折射区n3的折射率大于第一折射区n1的折射率，且第三折射区n3嵌于第一折射区n1内。

在本实施例中，于阻挡层140中的第二折射区n2与第三折射区n3可以具有类似的形成方式。一般而言，可以通过调整电浆离子布植工艺的布植时间、载气种类、载气流量、载气压力及/或电压脉冲等不同的工艺参数，来调整第三折射区n3的折射率或其深度。并且，可以通过多次的涂布法及/或表面处理工艺，以使第三折射区n3嵌于第一折射区n1内，但本发明不限于此。

综上所述，本发明光学补偿结构所包括的阻挡层至少具有第一折射区及第二折射区，而可以对图案化后的基板、涂层及/或黏着层提供光学补偿，以改善光学视差问题。

虽然本发明以上述实施例公开，但具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明，任何本技术领域技术人员，在不脱离本发明的构思和范围内，可作一些的变更和完善，故本发明的权利保护范围以权利要求书为准。